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基板处理装置制造方法及图纸

技术编号:43246537 阅读:5 留言:0更新日期:2024-11-05 17:30
基板处理装置具备处理块、两个开闭器以及两个基板交接机器人。处理块具有基板入口及基板出口,在基板入口接收未处理的基板,并对基板进行预先设定的处理。处理后的基板被引导至基板出口。一方的开闭器在与基板入口对应的位置将收纳有未处理的基板的一前开式晶圆传送盒的盖打开。一方的基板交接机器人从一前开式晶圆传送盒取出基板,并移交到处理块的基板入口。另一方的开闭器在与基板出口对应的位置将空的另一前开式晶圆传送盒的盖打开。另一方的基板交接机器人从处理块的基板出口接收基板,并插入另一前开式晶圆传送盒。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及一种在处理槽中处理多张基板的基板处理装置


技术介绍

1、为了对半导体基板、液晶显示设备或有机el(electro luminescence:电致发光)显示设备等fpd(flat panel display:平板显示器)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、磁光盘用基板、光掩模用基板、陶瓷基板或太阳能电池用基板等基板进行各种处理,使用基板处理装置。

2、作为这样的基板处理装置,具有将多张基板浸渍于在处理槽中所贮存的处理液中而进行蚀刻等处理的批量式的基板处理装置。例如,专利文献1记载的批量式的基板处理装置包括前开式晶圆传送盒保持部、基板处理部以及搬入搬出机构。前开式晶圆传送盒保持部构成为可以保持前开式晶圆传送盒(foup:front opening unified pod)。前开式晶圆传送盒是构成为可以以多张基板在上下方向上以预定间距排列的方式,将多张基板一边以水平姿势保持一边收纳的收纳器。前开式晶圆传送盒具有用于从前开式晶圆传送盒的外部对该前开式晶圆传送盒的内部空间进行访问的开口以及用于将该开口开闭的盖。在前开式晶圆传送盒保持部设置有用于将由前开式晶圆传送盒保持部所保持的前开式晶圆传送盒的盖开闭的开闭器。

3、在该基板处理装置中,收纳有未处理的多张基板的前开式晶圆传送盒被供给并保持于前开式晶圆传送盒保持部。在该状态下,通过开闭器打开前开式晶圆传送盒的盖,且通过搬入搬出机构从前开式晶圆传送盒取出多张基板。从前开式晶圆传送盒取出的多张基板被移交到基板处理部,实施预定的处理。被取出了多张基板的空的前开式晶圆传送盒从前开式晶圆传送盒保持部退避。

4、基板处理部处理后的多张基板由搬入搬出机构接收。此时,应收纳处理后的多张基板的空的前开式晶圆传送盒保持于前开式晶圆传送盒保持部。另外,该前开式晶圆传送盒的盖被打开。在该状态下,处理后的多张基板由搬入搬出机构插入空的前开式晶圆传送盒内。收纳有处理后的多张基板的前开式晶圆传送盒从基板处理装置被搬出。

5、专利文献1:日本特开2011-238945号公报


技术实现思路

1、专利技术所要解决的课题

2、在专利文献1的基板处理装置中,由前开式晶圆传送盒保持部及搬入搬出机构进行从前开式晶圆传送盒取出未处理的多张基板的动作以及将处理后的多张基板收纳于前开式晶圆传送盒内的动作。该情况下,无法并行地进行未处理的多张基板相对于基板处理部的搬入动作以及处理后的多张基板相对于基板处理部的搬出动作。因此,多张基板的处理速度受基板的搬入动作及搬出动作限制。

3、本专利技术的目的在于提供一种可以抑制因基板的搬入动作及搬出动作而引起的基板处理的产能的降低的基板处理装置。

4、用于解决课题的方案

5、(1)根据本专利技术的一方案的基板处理装置具备:处理块,其具有基板入口及基板出口,在基板入口接收未处理的基板,且对接收到的基板进行预先设定的处理,并且将处理后的基板引导至基板出口;第一开闭器,其设置于与基板入口对应的位置,支撑收纳有未处理的多张基板的第一基板容器,并且将第一基板容器的盖开闭;第一基板交接部,其从由第一开闭器打开了盖的第一基板容器取出未处理的多张基板,并将取出的多张基板移交到处理块的基板入口;第二开闭器,其设置于与基板出口对应的位置,支撑空的第二基板容器,并且将第二基板容器的盖开闭;以及第二基板交接部,其从处理块的基板出口接收处理后的多张基板,并将接收到的多张基板插入由第二开闭器打开了盖的第二基板容器。

6、在该基板处理装置中,在与处理块的基板入口对应的位置由第一开闭器将第一基板容器的盖开闭。在第一基板容器的盖打开的状态下,从第一基板容器取出未处理的多张基板,并通过基板入口移交到处理块。

7、在处理块中,对未处理的多张基板分别进行预先设定的处理。在与处理块的基板出口对应的位置由第二开闭器将第二基板容器的盖开闭。在第二基板容器的盖打开的状态下,从处理块的基板出口接收处理后的多张基板,并插入第二基板容器。

8、如上所述,独立地进行将未处理的多张基板移交到处理块的动作和从处理块接收处理后的多张基板的动作。该情况下,可以与第一基板容器的盖的开闭动作及从第一基板容器取出基板的动作并行地进行第二基板容器的盖的开闭动作及向第二基板容器插入基板的动作。由此,可防止基板处理装置中的多张基板的处理的流程受基板处理装置中的多张基板的搬入动作及搬出动作限制。因此,可抑制因基板的搬入动作及搬出动作而引起的产能的降低。

9、(2)也可以是,处理块包括:搬送机构,其沿从基板入口到基板出口的预先设定的搬送路径搬送构成为能够收纳多张基板的载体;以及处理单元,其设置于搬送路径上,在多张基板被收纳于载体的状态下对收纳于该载体的多张基板进行预先设定的处理,第一基板交接部在空的载体位于基板入口的状态下从第一基板容器取出未处理的多张基板,并将所取出的多张基板插入载体,第二基板交接部在收纳有处理后的多张基板的载体位于基板出口的状态下从载体取出处理后的多张基板,并将所取出的多张基板插入第二基板容器。

10、该情况下,在处理块中,对收纳于载体的多张基板进行预先设定的处理。由此,在处理块中,可抑制多张基板分别由多个搬送装置搬送,因此可抑制因基板处理装置的多个结构部件接触多张基板的每一个而引起的各基板的清洁度的降低。

11、另外,根据上述结构,独立地进行从第一基板容器向空的载体转移未处理的多张基板的转移动作和从收纳有处理后的多张基板的载体向第二基板容器转移多张基板的转移动作。由此,可以并行地进行这些转移动作。其结果,可抑制因基板的搬入动作及搬出动作而引起的产能的降低。

12、(3)也可以是,处理单元包括:处理槽,其贮存与预先设定的处理对应的处理液;以及升降机,其构成为能够将由搬送机构搬送的载体浸渍于处理槽的处理液以及将浸渍于处理液的载体从处理槽拉起。

13、该情况下,收纳多张基板的载体被浸渍于处理液,由此对收纳于载体的多张基板进行共通的处理。

14、(4)也可以是,基板处理装置还具备基板搬入搬出部,该基板搬入搬出部构成为能够将多张基板搬入且能够将多张基板搬出,处理块构成为,在俯视下,基板入口和基板出口在第一方向上相邻,就基板搬入搬出部而言,包括第一开闭器、第二开闭器、第一基板交接部以及第二基板交接部,并且,设置成,在俯视下与处理块的基板入口及基板出口相接,且在俯视下与处理块在与第一方向交叉的第二方向上相邻。

15、该情况下,在基板处理装置中,无需使多张基板的搬入位置与多张基板的搬出位置大幅隔开。因此,在基板处理装置的外部,容易将多张基板相对于基板处理装置的搬入路径和多张基板相对于基板处理装置的搬出路径共通化。

16、(5)也可以是,基板搬入搬出部具备:多个基板容器载置部,其能够保持包括第一基板容器及第二基板容器的多个基板容器;以及基板容器搬送装置,其构成为能够在多个基板容器载置部与第一开闭器之间以及多个基板容器载置部与第二开闭器之间搬本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基板处理装置,其特征在于,具备:

2.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,

3.根据权利要求2所述的基板处理装置,其特征在于,

4.根据权利要求1~3中任一项所述的基板处理装置,其特征在于,

5.根据权利要求4所述的基板处理装置,其特征在于,

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种基板处理装置,其特征在于,具备:

2.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,

3.根据权利要求2所述的基板处理装置...

【专利技术属性】
技术研发人员:天久贤治谷口进一岩崎旭纮
申请(专利权)人:株式会社斯库林集团
类型:发明
国别省市:

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