【技术实现步骤摘要】
本技术属于增压装置，具体涉及一种气驱式超高压水泵。
技术介绍
1、随着我国航空、航天、半导体等领域的快速发展，对于加工设备的要求也越来越高，特别是在半导体加工设备领域，常常使用一些设备要求提供超纯水且要求水压能达到超高压状态等要求。特别是在微射流激光加工过程中需要使用该技术，对于加工用水的水压、电阻率以及稳定性等都有严格要求，各个参数都影响加工的效率。
2、针对提到的微射流激光加工技术是以水射流引导激光束对待加工工件进行切割的复合加工技术。由于水和空气的折射率不同，在激光束以一定角度照射在水与空气交界面时，如果入射角小于全反射临界角，激光会发生全反射而不会透射出去，这就使激光能量始终被限制在水束中从而使激光沿水束的方向进行传播。该加工技术对于使用的超纯水有着严格的要求，其中输出的超细水柱直径可达微米级别，水柱直径小至20-100微米，形成超高压水柱时，水压最高可达600bar，要求用水满足电阻率值高达18.25mω/cm；该设备用水流量在3l/h左右，所以流量较小，同时在该小流量状态下要求输出水压稳定在±1bar以内，目前现有的设备很难满足上述技术要求。
技术实现思路
1、为了解决现有技术中存在的上述问题，本技术提供了一种气驱式超高压水泵。本技术要解决的技术问题通过以下技术方案实现：
2、一种气驱式超高压水泵，包括：
3、进气装置、进水装置、气液增压泵、缓冲装置、压力调节装置、反馈装置和输出装置；其中，
4、所述进气装置与所述气液增压
5、所述进水装置与所述气液增压泵的进水端连接，用于提供稳定的超纯水至所述气液增压泵；
6、所述气液增压泵的输出端与所述缓冲装置的输入端连接，所述气液增压泵用于进行超纯水增压，输出高于预设压力值的超纯水；
7、所述缓冲装置的输出端与所述压力调节装置的输入端连接，所述缓冲装置用于对所述气液增压泵输出的超纯水进行缓冲并存储，保持所述气液增压泵输出的超纯水的压力值在预设范围内；
8、所述压力调节装置的输出端与所述反馈装置的输入端连接的同时，还与所述输出装置的输入端连接，所述压力调节装置用于调节所述缓冲装置输出的超纯水的压力值至所述预设压力值并将调节后的超纯水输出至所述输出装置；
9、所述反馈装置用于将所述压力调节装置输出的超纯水的压力值反馈至所述压力调节装置；
10、所述压力调节装置还用于接收到所述反馈装置反馈的压力值后，对自身输出的超纯水的压力值进行反馈调节；
11、所述输出装置用于将接收到的超纯水输出。
12、优选地，进气装置，包括：
13、压缩空气入口、空气过滤器、电磁阀和油雾器；其中，
14、所述压缩空气入口的输出端与所述空气过滤器的输入端连接；
15、所述空气过滤器的输出端与所述电磁阀的输入端连接；
16、所述电磁阀的输出端与所述油雾器的输入端连接；
17、所述油雾器的输出端与所述气液增压泵的进气端连接。
18、优选地，进水装置，包括：
19、超纯水入口、不锈钢球阀和水过滤器；其中，
20、所述超纯水入口的输出端与所述不锈钢球阀的输入端连接；
21、所述不锈钢球阀的输出端与所述水过滤器的输入端连接；
22、所述水过滤器的输出端与所述气液增压泵的进水端连接。
23、优选地，缓冲装置包括：缓冲器；
24、所述缓冲器的输入端与所述气液增压泵的输出端连接，所述缓冲器的输出端与所述压力调节装置的输入端连接。
25、优选地，预设范围为：
26、所述气液增压泵输出的超纯水的压力值±1bar得到的压力范围。
27、优选地，压力调节装置，包括：
28、比例调节阀带气室、plc控制中心、压力表和气控针阀；其中，
29、所述比例调节阀带气室的输入端与所述缓冲器的输出端连接，所述比例调节阀带气室的输出端与所述气控针阀的输入端连接；
30、所述plc控制中心设置于所述比例调节阀带气室上；
31、所述压力表的输入端与所述比例调节阀带气室的输出端连接；
32、所述气控针阀的输出端与所述反馈装置的输入端连接的同时，还与所述输出装置的输入端连接。
33、优选地，反馈装置包括：压力传感器。
34、优选地，输出装置包括：高压水出口；
35、所述高压水出口的输入端与所述气控针阀的输出端连接，所述高压水出口的输出端作为所述气驱式超高压水泵的输出端，输出自身接收到的超纯水。
36、本技术的有益效果：
37、本技术实施例所提供的方案中，通过进气装置和进水装置提供稳定的压缩空气和稳定的超纯水作为气液增压泵的气源和水源，利用气液增压泵对超纯水进行增压；利用缓冲装置对增压后的超纯水进行缓冲并存储，再通过压力调节装置对超纯水的压力进行调节，以使得超纯水在保持较小输出流量的同时保证水压的稳定输出，利用反馈装置将输出的超纯水的压力值反馈至压力调节装置以实现反馈调节，使得输出的超纯水的压力值满足技术需求的同时更加稳定。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种气驱式超高压水泵，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种气驱式超高压水泵，其特征在于，所述进气装置，包括：
3.根据权利要求1所述的一种气驱式超高压水泵，其特征在于，所述进水装置，包括：
4.根据权利要求1所述的一种气驱式超高压水泵，其特征在于，所述缓冲装置包括：缓冲器；
5.根据权利要求4所述的一种气驱式超高压水泵，其特征在于，所述预设范围为：
6.根据权利要求4所述的一种气驱式超高压水泵，其特征在于，所述压力调节装置，包括：
7.根据权利要求6所述的一种气驱式超高压水泵，其特征在于，所述反馈装置包括：压力传感器。
8.根据权利要求6所述的一种气驱式超高压水泵，其特征在于，所述输出装置包括：高压水出口；
【技术特征摘要】
1.一种气驱式超高压水泵，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种气驱式超高压水泵，其特征在于，所述进气装置，包括：
3.根据权利要求1所述的一种气驱式超高压水泵，其特征在于，所述进水装置，包括：
4.根据权利要求1所述的一种气驱式超高压水泵，其特征在于，所述缓冲装置包括：缓冲器；
5.根据权利要求4...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨森，张贵龙，张聪，薛继鹏，踪振华，
申请(专利权)人：西安晟光硅研半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。