【技术实现步骤摘要】
本技术涉及新能源，涉及一种等离子腔室用的加热台。
技术介绍
1、pecvd载板是硅片镀膜设备的主要消耗部件之一，其工作原理为将需要镀膜的硅片平整的放置在pecvd载板的工位上，经传送带运输到pecvd镀膜设备中的等离子腔室，然后在一定工艺条件下进行pecvd镀膜。随着太阳能光伏行业的迅速发展，市场对硅片镀膜的产量和产能需求均不断提高。
2、目前提高镀膜效率的直接方法是增加单次镀膜产品数量，要提高单次数量，需要大尺寸的pecvd载板。载板增大尺寸的同时，因载板加热的需要，载板厚度不能做出相应的增厚，现采用的技术是载板背板引入加强筋增加载板强度，采用加强筋后背板的加热问题急需解决。
技术实现思路
1、为解决上述问题，本技术说明了一种等离子腔室用的加热台，其特征在于：所述加热台（2）为光滑平整台面；
2、进一步的，加热台（2）内有加热线圈；
3、进一步的，加热台（2）上有凹槽结构（3），所述凹槽结构（3）用于嵌入pecvd载板，确保pecvd载板与加热台（2）贴合。
4、优选的，加热台（2）a侧有挡板（1），所述挡板（1）在pecvd载板送入腔室内时对pecvd载板a侧位置进行定位。
5、优选的，加热台（2）b侧和c侧有推进器（4），所述推进器（4）包括折叠臂、伸缩臂、混合臂；
6、进一步的，所述推进器（4）推进终点位置固定，推进器（4）末端与载板可以相贴合，b、c两侧推进器（4）推至终点位置，pecvd载板b、c两
7、优选的，腔室入口处左右两侧有各有一个螺纹立柱，螺纹立柱之间的距离大于pecvd载板的宽度，螺纹立柱上方固定横梁（6），螺纹立柱通过同频转动控制横梁（6）上下活动。
8、优选的，横梁（6）上方装有2个推手（5），所述推手（5）位置为对称，所述推手（5）之间的距离小于载板的宽度；
9、进一步的，所述推手（5）通过螺纹与横梁（6）连接，螺纹可同步旋转控制推手（5）前进；
10、进一步的，所述推手（5）终点位置与挡板（1）的距离与载板的宽度相等。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种等离子腔室用的加热台，其特征在于：挡板（1）、加热台（2）、凹槽结构（3）、推进器（4）、推手（5）、横梁（6）。
2.根据权利要求1所述一种等离子腔室用的加热台，其特征在于：所述加热台（2）为光滑平整台面；所述加热台（2）内有加热线圈；所述加热台（2）上有凹槽结构（3）；所述凹槽结构（3）与载板背板的加强筋纹路一致。
3.根据权利要求1所述一种等离子腔室用的加热台，其特征在于：所述加热台（2）D侧为PECVD载板送入侧；所述加热台（2）A侧有挡板（1）。
4.根据权利要求1所述一种等离子腔室用的加热台，其特征在于：所述推进器（4）包括折叠臂、伸缩臂、混合臂；所述推进器（4）推进终点位置固定，推进器（4）末端与载板可以相贴合，B、C两侧推进器（4）推至终点位置，PECVD载板B、C两侧方向被固定。
5.根据权利要求1所述一种等离子腔室用的加热台，其特征在于：所述横梁（6）由2个螺纹立柱支撑；所述横梁（6）通过螺纹立柱的旋转控制升降。
6.根据权利要求5所述一种等离子腔室用的加热台，其特征在于：所述推手（5）与横梁
...【技术特征摘要】
1.一种等离子腔室用的加热台，其特征在于：挡板（1）、加热台（2）、凹槽结构（3）、推进器（4）、推手（5）、横梁（6）。
2.根据权利要求1所述一种等离子腔室用的加热台，其特征在于：所述加热台（2）为光滑平整台面；所述加热台（2）内有加热线圈；所述加热台（2）上有凹槽结构（3）；所述凹槽结构（3）与载板背板的加强筋纹路一致。
3.根据权利要求1所述一种等离子腔室用的加热台，其特征在于：所述加热台（2）d侧为pecvd载板送入侧；所述加热台（2）a侧有挡板（1）。
4.根据权利要求1所述一种...
【专利技术属性】
技术研发人员：王震，吴斌，曾彬，夏丹丽，
申请(专利权)人：嘉兴睿创新材料有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。