【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
技术介绍
技术实现思路
【技术保护点】
1.一种气体分离膜，其包括以下层：
2.如权利要求1所述的气体分离膜，其中，所述附加层(iii)不具有气体分离选择性，并且包含2原子％至9原子％的式(1)基团的M。
3.如权利要求1或2所述的气体分离膜，其中，所述辨别层(ii)包含大于10原子％且小于50原子％的式(1)基团的M。
4.如前述权利要求中任一项所述的气体分离膜，其中，所述附加层(iii)的平均厚度为1nm至1,500nm。
5.如前述权利要求中任一项所述的气体分离膜，其中，所述附加层(iii)的平均厚度为5nm至1,000nm。
6.如前述权利要求中任一项所述的气体分离膜，其中，所述附加层(iii)的式(1)基团的M的原子％的平均值在其整个深度上基本恒定。
7.如前述权利要求中任一项所述的气体分离膜，其包括聚硅氧烷保护层(iv)。
8.如权利要求7所述的气体分离膜，其中，所述保护层(iv)的平均厚度为10nm至10,000nm。
9.一种用于形成前述权利要求中任一项所述的气体分离膜的方法，其包括以下步骤：
1
11.如权利要求9或10所述的方法，其中，步骤(b)在不含氧气的气氛中进行。
12.如权利要求9至11中任一项所述的方法，其中，步骤(a)包括通过等离子体处理过程将所述辨别层(ii)施加至所述支撑体层(i)，并且步骤(b)包括通过等离子体处理过程将所述附加层(iii)施加至所述辨别层(ii)。
13.如权利要求12所述的方法，其中，步骤(a)提供具有大于10原子％且小于50原子％的式(1)基团的M的辨别层(ii)，并且步骤(b)提供具有1.5原子％至10原子％的式(1)基团的M的附加层(iii)。
14.一种气体分离模块，其包括权利要求1至8中任一项所述的气体分离膜。
15.权利要求1至8中任一项所述的气体分离膜或权利要求14所述的气体分离模块用于分离气体和/或用于纯化进料气体的用途。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种气体分离膜，其包括以下层：
2.如权利要求1所述的气体分离膜，其中，所述附加层(iii)不具有气体分离选择性，并且包含2原子％至9原子％的式(1)基团的m。
3.如权利要求1或2所述的气体分离膜，其中，所述辨别层(ii)包含大于10原子％且小于50原子％的式(1)基团的m。
4.如前述权利要求中任一项所述的气体分离膜，其中，所述附加层(iii)的平均厚度为1nm至1,500nm。
5.如前述权利要求中任一项所述的气体分离膜，其中，所述附加层(iii)的平均厚度为5nm至1,000nm。
6.如前述权利要求中任一项所述的气体分离膜，其中，所述附加层(iii)的式(1)基团的m的原子％的平均值在其整个深度上基本恒定。
7.如前述权利要求中任一项所述的气体分离膜，其包括聚硅氧烷保护层(iv)。
8.如权利要求7所述的气体分离膜，其中，所述保护层(iv)的平均厚度为10nm至10,000nm。
9.一种用于形成前述权利要求中任一项所述的气体分离膜的方法，其包括以下步骤：
10.如权利要求9所述的方法，其中，步...
【专利技术属性】
技术研发人员：S·A·斯塔罗斯京，E·A·M·弗米尔，
申请(专利权)人：富士胶片制造欧洲有限公司，
类型：发明
国别省市：
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