【技术实现步骤摘要】
本申请有关一种运用于研磨垫状态检测的研磨垫检测装置、系统及方法。
技术介绍
1、研磨垫在化学机械研磨系统上将晶圆使用过后会产生磨耗，而检查磨耗状态通常需要透过人工检查。
2、一般人工检查步骤，例如：外观检查，检查研磨垫的外观，确保其表面平整、无明显的损伤、磨损或污垢。尺寸测量，使用测量工具，如卡尺，测量垫子的尺寸和厚度。
3、然而人工检查也存在一些缺点，例如：主观性，检查结果可能受个人主观因素的影响，不同的检查人员可能会有不同的评估结果，这可能导致检查结果的不一致性。耗时费力，人工检查通常需要耗费大量时间和人力资源，特别是当检查过程需要逐个检查和评估时。
4、有鉴于此，如何以自动化的方式进行研磨垫的检查，以维持检查标准的一致性并且节省时间与人力资源，实为当前亟欲解决的问题之一。
技术实现思路
1、本申请提供一种研磨垫检测装置、系统及方法，其可以维持检查标准的一致性并且节省时间与人力资源。
2、本申请提供一种研磨垫检测装置，与化学机械研磨系统配合，化学机械研磨系统具有研磨垫，研磨垫检测装置包括运算单元；第一光源，与运算单元电性连接，第一光源发射光线，光线照射研磨垫的部分；及第一相机，与运算单元电性连接，第一相机拍摄研磨垫的部分，并产生影像信息。运算单元依据影像信息取得第一灰阶分布，并依据第一灰阶分布判断研磨垫的状态。
3、在某些实施例中，第一相机的中心轴与研磨垫的法线方向间有夹角，夹角大于等于20度且小于等于60度。
...【技术保护点】
1.一种研磨垫检测装置，其特征在于，与至少一种化学机械研磨系统配合，所述化学机械研磨系统具有研磨垫，所述研磨垫检测装置包括：
2.如权利要求1所述的研磨垫检测装置，其特征在于，所述第一相机的中心轴与所述研磨垫的法线方向间有夹角，所述夹角大于等于20度且小于等于60度。
3.如权利要求1所述的研磨垫检测装置，其特征在于，还包括：
4.如权利要求1所述的研磨垫检测装置，其特征在于，还包括：
5.一种研磨垫检测系统，其特征在于，包括：
【技术特征摘要】
1.一种研磨垫检测装置，其特征在于，与至少一种化学机械研磨系统配合，所述化学机械研磨系统具有研磨垫，所述研磨垫检测装置包括：
2.如权利要求1所述的研磨垫检测装置，其特征在于，所述第一相机的中心轴与所述研磨垫的法线方向间有夹角，...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨芷璇，李彦志，
申请(专利权)人：联策科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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