【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种半导体或平板显示器制造设备，特别是一种防粉末三通阀，能够有效抑制粉末从半导体和平板显示器制造设备的排气管线到流入管及流出管以及安装在内部的旋转球周围的大面积沉积和渗透。
技术介绍
1、一般来说，半导体和平板显示器制造工艺主要由前工艺(fabrication process)和后工艺(assembly process)组成，前工艺是指在各个工艺室中将薄膜沉积在晶圆上，并反复执行选择性蚀刻沉积薄膜以加工特定图案的过程；而后工艺是指将前工艺中制造的芯片单独分离后制造半导体芯片的过程，它是指与引线框架结合并将其组装成成品的过程。
2、此时，在晶圆上沉积薄膜或蚀刻沉积在晶圆上的薄膜的过程是在高温下进行的，在工艺室中利用硅烷、砷锡和氯化硼等有害气体以及氢气等工艺气体，并在工艺过程中在工艺室内产生大量含有各种可燃气体、腐蚀性异物和有毒成分的反应副产物气体。
3、这些半导体和平板显示器生产线使用真空泵和洗涤器来进行工艺，连接真空泵和洗涤器的管线称为排气管线。为了控制该排气管线中反应副产物气体的方向并提高洗涤器的使用效率，广泛使用了图1和图2所示的三通阀。
4、上述三通阀具有流入反应副产物气体的流入管(13)和流出反应副产物气体的多个流出管(11、12)的壳体(10)，以及在该壳体(10)内部随着旋转轴(25)的旋转而旋转并控制反应副产物气体的流动的旋转球(20)。
5、但是，在产生大量粉末的排气管线中使用的三通阀的情况下，当使用一段时间时，反应副产物气体中包含的粉末渗透到支撑旋转
6、另外，不仅是旋转球(20)和球座(14)之间的缝隙，包括阀壳体(10)的流入管(13)和流出管(11,12)在内，在内部设置的旋转球(20)周围，实际上存在反应副产物气体流动的整个领域沉积粉末的问题，因此必须制定对策，但没有合适的解决方案。
技术实现思路
1、技术问题
2、因此，本专利技术提出要解决上述所有常规问题，本专利技术的目的在于提供一种防粉末三通阀，能够有效抑制粉末从半导体和平板显示器制造设备的排气管线到流入管及流出管以及安装在内部的旋转球周围的大面积沉积和渗透。
3、技术方案
4、为了实现上述目的，本专利技术涉及一种具有圆柱形加热元件的防粉末三通阀，能够有效抑制粉末从半导体和平板显示器制造设备的管线到流入管及流出管以及安装在内部的旋转球周围的大面积沉积和渗透，包括具有反应副产物气体流入的流入管，和让反应副产物气体向不同方向流出的多个流出管的阀壳体；旋转球安装在所述阀壳体内，以控制反应副产物气体的流动方向；以及安装在所述阀壳体内的加热元件，以便能够加热阀壳体内部，所述加热元件以圆柱形加热元件的形式设置，以多个从每个角附近向另一侧深插入的形式安装在阀壳体的一侧，并放置在旋转球周围的多个点上。
5、在这里，在阀壳体的一侧的每个角附近形成一个圆形细长形态的储存袋，以容纳圆柱形加热元件，圆柱形加热元件以可拆卸状态安装。
6、另外，所述储存袋沿垂直于上述阀壳体的流入管的方向形成，通过所述流入管附近的上侧和下侧，并通过与所述多个流出管中与上述流入管对齐的流出管附近的上侧和下侧。
7、另外，所述阀壳体包括安装在所述流入管后端的外表面周围的喷嘴成型件，在上述喷嘴成型件的内周面上，形成有腔室形成槽，该腔室形成槽在流入管的外周面之间形成填充有从外部供给的氮气的环形氮气室；流入管的外周表面在形成腔室的腔室形成槽与流入管的外周面之间具有多于氮气室，从而可以从腔室形成槽向内部注入氮气；在流入管的外周面与比氮气室更窄的间隙中形成环形喷嘴的喷嘴形成槽，从喷嘴喷出的氮气形成管状气帘，可以有效地阻止反应副产物气体渗透到旋转球的流入孔周边与球座之间的间隙中。
8、此外，用于输送外部氮气的氮气输送软管与位于多个储存袋中的流入管上侧的一个储存袋连接，并且通过接触安装在储存袋内部的圆柱形加热元件的外表面来加热从外部供应的氮气。
9、另外，所述阀壳体內部形成的氮气入口孔一端通过连接端与所述氮气输送软管连接，另一端与所述一个储存袋入口附近的尖端相交的形式连接；以及形成的氮气输送孔是通过将所述一个储存袋的后端和和氮气室，以将一个储存袋中的圆柱形加热元件加热的氮气传输到氮气室。
10、此外，沿着所述圆柱形加热元件的圆周表面安装一根螺旋线，储存在一个储存袋中，氮气通过一个储存袋沿螺旋线螺旋移动，并增加与圆柱形加热元件的接触时间。
11、此外，其中喷嘴成型件上装有温度传感器，使得氮气在通过储存袋后可以立即测量温度。
12、另外，圆柱形加热元件的储存袋沿垂直于阀壳体的流入管方向形成，通过流入管附近的上侧和下侧，并通过与多个流出管中与流入管对齐的流出管附近的上侧和下侧，其中供氮气通过的一个储存袋形成为穿过流入管附近的上侧。
13、此外，还包含多个气囊盖，其用螺栓固定在所述阀壳体盖的一侧，其拉线孔一对一地覆盖储存袋的开口，同时防止装在储存袋中的圆柱形加热元件离开，并允许圆柱形加热元件的电线拔出。
14、此外，所述阀壳体还包括一个侧盖部件，其覆盖阀壳体的整个侧面，并将气囊盖隐藏在内部。
15、技术效果
16、本专利技术的防粉末三通阀通过设置在旋转球周围的圆柱形加热元件，有效地加热从旋转球到流入管和流出管的大面积区域，从而有效地抑制粉末从反应副产物气体中的沉积和渗透。
17、此外，本专利技术通过沿着流入管外周表面喷射高温氮气来形成圆管形的气帘，有效阻断反应副产物气体在旋转球的流入孔圆周与球座之间的间隙中，可有效抑制粉末沉积的慢性问题。
18、此外，本专利技术在维护方面具有的优点是，圆柱形加热元件可以通过在阀壳体中形成储存袋的配置来简单地插入和安装，并且如有必要，可以简单地将圆柱形加热元件从储存袋中取出。
19、此外，本专利技术涉及从外部供给的氮气在通过储存圆柱形加热元件的储存袋喷射，因此无需单独安装设备从外部加热氮气或在输送高温氮气时对其进行隔热。
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1.一种安装在半导体或平板显示器制造设备管线的防粉末三通阀，用于控制反应副产物气体的流动，其特征在于：包括
2.根据权利要求1所述的防粉末三通阀，其特征在于：
3.根据权利要求2所述的防粉末三通阀，其特征在于：
4.根据权利要求2所述的防粉末三通阀，其特征在于：
5.根据权利要求4所述的防粉末三通阀，其特征在于：
6.根据权利要求5所述的防粉末三通阀，其特征在于：
7.根据权利要求5所述的防粉末三通阀，其特征在于：
8.根据权利要求7所述的防粉末三通阀，其特征在于：
9.根据权利要求7所述的防粉末三通阀，其特征在于：
10.根据权利要求2所述的防粉末三通阀，其特征在于：
11.根据权利要求10所述的防粉末三通阀，其特征在于：
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种安装在半导体或平板显示器制造设备管线的防粉末三通阀，用于控制反应副产物气体的流动，其特征在于：包括
2.根据权利要求1所述的防粉末三通阀，其特征在于：
3.根据权利要求2所述的防粉末三通阀，其特征在于：
4.根据权利要求2所述的防粉末三通阀，其特征在于：
5.根据权利要求4所述的防粉末三通阀，其特征在于：
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