【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及气体分离膜、高分子膜的用途、以及从包含二氧化碳的混合气体中分离二氧化碳的方法。
技术介绍
1、来自于发电站、工厂等的排放气体中所含的二氧化碳被认为是全球变暖的一个原因。因此，研究了从排放气体中分离回收二氧化碳的各种方法。
2、在专利文献1中，作为气体透过性高的高分子膜，公开了作为以硅氧烷键(-si-o-si-)为主链的特定结构的高分子的气体透过膜。
3、另外，聚碳酸酯-聚有机硅氧烷共聚物(以下，有时简记为“pc-pos共聚物")由于其高耐冲击性、耐化学试剂性和阻燃性等优异的性质而备受关注。因此，期待在电气·电子设备领域、汽车领域等各种领域中广泛利用。特别是，在移动电话、移动个人电脑、数码相机、摄像机、电动工具等的壳体和其他日用品中的应用正在扩大。
4、但是，作为用于分离二氧化碳的气体分离膜，尚未研究使用聚碳酸酯-聚有机硅氧烷共聚物。
5、现有技术文献
6、专利文献
7、专利文献1：日本特开2018-15678号公报
技术实现思路
1、专利技术要解决的课题
2、在专利文献1公开的技术中，二氧化碳气体的选择性和透过量不充分。另外，气体透过膜的机械强度不充分。
3、本专利技术涉及二氧化碳的选择性和透过量优异、并且机械强度也优异的、用于从包含二氧化碳的混合气体中分离二氧化碳的气体分离膜。
4、用于解决课题的手段
5、本专利技术人等发现，通过包含特定的聚碳酸酯
6、即，本专利技术涉及下述〔1〕～〔8〕。
7、〔1〕一种气体分离膜，其用于从包含二氧化碳的混合气体中分离二氧化碳，
8、该气体分离膜包含聚碳酸酯-聚有机硅氧烷共聚物(a)，
9、该聚碳酸酯-聚有机硅氧烷共聚物(a)包含聚碳酸酯嵌段(a-1)和聚有机硅氧烷嵌段(a-2)，所述聚碳酸酯嵌段(a-1)仅包含下述通式(i)所示的结构单元的重复，所述聚有机硅氧烷嵌段(a-2)包含下述通式(ii)所示的结构单元的重复，
10、上述聚碳酸酯-聚有机硅氧烷共聚物(a)中的上述聚有机硅氧烷嵌段(a-2)的含量为20质量％以上且70质量％以下。
11、「化学式1]
12、
13、[式中，r1和r2各自独立地表示卤素原子、碳数1～6的烷基或碳数1～6的烷氧基。x表示单键、碳数1～8的烷撑基、碳数2～8的烷叉基、碳数5～15的环烷撑基、碳数5～15的环烷叉基、碳数7～15的芳基烷撑基、碳数7～15的芳基烷叉基、-s-、-so-、-so2-、-o-或-co-。r3和r4各自独立地表示氢、卤素原子、碳数1～6的烷基、碳数1～6的烷氧基或碳数6～12的芳基。a和b各自独立地表示0～4的整数。]
14、〔2〕根据〔1〕中记载的气体分离膜，其中，上述聚有机硅氧烷嵌段(a-2)的平均链长n为20～150。
15、〔3〕根据〔1〕或〔2〕中记载的气体分离膜，其中，上述通式(i)中的a和b为0，x为异丙叉基。
16、〔4〕根据〔1〕～〔3〕中任一项记载的气体分离膜，其中，上述通式(ii)中的r3和r4为甲基。
17、〔5〕根据〔1〕～〔4〕中任一项记载的气体分离膜，其中，二氧化碳的透过系数〔单位：barrer〕与膜厚〔单位：μm〕之积为5.0×103以上。
18、〔6〕根据〔1〕～〔5〕中任一项记载的气体分离膜，其中，上述包含二氧化碳的混合气体为排放气体。
19、〔7〕包含聚碳酸酯-聚有机硅氧烷共聚物(a)的高分子膜用于从包含二氧化碳的混合气体中分离二氧化碳的用途，
20、该聚碳酸酯-聚有机硅氧烷共聚物(a)包含聚碳酸酯嵌段(a-1)和聚有机硅氧烷嵌段(a-2)，所述聚碳酸酯嵌段(a-1)仅包含下述通式(i)所示的结构单元的重复，所述聚有机硅氧烷嵌段(a-2)包含下述通式(ii)所示的结构单元的重复，
21、上述聚碳酸酯-聚有机硅氧烷共聚物(a)中的上述聚有机硅氧烷嵌段(a-2)的含量为20质量％以上且70质量％以下。
22、「化学式2]
23、
24、[式中，r1和r2各自独立地表示卤素原子、碳数1～6的烷基或碳数1～6的烷氧基。x表示单键、碳数1～8的烷撑基、碳数2～8的烷叉基、碳数5～15的环烷撑基、碳数5～15的环烷叉基、碳数7～15的芳基烷撑基、碳数7～15的芳基烷叉基、-s-、-so-、-so2-、-o-或-co-。r3和r4各自独立地表示氢、卤素原子、碳数1～6的烷基、碳数1～6的烷氧基或碳数6～12的芳基。a和b各自独立地表示0～4的整数。]
25、〔8〕一种从包含二氧化碳的混合气体中分离二氧化碳的方法，其中，包括使包含二氧化碳的混合气体与气体分离膜接触的工序，
26、该气体分离膜包含聚碳酸酯-聚有机硅氧烷共聚物(a)，
27、该聚碳酸酯-聚有机硅氧烷共聚物(a)包含聚碳酸酯嵌段(a-1)和聚有机硅氧烷嵌段(a-2)，所述聚碳酸酯嵌段(a-1)仅包含下述通式(i)所示的结构单元的重复，所述聚有机硅氧烷嵌段(a-2)包含下述通式(ii)所示的结构单元的重复，
28、上述聚碳酸酯-聚有机硅氧烷共聚物(a)中的上述聚有机硅氧烷嵌段(a-2)的含量为20质量％以上且70质量％以下。
29、「化学式3]
30、
31、[式中，r1和r2各自独立地表示卤素原子、碳数1～6的烷基或碳数1～6的烷氧基。x表示单键、碳数1～8的烷撑基、碳数2～8的烷叉基、碳数5～15的环烷撑基、碳数5～15的环烷叉基、碳数7～15的芳基烷撑基、碳数7～15的芳基烷叉基、-s-、-so-、-so2-、-o-或-co-。r3和r4各自独立地表示氢、卤素原子、碳数1～6的烷基、碳数1～6的烷氧基或碳数6～12的芳基。a和b各自独立地表示0～4的整数。]
32、专利技术效果
33、根据本专利技术，能够提供二氧化碳的选择性和透过量优异、并且机械强度也优异的、用于从包含二氧化碳的混合气体中分离二氧化碳的气体分离膜。此外，应用该技术，能够提供高分子膜的用途、以及从包含二氧化碳的混合气体中分离二氧化碳的方法。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种气体分离膜，其用于从包含二氧化碳的混合气体中分离二氧化碳，
2.根据权利要求1所述的气体分离膜，其中，所述聚有机硅氧烷嵌段(A-2)的平均链长n为20～150。
3.根据权利要求1或2所述的气体分离膜，其中，所述通式(I)中的a和b为0，X为异丙叉基。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的气体分离膜，其中，所述通式(II)中的R3和R4为甲基。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的气体分离膜，其中，二氧化碳的透过系数与膜厚之积为5.0×103以上，所述透过系数的单位为Barrer，所述膜厚的单位为μm。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的气体分离膜，其中，所述包含二氧化碳的混合气体为排放气体。
7.包含聚碳酸酯-聚有机硅氧烷共聚物(A)的高分子膜用于从包含二氧化碳的混合气体中分离二氧化碳的用途，
8.一种从包含二氧化碳的混合气体中分离二氧化碳的方法，其中，包括使包含二氧化碳的混合气体与气体分离膜接触的工序，
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种气体分离膜，其用于从包含二氧化碳的混合气体中分离二氧化碳，
2.根据权利要求1所述的气体分离膜，其中，所述聚有机硅氧烷嵌段(a-2)的平均链长n为20～150。
3.根据权利要求1或2所述的气体分离膜，其中，所述通式(i)中的a和b为0，x为异丙叉基。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的气体分离膜，其中，所述通式(ii)中的r3和r4为甲基。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的气体分离膜，其中...
【专利技术属性】
技术研发人员：宫根聪，石井宏寿，井手田一茂，石川康弘，
申请(专利权)人：出光兴产株式会社，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。