【技术实现步骤摘要】
本申请涉及半导体加工设备，尤其涉及的是一种去镓装置。
技术介绍
1、micro led(micro light emitting diode，微型发光二极管)是在生长基板上生长得到的，微型发光二极管在生长基板上外延生长完成后，需要通过激光将微型发光二极与生长基板分离，使氮化镓在900℃～1000℃条件下，热分解形成金属镓和氮气；分离后的micro led则会通过胶层粘附在暂态基板上，最终通过暂态基板将micro led转移至目标基板；然而，激光剥离后粘附在暂态基板上的micro led表面上，往往存在大量需要去除的镓残留。
2、现有去镓装置，通过设置为流水线排列的若干容置有不同药剂的清洗槽，去镓时暂态基板承载若干micro led依次在清洗槽中进行静态浸泡洗，或者，将直接水流覆盖动态冲洗暂态基板上若干micro led；也就是说，现有去镓装置要么清洁流程复杂，去镓效率低，要么是直接瀑流清洗，容易伤损若干micro led。
3、因此，如何现有技术存在缺陷与不足，有待进一步改进与发展。
技术实现思路
1、鉴于现有技术的不足，本申请目的在于提供一种去镓装置，旨在解决现有技术中micro led的去镓装置去镓效率差且容易伤损若干micro led的问题。
2、本申请解决技术问题所采用的技术方案如下：一种去镓装置，用于去除micro led上的镓，其包括：
3、装置本体，设有清洁腔；
4、旋转平台，设于所述清洁腔中，用于承载待清洁
5、第一雾化清洗部件，设于所述清洁腔中，用于朝向所述旋转平台雾化喷洒去镓液；
6、第二雾化清洗部件，设于所述清洁腔中，用于朝向所述旋转平台雾化喷洒清洗液；
7、气吹部件，设于所述清洁腔中，用于朝向所述旋转平台吹气；
8、其中，所述旋转平台在所述第一雾化清洗部件、第二雾化清洗部件和气吹部件之间旋转循环。
9、上述实施方式中，通过旋转平台，使得待清洁物料可在清洁腔中依次完成去镓、清洗和风干，简化了去镓流程，提升了去镓效率；通过第一雾化部件和第二雾化部件，以雾化方式向micro led喷洒去镓液和清洗液，避免去镓液和清洗液强流直喷损坏micro led。
10、可选的，所述旋转平台包括：
11、旋转底座，设于所述清洁腔中；
12、倾斜放置台，设于所述旋转底座上，所述倾斜放置台上开设有若干真空孔，所述真空孔外接有负压源，所述倾斜放置台用于承载待清洁物料；
13、其中，所述第一雾化清洗部件朝向所述倾斜放置台雾化喷洒去镓液，所述第二雾化清洗部件朝向所述倾斜放置台雾化喷洒去镓液，所述气吹部件用于朝向所述旋转平台吹气。
14、上述实施方式中，通过真空孔将待清洁物料负压吸附的形式固定在倾斜放置台；同时，倾斜放置台可以快速的将去镓液和清洗液自所述micro led上流出，进一步的提升去镓效率；通过旋转底座带动所述倾斜放置台转动，使得的待清洁物料依次经过均位于清洁腔中的去镓、清洗和风干工位，更进一步的提升去镓效率。
15、可选的，所述旋转底座的背离所述倾斜放置台的一端环设有汇流槽，所述汇流槽中设置有若干废液排出孔；
16、所述去镓装置还包括废液排出管，所述废液排出管的一端位于所述装置本体外部，所述废液排出管的另一端位于所述清洁腔内，且与若干所述废液排出孔均连接。
17、上述实施方式中，通过汇流槽将倾斜放置台和旋转底座上留下的废液汇集，然后通过汇流槽中的若干废液排出孔可以将废液快速流入废液排出管中，并通过废液排出管排出清洁腔，避免废液在清洁腔中积聚污染待清洁物料。
18、可选的，所述第一雾化清洗部件包括：
19、第一雾化喷头，设于所述清洁腔中，用于朝向所述旋转平台雾化喷洒去镓液；
20、第一导管，与所述第一雾化喷头连接，用于向所述第一雾化喷头输送去镓液；
21、第一流量控制阀门，串接于所述第一导管上，用于控制所述第一导管中去镓液的流量；
22、第一流量仪，串接于所述第一导管上，用于检测所述第一导管中去镓液的流量。
23、上述实施方式中，通过第一雾化喷头可以将去镓液雾化，通过雾化方式喷洒在待清洁物料上，相对于液流直接冲洗，既可以提升去镓液在待清洁物料上的分布均匀性，又能保护待清洁物料的结构。
24、可选的，所述第二雾化清洗部件还包括：
25、第一温度传感器，设于所述第一导管上，用于检测所述第一导管中的去镓液的温度；
26、第一加热器，设于所述第一导管中，用于加热流经所述第一导管中的去镓液。
27、上述实施方式中，通过第一温度传感器可以检测去镓液的温度，通过第一加热器可以对去镓液进行加热，进而在通过去镓液去除镓的同时，还可以通过热溶解镓，进而双重去除镓，保障去镓的效果。
28、可选的，所述第二雾化清洗部件包括：
29、第二雾化喷头，设于所述清洁腔中，用于朝向所述旋转平台雾化喷洒清洗液；
30、第二导管，与所述第二雾化喷头连接，用于向所述第二雾化喷头输送清洗液；
31、第二流量控制阀门，串接于所述第二导管上，用于控制所述第二导管中清洗液的流量；
32、第二流量仪，串接于所述第二导管上，用于检测所述第二导管中清洗液的流量。
33、上述实施方式中，通过第二雾化喷头可以将清洗液雾化，通过雾化方式喷洒在待清洁物料上，相对于液流直接冲洗，既可以提升清洗液在待清洁物料上的分布均匀性，又能保护待清洁物料的结构。
34、可选的，所述第二雾化清洗部件还包括：
35、第二温度传感器，设于所述第二导管上，用于检测所述第二导管中的清洗液的温度；
36、第二加热器，设于所述第二导管中，用于加热流经所述第二导管中的清洗液。
37、上述实施方式中，通过第二温度传感器可以检测清洗液的温度，通过第二加热器可以对去清洗液进行加热，进而在通过清洗液清洗残留的去镓液的同时，还可以通过热溶解镓，进一步的去除镓，提升去镓的效果。
38、可选的，所述气吹部件包括：
39、气吹喷头，设于所述清洁腔中，用于朝向所述旋转平台吹气；
40、供气管，与所述气吹喷头连接，用于向所述气吹喷头供气；
41、气流量控制阀门，串接于所述供气管中，用于控制所述供气管中的气流的流量。
42、上述实施方式中，通过设置气吹喷头，可以对去镓液和清洗液处理后的物料进行风干，提升去镓效率。
43、可选的，所述气吹部件还包括：
44、气体温度传感器，与所述供气管连接，用于检测所述供气管中的气流的温度；
45、气体加热器，与所述供气管连接，用于对流经所述供气管中的气流。
46、上述实施方式中，通过气体温度传感器可以检测气吹喷嘴吹出的气流温度，本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种去镓装置，用于去除Micro LED上的镓，其特征在于，去镓装置包括：
2.根据权利要求1所述的去镓装置，其特征在于，所述旋转平台包括：
3.根据权利要求2所述的去镓装置，其特征在于，
4.根据权利要求1所述的去镓装置，其特征在于，所述第一雾化清洗部件包括：
5.根据权利要求4所述的去镓装置，其特征在于，所述第二雾化清洗部件还包括：
6.根据权利要求1所述的去镓装置，其特征在于，所述第二雾化清洗部件包括：
7.根据权利要求6所述的去镓装置，其特征在于，所述第二雾化清洗部件还包括：
8.根据权利要求1所述的去镓装置，其特征在于，所述气吹部件包括：
9.根据权利要求8所述的去镓装置，其特征在于，所述气吹部件还包括：
10.根据权利要求1-9任一项所述的去镓装置，其特征在于，所述去镓装置还包括气体排出管，所述气体排出管的一端位于所述装置本体外部，所述气体排出管的另一端位于所述清洁腔的顶部处。
【技术特征摘要】
1.一种去镓装置，用于去除micro led上的镓，其特征在于，去镓装置包括：
2.根据权利要求1所述的去镓装置，其特征在于，所述旋转平台包括：
3.根据权利要求2所述的去镓装置，其特征在于，
4.根据权利要求1所述的去镓装置，其特征在于，所述第一雾化清洗部件包括：
5.根据权利要求4所述的去镓装置，其特征在于，所述第二雾化清洗部件还包括：
6.根据权利要求1所述的去镓装置，其特征在于，所述第...
【专利技术属性】
技术研发人员：梁汉勤，麦轩伟，萧俊龙，
申请(专利权)人：重庆康佳光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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