【技术实现步骤摘要】
本技术为关于废液处理系统，尤其是关于氨铜废液处理系统。
技术介绍
1、制造印刷电路板的蚀刻工艺中会产生蚀刻废液。蚀刻废液包含例如氨氮废液。若任意排放氨氮废液会对环境造成污染。因此，各工业园区也有订定废水排放的相关规定，例如在晶圆制造及半导体制造业放流水标准及科学工业园区污水下水道系统放流水标准中均规定，氨氮在排放于自来水水质水量保护区外者的限值为20ppm，在排放于自来水水质水量保护区内者的限值为10ppm。
2、既有的含铜废液处理系统为利用氢氧化钠(naoh)将废水中的铜离子与钠离子置换形成氢氧化铜(cu(oh)2)，氢氧化铜沉淀后成为铜污泥，借此将铜从废液中移除。然而，在氨铜废液中，氨氮会与铜离子形成氨铜螯合物，其化学结构稳定，导致铜离子不易与钠离子交换而产生铜污泥，无法有效去除铜离子。若将氨铜废液直接进行氨氮电解处理，废液中的铜离子在电解过程中会形成金属铜，干扰电解反应，甚至使电解设备损坏。因此，如何有效处理氨铜废液为目前业界面临的问题之一。
技术实现思路
1、本技术提供一种氨铜废液处理系统，可有效处理氨铜废液。
2、本技术一实施例提供一种氨铜废液处理系统，包含：铜离子萃取槽；氨氮废液纯化槽，连接于铜离子萃取槽；铜离子纯化槽，连接于铜离子萃取槽；氨氮电解槽，连接于氨氮废液纯化槽；以及金属铜回收槽，连接于该铜离子纯化槽。
3、本技术提供的氨铜废液处理系统，通过萃取剂去除铜离子，再通过电解处理氨氮废液，借此可有效处理氨铜废液。并且，在本技术提供
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1.一种氨铜废液处理系统，其特征在于，包含：
2.根据权利要求1所述的氨铜废液处理系统，其特征在于，还包含氨铜废液储存槽，该氨铜废液储存槽连接于该铜离子萃取槽。
3.根据权利要求2所述的氨铜废液处理系统，其特征在于，还包含氨铜废液储存槽控制器，该氨铜废液储存槽控制器电性连接于该氨铜废液储存槽。
4.根据权利要求1所述的氨铜废液处理系统，其特征在于，还包含萃取剂槽，该萃取剂槽连接于该铜离子萃取槽。
5.根据权利要求1所述的氨铜废液处理系统，其特征在于，还包含萃取剂再生试剂槽，该萃取剂再生试剂槽连接于该铜离子萃取槽。
6.根据权利要求1所述的氨铜废液处理系统，其特征在于，还包含氨氮废液暂存槽，该氨氮废液暂存槽设置于该氨氮废液纯化槽与该氨氮电解槽之间并连接该氨氮废液纯化槽与该氨氮电解槽。
7.根据权利要求6所述的氨铜废液处理系统，其特征在于，还包含电解试剂槽，该电解试剂槽连接于该氨氮废液暂存槽。
8.根据权利要求1所述的氨铜废液处理系统，其特征在于，还包含抽气装置，该抽气装置连接于该氨氮电解槽。
...【技术特征摘要】
1.一种氨铜废液处理系统，其特征在于，包含：
2.根据权利要求1所述的氨铜废液处理系统，其特征在于，还包含氨铜废液储存槽，该氨铜废液储存槽连接于该铜离子萃取槽。
3.根据权利要求2所述的氨铜废液处理系统，其特征在于，还包含氨铜废液储存槽控制器，该氨铜废液储存槽控制器电性连接于该氨铜废液储存槽。
4.根据权利要求1所述的氨铜废液处理系统，其特征在于，还包含萃取剂槽，该萃取剂槽连接于该铜离子萃取槽。
5.根据权利要求1所述的氨铜废液处理系统，其特征在于，还包含萃取剂再生试剂槽，该萃取剂再生试剂槽连接于该铜离子萃取槽。
6.根据权利要求1所述的氨铜废液处理系统，其特征在于，还包含氨氮废液暂存槽，该氨氮废液暂存槽设置于该氨氮废液纯化槽与该氨氮电解槽之间并连接该氨氮废液纯化槽与该氨氮电解槽。
7.根据权...
【专利技术属性】
技术研发人员：郑涵娟，林毅，
申请(专利权)人：欣兴电子股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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