System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种拉伸性优异的PVA光学膜的制备方法技术_技高网

一种拉伸性优异的PVA光学膜的制备方法技术

技术编号:43305816 阅读:0 留言:0更新日期:2024-11-12 16:21
本发明专利技术公开了一种拉伸性优异的PVA光学膜的制备方法,属于PVA光学膜技术领域。PVA光学膜的制备方法包括以下步骤:(1)将PVA树脂和添加剂溶解于溶剂中,掺入碳点制得铸膜原液;(2)将铸膜原液混合均匀后挤出脱泡,经模头流延成型,获得半成品;(3)半成品经干燥导辊预干燥后,进入热处理烘箱烘干定型,获得PVA光学薄膜。通过选用合适聚合度的PVA数值和适宜粒径的碳点制备铸膜原液,并调整铸膜原液中碳点的占比,利用碳点和PVA树脂的交联增韧效果,使发明专利技术制备的PVA光学膜在光学性能影响较小的前提下,具备优异的拉伸性能,解决了拉伸加工过程中断膜问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于pva光学膜,具体涉及一种拉伸性优异的pva光学膜的制备方法。


技术介绍

1、聚乙烯醇(pva)是由乙酸乙烯酯经聚合醇解制成的一种水溶性高分子聚合物,不仅制备简单、成本低廉,还具有优异的亲水性、气体阻隔性、耐酸碱、耐有机溶剂性以及突出的生物安全性和良好的成膜能力。聚乙烯醇光学膜主要用于偏光片的生产,终端产品为各类液晶显示器,如电视、电脑显示器、手机、车载导航与穿戴式电子设备的显示面板。近年来,随着手机、电脑以及液晶显示器不断的薄型化,对pva膜的薄型化也提出了更高的要求,但是薄型的pva膜在拉伸过程中容易断裂,这可能与薄膜内晶粒尺寸较大,相畴均匀性较差相关,结构的非均匀性易造成拉伸过程的应力集中,导致薄膜在碘染拉伸过程出现褶皱甚至断裂。

2、pva光学薄膜的加工采用流延加工工艺,pva溶液体系经溶解釜溶解后,经挤出机及口模挤出,在流延辊及干燥辊上逐渐干燥,最终经热处理形成产品,薄膜晶体形态结构,如晶体大小及均匀性决定了薄膜在下游拉伸过程中的可拉伸性能、断膜情况,因此如何降低晶体尺寸、提高晶体大小的均匀性是解决薄型pva光学基膜下游加工过程易断膜等问题的关键。

3、针对断膜问题,现有方法中,可以通过晶粒细化的方式提高材料内部结构的均匀性,对提高拉伸性能有一定的效果。但是这一方法通常会带来其他性能的损失,其他问题的出现,如染色性能变差,表观缺陷变多等,因此需要通过别的途径来提高材料内部网络结构均匀性,提高可拉伸性能,配方的调整通常不会对工艺造成太大的影响,对其他性能也影响较小,是提高可拉伸性能并保证其他综合性能优异的不错选择。


技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种拉伸性优异的pva光学膜的制备方法,以提高pva光学膜的可拉伸性能。

2、本专利技术的目的可以通过以下技术方案实现:

3、一种拉伸性优异的pva光学膜的制备方法,包括以下步骤:

4、(1)将pva树脂和添加剂溶解于溶剂中,掺入碳点制得铸膜原液;

5、(2)将铸膜原液混合均匀后挤出脱泡,经模头流延成型,获得半成品;

6、(3)半成品经干燥导辊预干燥后,进入热处理烘箱烘干定型,获得pva光学薄膜。

7、进一步地,所述pva光学薄膜的厚度<45μm。

8、进一步地,所述碳点的平均粒径为5nm-50nm,优选为10nm-25nm。

9、碳点粒径太小会造成碳点与pva分子链的相互作用的位点变少,交联作用变小,不利于完善材料网络结构的均匀性;粒径太大会影响pva光学膜的光学性能及后续偏光片碘染过程,造成基膜透过率降低、雾度增加,偏光片的色相及其均匀性变差。

10、进一步地,所述铸膜原液中碳点的质量占比为0.003%-0.15%,优选为0.025%-0.075%。碳点含量过高会造成材料内部交联度过高,模量增大,下游拉伸加工张力过大,反而更易断膜;碳点含量过低则无法形成足够的交联作用,无法有效提升材料的拉伸性能。

11、进一步地,所述铸膜原液中pva树脂的聚合度为1200-4000,优选为1700-3000。

12、聚合度过低,制备的pva分子链本身的物理交联网络稳定性越差,碳点的交联效果越不明显,越不利于拉伸性能的改善;过高会引起交联过度,加工过程拉伸张力过大,进而造成断裂。

13、进一步地,所述铸膜原液中pva树脂的醇解度为90-99.9%,优选为99-99.9%。

14、醇解度过低,制备的pva分子链氢键含量越低,能与碳点相互作用的位点越少,交联效果越差,网络稳定性越差,不利于拉伸性能的改善,此外醇解度过低,溶解性也将变差,pva光学性能也会变差,制得薄膜在水中的软化温度过低,对下游生产偏光片造成不利影响。

15、进一步地,所述半成品预干燥后含水量为8-15%。

16、含水量过低会引起薄膜在流延成型和预干燥段的结晶过度,形成大而多的晶体,这些晶体因空间位阻的影响会限制分子链的运动,不利于碳点交联网络的形成,使其改善拉伸性能的效果变差;含水量过高不利于后续热处理工序的进行,易出现滴水滴、甘油等问题。

17、进一步地,所述铸膜原液中添加剂为增塑剂、表面活性剂和抗氧剂;

18、所述增塑剂为甘油、二聚甘油、多聚甘油、乙二醇和丙二醇中的至少一种;

19、所述铸膜原液中增塑剂质量占比为3-5%;

20、所述铸膜原液中表面活性剂质量占比为0.1-0.5‰。

21、增塑剂和表面活性剂过多会析出,导致薄膜光学性能变差。

22、进一步地,所述铸膜原液中溶质的质量分数为20-40%,优选为30~35%。

23、本专利技术的有益效果:

24、本专利技术从配方角度出发,基于碳点的纳米效应以及其表面含有大量的羟基和羧基等极性基团,可以与pva羟基形成微交联,并与pva晶体的物理交联网络构成双交联网络达到增韧的效果,在拉伸时双网络具有不同的强度,较弱的网络断裂,耗散大量能量,而另一个网络维持基础结构稳定性,大幅提高薄膜的断裂伸长率。选用具有一定特性的光学膜原料并控制配比,完善pva网络,提高其可拉伸性能,解决了偏光膜染色拉伸中易断膜的问题,且对pva光学膜的其他性能影响较小。

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【技术保护点】

1.一种拉伸性优异的PVA光学膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种拉伸性优异的PVA光学膜的制备方法,其特征在于,所述PVA光学薄膜的厚度<45μm。

3.根据权利要求1所述的一种拉伸性优异的PVA光学膜的制备方法,其特征在于,所述碳点的平均粒径为5nm-50nm。

4.根据权利要求1所述的一种拉伸性优异的PVA光学膜的制备方法,其特征在于,所述碳点的平均粒径为10nm-25nm。

5.根据权利要求1所述的一种拉伸性优异的PVA光学膜的制备方法,其特征在于,所述铸膜原液中碳点的质量占比为0.003%-0.15%。

6.根据权利要求1所述的一种拉伸性优异的PVA光学膜的制备方法,其特征在于,所述铸膜原液中碳点的质量占比0.025%-0.075%。

7.根据权利要求1所述的一种拉伸性优异的PVA光学膜的制备方法,其特征在于,所述铸膜原液中PVA树脂的聚合度为1200-4000。

8.根据权利要求1所述的一种拉伸性优异的PVA光学膜的制备方法,其特征在于,所述铸膜原液中PVA树脂的聚合度为1700-3000。

9.根据权利要求1所述的一种拉伸性优异的PVA光学膜的制备方法,其特征在于,所述铸膜原液中溶质的质量分数为20-40%。

10.根据权利要求1所述的一种拉伸性优异的PVA光学膜的制备方法,其特征在于,所述铸膜原液中溶质的质量分数为25-35%。

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【技术特征摘要】

1.一种拉伸性优异的pva光学膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种拉伸性优异的pva光学膜的制备方法,其特征在于,所述pva光学薄膜的厚度<45μm。

3.根据权利要求1所述的一种拉伸性优异的pva光学膜的制备方法,其特征在于,所述碳点的平均粒径为5nm-50nm。

4.根据权利要求1所述的一种拉伸性优异的pva光学膜的制备方法,其特征在于,所述碳点的平均粒径为10nm-25nm。

5.根据权利要求1所述的一种拉伸性优异的pva光学膜的制备方法,其特征在于,所述铸膜原液中碳点的质量占比为0.003%-0.15%。

6.根据权利要求1所述的一种拉伸性优...

【专利技术属性】
技术研发人员:张前磊王妍唐成宏李家鸣王小溪王道亮
申请(专利权)人:安徽皖维先进功能膜材料研究院有限公司
类型:发明
国别省市:

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