【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本说明书公开与供料器相关的技术。
技术介绍
1、专利文献1所记载的带式供料器具备在框架部件的上表面沿着带进给方向设置的槽状部。在槽状部内设置有带磁铁的下支撑部件，该带磁铁的下支撑部件构成为使基部及安装有磁铁部件的板簧部件这两个部件在上下方向上相向。带磁铁的下支撑部件对载带从下表面侧进行下支撑，并且通过磁铁部件的磁力而使收容于元件收容袋内的电子元件的姿势稳定。
2、专利文献2所记载的带式供料器具备带下支撑部件。在带下支撑部件的下方设有吸附位置侧磁铁（第一磁铁部件）和狭缝侧磁铁（第二磁铁部件）。吸附位置侧磁铁利用磁力将位于元件供给位置的元件向下支撑部件侧（下方）吸引。狭缝侧磁铁具有比吸附位置侧磁铁大的磁力，利用比吸附位置侧磁铁大的磁力将位于狭缝的下方的部件向下支撑部件侧（下方）吸引。
3、现有技术文献
4、专利文献1：日本特开2007-027246号公报
5、专利文献2：日本特开2017-139367号公报
技术实现思路
1、专利技术所要解决的课题
2、在与从载带拾取元件的拾取区域相比设置于载带的输送方向上的上游侧的上游侧区域中，为了使元件的收容姿势稳定，存在想要尽可能增强对元件施加的磁力的要求。然而，若在拾取区域中对元件施加该磁力，则有可能阻碍元件的拾取。
3、鉴于这样的情况，本说明书公开一种能够实现兼顾上游侧区域中的元件的收容姿势的稳定和拾取区域中的元件的拾取的供料器。
4、用于解决课题的手段>
5、本说明书公开一种具备带引导件、第一磁铁及第二磁铁的供料器。上述带引导件对收容元件的载带的输送进行引导。上述第一磁铁设置在由上述带引导件引导的上述载带的下方，具备能够在设置于比从上述载带拾取上述元件的拾取区域靠上述载带的输送方向上的上游侧处的上游侧区域向上述元件施加第一吸引力的第一磁通密度。上述第二磁铁在上述载带的输送方向上与上述第一磁铁相邻地设置，具备能够在上述拾取区域向上述元件施加比上述第一吸引力弱的第二吸引力的第二磁通密度。上述第一磁通密度及上述第二磁通密度被设定成预定的关系，使得在上述上游侧区域上述元件的收容姿势稳定且在上述拾取区域不会阻碍上述元件的拾取。
6、此外，在本说明书中，公开了在申请书中最初附加权利要求书（以下，称为最初权利要求书）所记载的权利要求5中，将“根据权利要求1所述的供料器”变更为“根据权利要求1~权利要求4中任一项所述的供料器”的技术思想。另外，在本说明书中，公开了在最初权利要求书所记载的权利要求6中将“根据权利要求1所述的供料器”变更为“根据权利要求1~权利要求5中任一项所述的供料器”的技术思想。此外，在本说明书中，公开了在最初权利要求书所记载的权利要求7中将“根据权利要求1所述的供料器”变更为“根据权利要求1~权利要求6中任一项所记载的供料器”的技术思想。另外，在本说明书中，公开了在最初权利要求书所记载的权利要求8中将“根据权利要求1所述的供料器”变更为“根据权利要求1~权利要求7中任一项所述的供料器”的技术思想。
7、专利技术效果
8、根据上述的供料器，第一磁通密度及第二磁通密度被设定为预定的关系。因此，供料器能够实现兼顾上游侧区域中的元件的收容姿势的稳定和拾取区域中的元件的拾取。
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1.一种供料器，具备：
2.根据权利要求1所述的供料器，其中，
3.根据权利要求1或2所述的供料器，其中，
4.根据权利要求3所述的供料器，其中，
5.根据权利要求1所述的供料器，其中，
6.根据权利要求1所述的供料器，其中，
7.根据权利要求1所述的供料器，其中，
8.根据权利要求1所述的供料器，其中，
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种供料器，具备：
2.根据权利要求1所述的供料器，其中，
3.根据权利要求1或2所述的供料器，其中，
4.根据权利要求3所述的供料器，其中，
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