【技术实现步骤摘要】
本专利技术的一方式涉及图案检查方法以及图案检查装置。例如，涉及检查在半导体制造中使用的曝光用掩模的图案缺陷的装置以及该装置的自动聚焦(autofocus)控制。
技术介绍
1、近年来，伴随大规模集成电路(lsi)的高集成化以及大容量化，半导体元件所要求的电路线宽越来越窄。这些半导体元件使用形成有电路图案的原画图案(也称作掩模或者中间掩模，以下，通称作掩模)，利用被称作所谓的步进曝光装置的缩小投影曝光装置将图案曝光转印于晶片上从而形成电路，由此进行制造。
2、而且，对于制造成本高昂的lsi的制造，成品率的提高必不可少。作为使成品率降低的主要因素之一，可列举使用光刻技术在半导体晶片上对超细微图案进行曝光，在转印时所使用的掩模的图案缺陷。近年来，伴随形成于半导体晶片上的lsi图案尺寸的细微化，必须作为图案缺陷检测出的尺寸也变得极其小。因此，检查lsi制造所使用的转印用掩模的缺陷的图案检查装置需要高精度化。
3、作为检查方法，例如有比较对同一掩模上的不同位置的同一图案进行摄像而得的光学图像数据彼此的“die to die(芯片到芯片)检查”、“die to database(芯片到数据库)检查”，该芯片到数据库检查将图案设计后的cad数据转换为在向掩模描绘图案时用于描绘装置进行输入的装置输入格式的描绘数据(设计数据)，将描绘数据输入检查装置，并以此为基础生成参照图像，比较该参照图像和作为摄像图案而得的测定数据的光学图像。
4、在相关检查装置中，需要清晰地采集掩模等被检查试样上的图案图像。但是，由于检查
5、在被检查试样中，在形成图案的检查区域的周围存在不形成图案的非检查区域。在图案检查中，从非检查区域开始扫描，并进入检查区域，持续扫描至相反侧的非检查区域。其间，实施自动聚焦控制。
6、这里，有时检查在非检查区域的面与检查区域的面之间形成较大的台阶的被检查试样。在该情况下，在扫描位置从非检查区域进入检查区域时，自动聚焦控制不跟随该台阶，存在刚刚进入检查区域之后摄像的图像模糊这一问题。
7、对于在检查区域面与非检查区域面之间存在较大的台阶的被检查试样，公开有判断是检查区域还是非检查区域，在检查区域中驱动自动聚焦机构，在扫描位置即将进入非检查区域之前停止自动聚焦机构的方法(例如参照日本特开2012-078164号公报)。
8、然而，在有的被检查试样中，在检查时的扫描方向上隔着非检查区域配置多个检查区域。在这样的被检查试样中，在被检查试样产生挠曲的情况下等，即将从检查区域向非检查区域切换之前的聚焦高度位置与刚刚从非检查区域向下一检查区域切换之后的聚焦高度位置不一定一致。因此，产生仅通过在扫描位置即将进入非检查区域之前停止自动聚焦机构无法解决在扫描位置刚刚进入下一检查区域之后摄像的图像模糊的问题点的情况。
技术实现思路
1、本专利技术的一方式提供在隔着非检查区域配置多个检查区域的被检查试样的检查中，即使在检查区域与非检查区域之间产生自动聚焦机构难以跟随的较大的台阶的情况下，也能够抑制或者减少在扫描位置刚刚进入检查区域之后摄像的图像模糊的图案检查方法以及图案检查装置。
2、本专利技术的一方式的图案检查方法为，
3、使用具有形成有图形图案的多个检查区域以及多个检查区域的检查区域彼此之间的非检查区域的被检查试样，利用检查光沿规定的方向扫描多个检查区域以及检查区域彼此之间的非检查区域；
4、经由检查光学系统，由传感器接受从被检查光照射的被检查试样透射或者反射的光，从而对被检查试样的光学图像进行摄像；以及
5、使用参照图像，对摄像而得的光学像素与参照图像进行比较，并输出结果，
6、所述扫描包括：
7、在使用检查光对扫描方向上的非检查区域的近前侧的检查区域进行扫描的情况下，进行如下自动聚焦控制：通过可变地控制载置被检查试样的工作台的高度位置，从而在该检查区域的各位置将图案形成面的高度位置调整为希望的聚焦高度位置；
8、在使用检查光扫描非检查区域的情况下，使用在相对于非检查区域在扫描方向的前方相邻的检查区域的扫描开始位置的附近的位置处图案形成面成为聚焦高度位置的工作台高度，将对非检查区域进行扫描过程中的工作台高度位置保持为在该附近的位置处图案形成面成为聚焦高度位置的工作台高度；以及
9、在使用检查光扫描相对于非检查区域在扫描方向的前方相邻的检查区域的情况下，从保持了工作台的高度位置的工作台高度位置开始，进行如下自动聚焦控制：通过可变地控制工作台的高度位置，从而将扫描方向的前方相邻的检查区域的图案形成面的高度位置调整为聚焦高度位置。
10、本专利技术的一方式的图案检查装置具备：
11、能够移动的工作台，载置具有形成有图形图案的多个检查区域以及多个检查区域的检查区域彼此之间的非检查区域的被检查试样；
12、驱动机构，移动工作台的高度位置；
13、照明光学系统，使用检查光对被检查试样进行照明；
14、传感器，通过接受从被检查光照射的被检查试样透射或者反射的光，从而对被检查试样的光学图像进行摄像；
15、检查光学系统，将从被检查试样透射或者反射的光导向传感器；
16、自动聚焦机构，在使用检查光沿规定的方向对多个检查区域以及检查区域彼此之间的非检查区域进行扫描的情况下，进行如下自动聚焦控制：通过可变地控制工作台的高度位置，从而在多个检查区域的各位置将图案形成面的高度位置调整为希望的聚焦高度位置；以及
17、比较电路，使用参照图像，对摄像而得的光学像素与参照图像进行比较，
18、自动聚焦机构具有：
19、存储装置，存储图案形成面在相对于非检查区域在扫描方向的前方相邻的检查区域的扫描开始位置的附近的位置处，成为聚焦高度位置的工作台高度；以及
20、自动聚焦处理电路，在使用检查光扫描非检查区域的情况下，将对非检查区域进行扫描过程中的工作台高度位置保持为图案形成面在该附近的位置处成为聚焦高度位置的工作台高度，在使用检查光扫描相对于非检查区域在扫描方向的前方相邻的检查区域的情况下，从保持了工作台的高度位置的工作台高度位置开始，可变地控制工作台的高度位置，从而将扫描方向的前方相邻的检查区域的图案形成面的高度位置调整为聚焦高度位置。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种图案检查方法，其中，
2.如权利要求1所述的图案检查方法，其中，
3.如权利要求2所述的图案检查方法，其中，
4.如权利要求2所述的图案检查方法，其中，
5.一种图案检查装置，具备：
6.如权利要求5所述的图案检查装置，其中，
7.如权利要求6所述的图案检查装置，其中，
8.如权利要求7所述的图案检查装置，其中，
9.如权利要求5所述的图案检查装置，其中，
10.如权利要求9所述的图案检查装置，其中，
【技术特征摘要】
1.一种图案检查方法，其中，
2.如权利要求1所述的图案检查方法，其中，
3.如权利要求2所述的图案检查方法，其中，
4.如权利要求2所述的图案检查方法，其中，
5.一种图案检查装置，具备：
6.如权...
【专利技术属性】
技术研发人员：武田雅矢，
申请(专利权)人：纽富来科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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