【技术实现步骤摘要】
本申请涉及用于操作电子束系统的方法。
技术介绍
1、电子束系统包括生成电子束的束源。该电子束在物体上照射出一个光斑，该光斑的尺寸在通过物镜聚焦时尽可能地减小。电子束系统可以借助使电子束从其轨迹偏转来使由电子束照射的光斑在物体上的区域上方扫描。电子束系统还包括可以用于检测在电子束入射在物体上时物体所发射的电子的检测器。通过将电子束的偏转分配给来自检测器的测量值来生成电子显微图像。所照射的光斑越小，电子显微图像可实现的分辨率就越高。
2、在某些电子束系统中，电子束在束源与物体之间的大部分路径上都要穿过束管。向束管提供电位以便使束中的电子在进入束管时加速，并且在这些电子从束管离开时通过电子束系统的静电透镜的场使这些电子在束管与物体之间减速。因此，束中的电子更快地到达物体，并且因此受到由束中的其他电子引起的静电排斥较少，这种静电排斥会增大束在物体上的光斑。相应地，在这些电子束系统的常规操作期间将供应到束管的电位选择为尽可能地高，使得光斑尽可能地小，并且因此所记录的电子显微图像的可实现分辨率尽可能地高。
3、然而，用户可能认为电子束系统的这个常规操作是不够的。
技术实现思路
1、相应地，本专利技术的目标是提出一种用于利用束管来改进电子束系统的操作的方法。
2、根据本专利技术的实施例，一种用于操作电子束系统的方法包括：将供应到电子束源的第一电位设置为第一值，将供应到束管的第二电位设置为第二值，并且将供应到物体的第三电位设置为第三值，使得该第三电位大于该第一电
3、如果将电位供应到如上文所描述的电子束系统，则静电场普遍存在于束管与物体之间，该静电场会通过与电子束的电子进行静电相互作用来使这些电子偏转并且像聚焦透镜一样作用于电子。相应地，即使没有向为聚焦目的而提供的任何磁透镜(例如物镜)供应电流，电子束系统也会对电子束具有聚焦效应。一旦已经实现了这样的状态，例如当将电子束聚焦在被布置为离电子束系统有较大距离的物体上时，如果减小供应到束管的电位，则可以继续聚焦。如果减小供应到束管的电位，则可以增加供应到物镜的电流以保持聚焦效应不变，因为静电场的聚焦效应较小。因此，可以继续聚焦。在这种情况下，供应到束管的电位也可以对应于接地电位。
4、根据实施例，该方法因此还包括：通过修改供应到至少一个磁透镜(比如物镜)的至少一个电流来将该束聚焦在该物体上，例如，其中，如果该至少一个电流在该聚焦期间符合预定标准，则执行以下操作：将供应到该束管的电位设置为小于该第二值的第四值；以及增加该至少一个电流并且然后继续通过修改该至少一个电流来将该束聚焦在该物体上，或使该至少一个电流保持恒定并且然后继续通过修改该第二电位来将该束聚焦在该物体上。这意味着当束聚焦在物体上时，如果满足预定标准，则减小供应到束管的电位并且例如增加供应到物镜的电流。然后可以继续通过修改物镜电流或修改供应到束管的电位来进行聚焦。
5、该方法可以使用电子束系统来执行，该电子束系统包括：电子束源，该电子束源用于生成电子束；束管，该束管包括第一端和第二端并且被配置为使得该电子束在该束管的第一端进入该束管并在该束管的第二端从该束管出来；至少一个聚焦磁透镜，该电子束穿过该至少一个聚焦磁透镜；以及供电系统，该供电系统被配置为将该第一电位供应到该电子束源的电子发射体，将该第二电位供应到该束管，将该第三电位供应到该物体，并且将该至少一个电流供应到该至少一个磁透镜。
6、例如，至少一个磁透镜可以是该电子束系统的物镜或者该电子束系统的物镜和聚光透镜。聚焦是通常包括多个步骤的冗长过程。相应地，可以开始于将束聚焦在物体上并且在聚焦期间采取进一步措施，例如减小供应到束管的电位。例如，可以在每个聚焦步骤期间执行通过将供应到物镜的电流与预定标准作比较来检查是否需要这些措施。替代性地，还可以每隔一个步骤、每隔两个步骤等实施前述检查。
7、根据一些实施例，如果供应到该物镜的电流降到预定值以下，则符合该预定标准。特别地，预定值可以几乎为零，由此，当供应到物镜的电流几乎为零时符合标准。
8、根据进一步实施例，该方法包括：将供应到电子束源的第一电位设置为第一值，将供应到束管的第二电位设置为第二值，并且将供应到物体的第三电位设置为第三值，使得该第三电位大于该第一电位并且该第二电位大于该第三电位。该方法还包括：通过修改供应到至少一个磁透镜的至少一个电流来将束聚焦在物体上，其中，如果该至少一个电流在该聚焦期间符合预定标准，则执行以下操作：将该第二电位设置为大于该第二值的第四值；以及减小该至少一个电流并且然后继续通过修改该至少一个电流来将该束聚焦在该物体上，或使该至少一个电流保持恒定并且然后继续通过修改该第二电位来将该束聚焦在该物体上。根据这个实施例的方法是与上文描述的方法相反的方法，并且特别地包括：如果符合预定标准，则在将束聚焦在物体上的同时增加供应到束管的电位并且减小供应到物镜的电流。
9、根据一些实施例，如果该至少一个电流中的电流超过预定值，则符合该预定标准。
10、根据一些实施例，在该束管的第二端与该物体之间的电子受因该第二电位与该第三电位之间的差而生成的电场并且受该磁透镜所生成的场影响。特别地，电子束系统的束管和物镜被布置为使得由供应到束管的电位和供应到物体的电位生成的电场在空间上与由该磁透镜生成的场重叠。
11、根据一些实施例，该预定标准取决于供应到该束管的电位的第二值。确切地说，预定标准可以取决于电子束系统的聚焦效应，该聚焦效应是由供应到物镜的电流和供应到束管的电位生成的。如果(像在上文描述的实施例中一样)当供应到物镜的电流降到预定值以下并且该预定值较小时符合标准，则在符合标准的设置中电子束系统的聚焦效应将几乎完全取决于供应到束管的电位的第二值。
12、根据一些实施例，将该束聚焦在该物体上包括：找到使得由该束照射在该物体上的光斑尽可能地小的电流值。
13、根据一些实施例，将该束聚焦在该物体上包括：检测由该电子束生成的电子；基于所检测到的电子来确定供应到该磁透镜的电流的值的变化；以及根据所确定的变化设置该电流的值。例如，可以以下面的方式执行聚焦：由电子束系统记录电子显微图像，分析电子显微图像，并且基于分析的结果来修改至少一个电流的值。例如，可以在过程中分析电子显微图像的清晰度。例如，可以借助使电子显微图像经受傅里叶变换并且观察频率的贡献来确定电子显微图像的清晰度。
14、根据一些实施例，该方法还包括：以供应到该束源的电位、供应到该束管的电位、和供应到该物体的电位、以及供应到该磁透镜的电流的设定值记录至少一个电子显微图像。
15、根据一些实施例，将该束聚焦在该物体上包括：找到使得所记录的电子显微图像尽可能地清晰的电流值。如上文已经提到的，电子显微图像的清晰度本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种用于操作电子束系统的方法，该电子束系统包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其中，如果该至少一个电流中的一个电流降到预定值以下，则符合该预定标准，和/或如果该至少一个电流中的该电流未降到该预定值以下，则不符合该预定标准。
3.一种用于操作电子束系统的方法，该电子束系统包括：
4.根据权利要求3所述的方法，其中，如果该至少一个电流中的一个电流超过预定值，则符合该预定标准，和/或如果该至少一个电流中的该电流未超过该预定值，则不符合该预定标准。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中，在该束管的第二端与该物体之间的电子受因该第二电位与该第三电位之间的差而生成的电场并且受该磁透镜所生成的场影响。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中，该预定标准取决于该第二值。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法，其中，将该束聚焦在该物体上包括：找到使得由该束照射在该物体上的光斑尽可能地小的电流值。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的方法，其中，将该束聚焦在该物体上包括：检测由该电子束生成
9.根据权利要求1至8中任一项所述的方法，进一步包括以该第一电位、该第二电位和该第三电位以及该至少一个电流的设定值记录至少一个电子显微图像。
10.根据权利要求9所述的方法，其中，将该束聚焦在该物体上包括：找到使得所记录的电子显微图像尽可能地清晰的电流值。
11.一种用于操作电子束系统的方法，该电子束系统包括：
12.根据权利要求11所述的方法，
13.根据权利要求12所述的方法，进一步包括
14.根据权利要求11至13中任一项所述的方法，
15.根据权利要求14所述的方法，
16.根据权利要求11至13中任一项所述的方法，
17.根据权利要求11至13中任一项所述的方法，
18.根据权利要求17所述的方法，
19.一种电子束系统，包括：
20.一种计算机程序产品，包括指令，这些指令在由根据权利要求19所述的电子束系统的控制器执行时使该电子束系统执行根据权利要求1至18中任一项所述的方法。
...【技术特征摘要】
1.一种用于操作电子束系统的方法，该电子束系统包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其中，如果该至少一个电流中的一个电流降到预定值以下，则符合该预定标准，和/或如果该至少一个电流中的该电流未降到该预定值以下，则不符合该预定标准。
3.一种用于操作电子束系统的方法，该电子束系统包括：
4.根据权利要求3所述的方法，其中，如果该至少一个电流中的一个电流超过预定值，则符合该预定标准，和/或如果该至少一个电流中的该电流未超过该预定值，则不符合该预定标准。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中，在该束管的第二端与该物体之间的电子受因该第二电位与该第三电位之间的差而生成的电场并且受该磁透镜所生成的场影响。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中，该预定标准取决于该第二值。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法，其中，将该束聚焦在该物体上包括：找到使得由该束照射在该物体上的光斑尽可能地小的电流值。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的方法，其中，将该束聚焦在该物体上包括：检测由该电子束生成的电子；基于所检测到的电...
【专利技术属性】
技术研发人员：B·加姆，
申请(专利权)人：卡尔蔡司显微镜有限责任公司，
类型：发明
国别省市：
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