【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于hud膜，具体涉及一种含有nb2o5的hud膜及其制备工艺。
技术介绍
1、hud(head-up display，抬头显示系统)，是一项从军事领域演变而来的技术，其特点是可以把一些重要的战术信息显示在战斗机正常观察方向的视野范围内，而同时又不会影响驾驶员对于环境的注意，驾驶员也不用总是转移视线去专门观察仪表板上的指针和数据。
2、目前该项技术应用到汽车前风挡玻璃，通过在前风挡玻璃上设置hud膜，能够把时速、导航等重要的行车信息，投影到驾驶员前面的风挡玻璃上，让驾驶员尽量做到不低头、不转头就能看到时速、导航等重要的驾驶信息,以提升驾驶安全性。
3、针对上述hud膜的应用，对hud膜的光学性能提出了更高的要求。通常需要在保证hud膜透过性的前提下，进一步地提升hud膜的反射性，以增强驾驶信息的投射效果，从而提高驾驶的安全性。
4、因此，针对上述技术问题，有必要提供一种含有nb2o5的hud膜及其制备工艺。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种含有nb2o5的hud膜及其制备工艺，其能够在确保hud膜的透过性的前提下，进一步地提升hud膜的反射性。
2、为了实现上述目的，本专利技术一具体实施例提供的技术方案如下：
3、在本专利技术的一个或多个实施例中提供一种含有nb2o5的hud膜，包括依次层叠设置的基材层、镀si层、nb2o5层、金属层以及sio2层，所述sio2层通过磁控镀膜溅射工艺形成，所述磁控镀
4、在本专利技术的一个或多个实施例中，所述nb2o5层的厚度范围为15-136nm。
5、在本专利技术的一个或多个实施例中，所述混合靶中，硅占比82-98％，铝占比18-2％。
6、在本专利技术的一个或多个实施例中，所述混合气体还包括氮气。
7、在本专利技术的一个或多个实施例中，所述混合气体中，氩气占比60-80％，氮气占比20-35％，氧气占比5-10％。
8、在本专利技术的一个或多个实施例中，所述sio2层的厚度范围为31-220nm。
9、在本专利技术的一个或多个实施例中，所述金属层为镍铬层，所述金属层的厚度范围为5-80nm。
10、在本专利技术的一个或多个实施例中还提供一种用于制备上述的含有nb2o5的hud膜的制备工艺，包括以下步骤：
11、在所述基材层上通过磁控镀膜溅射工艺依次镀设镀si层、nb2o5层、金属层以及sio2层；
12、其中，在镀设sio2层步骤中，还包括以下步骤：
13、提供包括硅和铝的混合靶以及包括氩气和氧气的混合气体；
14、对镀膜室抽真空，并驱动混合靶在所述镀膜室中旋转；
15、启动靶材溅射沉积，通过所述混合气体轰击混合靶。
16、在本专利技术的一个或多个实施例中，在对镀膜室抽真空步骤中，在对镀膜室抽真空步骤中，控制所述镀膜室的真空度小于1×10-4pa、水汽值小于9×10-5pa。
17、在本专利技术的一个或多个实施例中，在镀设sio2层步骤中，混合靶设置为匀速旋转。
18、与现有技术相比，本专利技术通过设置nb2o5层、以及通过包括氩气和氧气的混合气体轰击包括硅和铝的混合靶形成sio2层，使得最终形成的hud膜透过性稳定，且p光和s光的反射效果好，同时还具有较好的环测效果。因此，本专利技术涉及的hud膜能够提高驾驶信息的投射效果，从而提高驾驶的安全性。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种含有Nb2O5的HUD膜，其特征在于，包括依次层叠设置的基材层、镀Si层、Nb2O5层、金属层以及SiO2层，所述SiO2层通过磁控镀膜溅射工艺形成，所述磁控镀膜溅射工艺中选用的靶材为包括硅和铝的混合靶，轰击所述靶材的反应气体为包括氩气和氧气的混合气体。
2.根据权利要求1所述的含有Nb2O5的HUD膜，其特征在于，所述Nb2O5层的厚度范围为15-136nm。
3.根据权利要求1所述的含有Nb2O5的HUD膜，其特征在于，所述混合靶中，硅占比82-98％，铝占比18-2％。
4.根据权利要求1所述的含有Nb2O5的HUD膜，其特征在于，所述混合气体还包括氮气。
5.根据权利要求4所述的含有Nb2O5的HUD膜，其特征在于，所述混合气体中，氩气占比60-80％，氮气占比20-35％，氧气占比5-10％。
6.根据权利要求1所述的含有Nb2O5的HUD膜，其特征在于，所述SiO2层的厚度范围为31-220nm。
7.根据权利要求1所述的含有Nb2O5的HUD膜，其特征在于，所述金属层为镍铬层，所述金属层
8.一种用于制备权利要求1-7任一项所述的含有Nb2O5的HUD膜的制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：
9.根据权利要求8所述的含有Nb2O5的HUD膜的制备工艺，其特征在于，在对镀膜室抽真空步骤中，控制所述镀膜室的真空度小于1×10-4pa、水汽值小于9×10-5pa。
10.根据权利要求8所述的含有Nb2O5的HUD膜的制备工艺，其特征在于，在镀设SiO2层步骤中，混合靶设置为匀速旋转。
...【技术特征摘要】
1.一种含有nb2o5的hud膜，其特征在于，包括依次层叠设置的基材层、镀si层、nb2o5层、金属层以及sio2层，所述sio2层通过磁控镀膜溅射工艺形成，所述磁控镀膜溅射工艺中选用的靶材为包括硅和铝的混合靶，轰击所述靶材的反应气体为包括氩气和氧气的混合气体。
2.根据权利要求1所述的含有nb2o5的hud膜，其特征在于，所述nb2o5层的厚度范围为15-136nm。
3.根据权利要求1所述的含有nb2o5的hud膜，其特征在于，所述混合靶中，硅占比82-98％，铝占比18-2％。
4.根据权利要求1所述的含有nb2o5的hud膜，其特征在于，所述混合气体还包括氮气。
5.根据权利要求4所述的含有nb2o5的hud膜，其特征在于，所述混合气体中，氩气占比60-80％，氮...
【专利技术属性】
技术研发人员：高毓康，陈超，王志坚，陈涛，赵飞，
申请(专利权)人：浙江日久新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。