一种无电晕离型光膜及其制备方法技术

技术编号：43207465 阅读：8 留言：0更新日期：2024-11-01 20:25

本发明专利技术提供一种无电晕离型光膜及其制备方法，涉及离型膜制备技术领域。一种无电晕离型光膜，包括上表层、芯层、下表层。所述的上表层包括以下重量份的原料：35～50份聚烯烃、5～20份改性聚乙烯、2～8份抗静电剂、0.1～0.3份抗氧剂。所述的芯层包括以下重量份的原料：65～80份聚烯烃、0.5～1份抗静电剂、1～2份爽滑剂。所述的下表层包括以下重量份的原料：40～60份聚丙烯、1～5份二氧化硅。本发明专利技术提供的无电晕离型光膜不需要进行电晕处理，具有适中的润湿张力。

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【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及离型膜制备，尤其涉及一种无电晕离型光膜及其制备方法。

技术介绍

1、离型光膜是将光膜表面纹理转移到板材、皮革等表面的薄膜。转移后的板材和皮革表面具有非常亮的光泽度和平整度，减少员工的操作，能够大批量的生产，节约成本，满足百姓的需求。对离型光膜进行电晕处理有助于增加材料的表面张力、增加材料润湿能力，从而提升材料的印刷能力。但是电晕处理大电流作用在材料的表面后，将大量的多余电荷残留于材料表面，导致材料静电太大，从而影响印刷和加工。因此，亟需开发一种无电晕离型光膜，对于离型膜的广泛应用具有重大意义。

技术实现思路

1、基于
技术介绍
存在的技术问题，本专利技术提出了一种无电晕离型光膜及其制备方法。

2、本专利技术提出的一种无电晕离型光膜，包括上表层、芯层、下表层。

3、所述的上表层包括以下重量份的原料：35～50份聚烯烃、5～20份改性聚乙烯、2～8份抗静电剂、0.1～0.3份抗氧剂。

4、所述的芯层包括以下重量份的原料：65～80份聚烯烃、0.5～1份抗静电剂、1～2份爽滑剂。

5、优选地，所述的聚烯烃包括聚丙烯、聚乙烯中的一种或多种。

6、更优选地，所述的聚丙烯、聚乙烯的质量比为(1～3):1。

7、优选地，所述的改性聚乙烯的制备方法，包括以下步骤：

8、将聚乙烯与马来酸酐通过熔融接枝法接枝处理得到马来酸酐接枝聚烯烃，将马来酸酐接枝聚烯烃浸泡在硅烷偶联剂水溶液中，取出、干燥得到改性聚乙烯。</p>

9、更优选地，所述的硅烷偶联剂水溶液选自十二烷基三乙氧基硅烷水溶液、十六烷基三乙氧基硅烷水溶液、辛烷基三乙氧基硅烷水溶液中的一种或多种。

10、更优选地，所述的硅烷偶联剂水溶液的质量分数为1～5wt％。

11、优选地，所述的抗静电剂的制备方法，包括以下步骤：将聚环氧乙烷、氨丙基聚二甲基硅氧烷、溶剂混合均匀得到抗静电剂。

12、更优选地，所述的聚环氧乙烷、氨丙基聚二甲基硅氧烷、溶剂的质量比为(3～10)：(2～4)：10。

13、更优选地，所述的溶剂包括异丙醇、n,n-二甲基甲酰胺、无水乙醇。

14、更优选地，所述的异丙醇、n,n-二甲基甲酰胺、无水乙醇的质量比为(1～2)：(0.5～1)：(0.5～1)。

15、优选地，所述的下表层包括以下重量份的原料：40～60份聚丙烯、1～5份二氧化硅。

16、本专利技术还提出一种无电晕离型光膜的制备方法，包括以下步骤：

17、将上表层、芯层、下表层的原料分别混合均匀、挤出得到熔体；将熔体经复合、铸片、纵拉、横拉、牵引、收卷、分切得到无电晕离型光膜。

18、优选地，所述的铸片的冷却温度为20～30℃。

19、优选地，所述的纵拉的预热温度为65～70℃，拉伸温度为70～90℃，冷却温度为20～40℃。

20、优选地，所述的横拉的预热温度为85～100℃，拉伸段温度为100～140℃，冷却段温度为30～50℃。

21、本专利技术的有益效果在于：

22、本专利技术提供的无电晕离型光膜不需要进行电晕处理，具有适中的润湿张力。离型光膜不进行电晕，会延缓薄膜内部抗静电剂的释放，造成前期离型光膜的静电较大；因此本专利技术对离型光膜的配方进行调整，不仅在上表层添加抗静电剂，同时减少芯层的抗静电剂含量，提高离型光膜的抗静电性；除此之外，本专利技术在上表层中添加改性聚乙烯平衡离型光膜的润湿张力，使得本专利技术制备得到的离型光膜具备适中的润湿张力。

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【技术保护点】

1.一种无电晕离型光膜，其特征在于，包括上表层、芯层、下表层；上表层包括以下重量份的原料：35～50份聚烯烃、5～20份改性聚乙烯、2～8份抗静电剂、0.1～0.3份抗氧剂；芯层包括以下重量份的原料：65～80份聚烯烃、0.5～1份抗静电剂、1～2份爽滑剂。

2.根据权利要求1所述的一种无电晕离型光膜，其特征在于，所述的改性聚乙烯的制备方法，包括以下步骤：将聚乙烯与马来酸酐通过熔融接枝法接枝处理得到马来酸酐接枝聚烯烃，将马来酸酐接枝聚烯烃浸泡在硅烷偶联剂水溶液中，取出、干燥得到改性聚乙烯。

3.根据权利要求2所述的一种无电晕离型光膜，其特征在于，所述的硅烷偶联剂水溶液选自十二烷基三乙氧基硅烷水溶液、十六烷基三乙氧基硅烷水溶液、辛烷基三乙氧基硅烷水溶液中的一种或多种；所述的硅烷偶联剂水溶液的质量分数为1～5wt％。

4.根据权利要求1所述的一种无电晕离型光膜，其特征在于，所述的抗静电剂的制备方法，包括以下步骤：将聚环氧乙烷、氨丙基聚二甲基硅氧烷、溶剂混合均匀得到抗静电剂。

5.根据权利要求4所述的一种无电晕离型光膜，其特征在于，所述的

6.根据权利要求4所述的一种无电晕离型光膜，其特征在于，所述的溶剂包括异丙醇、N,N-二甲基甲酰胺、无水乙醇；所述的异丙醇、N,N-二甲基甲酰胺、无水乙醇的质量比为(1～2)：(0.5～1)：(0.5～1)。

7.根据权利要求1所述的一种无电晕离型光膜，其特征在于，所述的聚烯烃包括聚丙烯、聚乙烯中的一种或多种；所述的聚丙烯、聚乙烯的质量比为(1～3):1。

8.根据权利要求1所述的一种无电晕离型光膜，其特征在于，所述的下表层包括以下重量份的原料：40～60份聚丙烯、1～5份二氧化硅。

9.一种由权利要求1～8任一项所述的无电晕离型光膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：将上表层、芯层、下表层的原料分别混合均匀、挤出得到熔体；将熔体经复合、铸片、纵拉、横拉、牵引、收卷、分切得到无电晕离型光膜。

10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述的铸片的冷却温度为20～30℃；所述的纵拉的预热温度为65～70℃，拉伸温度为70～90℃，冷却温度为20～40℃；所述的横拉的预热温度为85～100℃，拉伸段温度为100～140℃，冷却段温度为30～50℃。

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【技术特征摘要】

5.根据权利要求4所述的一种无电晕离型光膜，其特征在于，所述的聚环氧乙烷、氨丙基聚二甲基硅氧烷、溶剂的质量比为(3～10...

【专利技术属性】
技术研发人员：王兆中，齐传俊，汪永，齐先锋，汪金保，方保国，余健，苏康顺，王健，
申请(专利权)人：安徽金田高新材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：

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