【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种保护膜，具体是一种硬质af膜。
技术介绍
1、显示屏在使用过程中容易产生划痕，例如手机，车载、电视等物件上的玻璃面板与尖锐物品摩擦，导致玻璃面板产生划痕,影响外观。为此，研发人员在显示屏表面镀膜形成af膜层，但随着显示屏(手机，车载、电视等物件上的玻璃面板)与物品(口袋、手指)的频繁摩擦，最后容易导致玻璃盖板上的af膜层脱落。
2、为避免af膜层脱落，常使用sio2或al2o3打底，与af防水药丸结合，产生较好的防水、防划伤效果。但是，这种膜层结构缺少硬质材料，显示屏易产生划痕。如申请号为2023106464278的中国专利，公开了一种硬质膜及其制作方法，其公开的技术方案即采用sio2或al2o3打底，再在最上方设置af层，缺少硬质材料层。再如申请号为2023102894559的中国专利，公开了一种超硬抗刮花涂层盖板的制作方法及盖板，其公开的技术方案在非金属的连接层上采用碳化铝、碳化铬、碳化硅、碳化铌中的一种作为超硬耐刮花层。为了得到更好的测试效果和光学效果，本申请基于现有技术的基础上进行了更好的改进和优化，以此得到了更好的硬质膜。
3、因此，本领域技术人员提供了一种硬质af膜，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种硬质af膜，通过以氮化硅作为硬质层，能够有效抗划伤，避免显示屏产生划痕，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
2、为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：
3、一种硬质af膜
4、作为本技术再进一步的方案：所述硬质层的上方或下方还设有间接层。
5、作为本技术再进一步的方案：所述间接层为金属或非金属镀膜材料；
6、若为金属镀膜材料，则间接层可为al2o3；
7、若为非金属镀膜材料，则间接层可为sio2/si。
8、作为本技术再进一步的方案：所述氮化硅堆叠的层数至少为2层，硬质层堆叠后的厚度≤3000nm。
9、作为本技术再进一步的方案：所述间接层的厚度≥2nm。
10、作为本技术再进一步的方案：所述硬质层和间接层均使用磁控溅射或蒸发工艺设置在基板上。
11、作为本技术再进一步的方案：所述af层通过蒸发或喷涂af的方式,沉积于硬质层或间接层的表面。
12、作为本技术再进一步的方案：所述间接层的厚度小于硬质层的厚度。
13、与现有技术相比，本技术的有益效果是：
14、1、本申请中通过利用氮化硅作为硬质层，具有较高的硬度特点；整体的膜体硬度较高，膜体的莫氏硬度≥6，纳米压痕≥15，维氏硬度≥1500；
15、2、能保持原有光学基准，雾度≤0.18％、b值≤1.2(cm3600)、透过率550nm≥89％；
16、3、膜体具有较好的橡皮摩擦效果，能受住以下测试，橡皮摩擦≥4200次(荷重1kg，)水滴角≥100°，钢丝绒摩擦≥4200次(荷重1kg，1*1cm)水滴角≥90°，耐碱汗24h≥100°；
17、4、该硬质膜适用于手机、车载、电视、穿戴、摄像头等前后玻璃面板。
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1.一种硬质AF膜，包括基板(1)和与其相对设置的AF层(4)，其特征在于，所述基板(1)与AF层(4)之间堆叠有硬质层(3)，硬质层(3)为氮化硅。
2.根据权利要求1所述的一种硬质AF膜，其特征在于，所述硬质层(3)的上方或下方还设有间接层(2)。
3.根据权利要求2所述的一种硬质AF膜，其特征在于，所述间接层(2)为金属或非金属镀膜材料；
4.根据权利要求1-3中任一项所述的一种硬质AF膜，其特征在于，所述氮化硅堆叠的层数至少为2层，硬质层(3)堆叠后的厚度≤3000nm。
5.根据权利要求2或3所述的一种硬质AF膜，其特征在于，所述间接层(2)的厚度≥2nm。
6.根据权利要求2所述的一种硬质AF膜，其特征在于，所述硬质层(3)和间接层(2)均使用磁控溅射或蒸发工艺设置在基板(1)上。
7.根据权利要求2或6所述的一种硬质AF膜，其特征在于，所述AF层(4)通过蒸发或喷涂AF的方式,沉积于硬质层(3)或间接层(2)的表面。
8.根据权利要求5所述的一种硬质AF膜，其特征在于，所述间接层(2
...【技术特征摘要】
1.一种硬质af膜，包括基板(1)和与其相对设置的af层(4)，其特征在于，所述基板(1)与af层(4)之间堆叠有硬质层(3)，硬质层(3)为氮化硅。
2.根据权利要求1所述的一种硬质af膜，其特征在于，所述硬质层(3)的上方或下方还设有间接层(2)。
3.根据权利要求2所述的一种硬质af膜，其特征在于，所述间接层(2)为金属或非金属镀膜材料；
4.根据权利要求1-3中任一项所述的一种硬质af膜，其特征在于，所述氮化硅堆叠的层数至少为2层，硬质层(3)堆叠后的厚度≤3000...
【专利技术属性】
技术研发人员：梁高伟，姬晓峰，杨江涛，严海军，
申请(专利权)人：安徽精卓光显技术有限责任公司，
类型：新型
国别省市：
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