【技术实现步骤摘要】
本技术属于晶体谐振器生产设备,特别是涉及一种晶体谐振器生产的超声波清洗装置。
技术介绍
1、相关技术中,公开了公开号为cn218168018u的一种晶体谐振器生产的超声波清洗装置,包括底座,所述底座上方设置有箱体,所述箱体和所述底座之间通过多个支撑柱进行固定连接,所述箱体内开设有收纳仓,所述收纳仓内腔顶壁固定安装有清洗槽,所述清洗槽内固定安装有间隔板。
2、该装置在清洗的过程中,清洗液会沉积在液体底部,会导致清洗液浓度不均匀,这样就会导致清洗效果不佳,不能够将污垢完全去除,且清洗出的杂质会吸附在该装置的内壁上,吸附在内壁上的杂质会脱落或溶解,并再次污染晶体谐振器,从而降低了该装置对晶体谐振器的清洗效果。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种晶体谐振器生产的超声波清洗装置,解决了该装置在清洗的过程中,清洗液会沉积在液体底部,会导致清洗液浓度不均匀,这样就会导致清洗效果不佳,不能够将污垢完全去除,且清洗出的杂质会吸附在该装置的内壁上,吸附在内壁上的杂质会脱落或溶解,并再次污染晶体谐振器,从而降低了该装置对晶体谐振器清洗效果的问题。
2、为解决上述技术问题,本技术是通过以下技术方案实现的:
3、本技术为一种晶体谐振器生产的超声波清洗装置,包括清洗桶和固定安装在清洗桶底部的超声波发生器,所述清洗桶上设置有搅拌机构、清洗机构和过滤机构;
4、所述搅拌机构包括搅拌组件和刮除组件,所述搅拌组件包括固定套设在清洗桶外壁上的环形块,所述环形块的顶
5、进一步地,所述刮除组件包括固定安装在转轴外壁上的两个固定杆,两个所述固定杆相互远离的一端分别固定安装有刮板,两个所述刮板相互远离的一侧均与清洗桶的内壁相接触。
6、进一步地,所述清洗机构包括开设在环形块上的通槽,所述通槽内设置有挂板,所述挂板的左侧固定安装有放置框,所述挂板的顶部固定安装有拉环。
7、进一步地,所述过滤机构包括排水组件、过滤组件和循环组件,所述排水组件包括设置在清洗桶下方的储水箱,所述储水箱的顶部固定安装有支撑腿,所述支撑腿的顶端均与清洗桶固定连接,所述清洗桶的底部固定安装有排水管,所述排水管的底端与储水箱固定连接,所述排水管上设置有阀门。
8、进一步地,所述过滤组件包括开设在储水箱正面的滑槽,所述滑槽内滑动安装有滤网,所述滤网的正面固定安装有把手。
9、进一步地,所述循环组件包括固定安装在储水箱背面的水泵,所述水泵的吸水端固定安装有吸水管,所述吸水管的末端延伸至储水箱内并与储水箱固定连接,所述水泵的出水端固定安装有出水管,所述出水管的末端延伸至清洗桶内并与清洗桶固定连接。
10、本技术具有以下有益效果:
11、通过设置有搅拌机构,当需要对晶体谐振器进行清洗时,将需要的清洗液加入清洗桶内,再启动电机,电机带动转轴转动,转轴转动后带动安装块转动,安装块转动后带动连接杆和叶轮转动,叶轮转动后,不仅能够将清洗液与水进行充分搅拌,且在清洗时能够防止清洗剂沉积在液体底部,能够避免清洗液浓度不均匀情况的发生,从而提高了该装置对晶体谐振器的清洗效果,当转轴在转动时,能够带动固定杆和刮板转动,在刮板的转动效果下,能够将吸附在清洗桶内壁上的杂质刮除干净,从而保证了该装置下一次对晶体谐振器的清洗质量;
12、通过设置有清洗机构和过滤机构,将需要清洗的晶体谐振器放入到放置框上,再将挂板挂到通槽上,从而将晶体谐振器放入清洗桶内,再启动超声波发生器,超声波发生器产生超声波,产生的超声波在清洗液中形成高频振动,这些超声波振动产生的微小气泡会在液体中破裂,产生冲击力和微流动,有效去除晶体谐振器表面的污物和杂质,清洗过一次的水通过排水管流入储水箱内,滤网将进入储水箱内水中的杂质进行过滤,过滤后的水被水泵吸入到清洗桶内,进行二次使用,从而能够避免对水资源造成浪费。
13、当然,实施本技术的任一产品并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种晶体谐振器生产的超声波清洗装置,包括清洗桶(1)和固定安装在清洗桶(1)底部的超声波发生器(101),其特征在于:所述清洗桶(1)上设置有搅拌机构、清洗机构和过滤机构;
2.根据权利要求1所述的一种晶体谐振器生产的超声波清洗装置,其特征在于,所述刮除组件包括固定安装在转轴(6)外壁上的两个固定杆(10),两个所述固定杆(10)相互远离的一端分别固定安装有刮板(11),两个所述刮板(11)相互远离的一侧均与清洗桶(1)的内壁相接触。
3.根据权利要求1所述的一种晶体谐振器生产的超声波清洗装置,其特征在于,所述清洗机构包括开设在环形块(2)上的通槽(12),所述通槽(12)内设置有挂板(13),所述挂板(13)的左侧固定安装有放置框(14),所述挂板(13)的顶部固定安装有拉环(15)。
4.根据权利要求1所述的一种晶体谐振器生产的超声波清洗装置,其特征在于,所述过滤机构包括排水组件、过滤组件和循环组件,所述排水组件包括设置在清洗桶(1)下方的储水箱(16),所述储水箱(16)的顶部固定安装有支撑腿(161),所述支撑腿(161)的顶端均与
5.根据权利要求4所述的一种晶体谐振器生产的超声波清洗装置,其特征在于,所述过滤组件包括开设在储水箱(16)正面的滑槽(19),所述滑槽(19)内滑动安装有滤网(20),所述滤网(20)的正面固定安装有把手(21)。
6.根据权利要求4所述的一种晶体谐振器生产的超声波清洗装置,其特征在于,所述循环组件包括固定安装在储水箱(16)背面的水泵(22),所述水泵(22)的吸水端固定安装有吸水管(23),所述吸水管(23)的末端延伸至储水箱(16)内并与储水箱(16)固定连接,所述水泵(22)的出水端固定安装有出水管(24),所述出水管(24)的末端延伸至清洗桶(1)内并与清洗桶(1)固定连接。
...【技术特征摘要】
1.一种晶体谐振器生产的超声波清洗装置,包括清洗桶(1)和固定安装在清洗桶(1)底部的超声波发生器(101),其特征在于:所述清洗桶(1)上设置有搅拌机构、清洗机构和过滤机构;
2.根据权利要求1所述的一种晶体谐振器生产的超声波清洗装置,其特征在于,所述刮除组件包括固定安装在转轴(6)外壁上的两个固定杆(10),两个所述固定杆(10)相互远离的一端分别固定安装有刮板(11),两个所述刮板(11)相互远离的一侧均与清洗桶(1)的内壁相接触。
3.根据权利要求1所述的一种晶体谐振器生产的超声波清洗装置,其特征在于,所述清洗机构包括开设在环形块(2)上的通槽(12),所述通槽(12)内设置有挂板(13),所述挂板(13)的左侧固定安装有放置框(14),所述挂板(13)的顶部固定安装有拉环(15)。
4.根据权利要求1所述的一种晶体谐振器生产的超声波清洗装置,其特征在于,所述过滤机构包括排水组件、过滤组件和循环组件,所述排水组件包括设置在清洗桶(1...
【专利技术属性】
技术研发人员:黄作栋,薛涛,
申请(专利权)人:日照汇达电子有限公司,
类型:新型
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。