【技术实现步骤摘要】
本技术涉及清洁设备，具体涉及一种清洁设备及工件表面处理装置。
技术介绍
1、工件经抛丸处理后需要对工件的表面清洁，以去除工件表面粘黏的杂质。现有技术中，一般是通过清洁设备对工件的表面进行清洁。
2、清洁设备包括喷管、输送泵和水源(含有清洁剂)等结构。其中，喷管与水源连通，通过输送泵能够将水源中含有清洁剂的水输送至喷管内，并以一定的压力喷射至工件的表面，从而能够将工件表面粘黏的杂质冲刷干净。
3、然而，在设计喷管时，往往需要考虑工件最大宽度，即，喷管的长度尺寸需大于工件表面处理装置的处理阈值。但是，由于工件的尺寸经常变换，经常会出现喷管的长度尺寸远大于工件的宽度尺寸，导致喷管喷出来的液体大部分被浪费掉，导致生产成本较高。
技术实现思路
1、(一)本技术所要解决的问题是：现有的喷管长度尺寸过大，在清洁宽度尺寸小于喷管长度尺寸的工件时，会造成清洁液体浪费，导致生产成本较高。
2、(二)技术方案
3、为了解决上述技术问题，本技术一方面实施例提供了一种清洁设备，设于工件表面处理装置的输送线旁侧，用于工件表面清洁；
4、所述清洁设备包括：设备主体和调节组件；
5、所述设备主体用于与清洁介质源连通，所述设备主体具有多个喷射口；
6、当所述喷射口处于工作状态时，清洁介质源中的清洁介质能够通过喷射口喷射至工件的表面；
7、当所述喷射口处于非工作状态时，所述喷射口处没有清洁介质流动；
8、所述调
9、进一步的，所述设备主体包括多根喷管；
10、全部所述喷管的轴向尺寸增加，每根所述喷管的表面沿其轴向均间隔设有多个所述喷射口；
11、每根所述喷管均与所述清洁介质源连通，所述调节组件用于调节所述喷管与所述清洁介质源之间的连通状态。
12、进一步的，所述设备主体还包括主管路；
13、所述主管路一端用于与所述清洁介质源连通，另一端密封设置；
14、所述主管路的表面开设多个连接孔，所述连接孔与所述喷管一一对应，所述喷管与对应的所述连接孔连通。
15、进一步的，所述调节组件包括多个与所述喷管一一对应的调节阀；
16、所述调节阀设置于对应的所述喷管与所述主管路之间，所述调节阀通过调节其开度从而控制对应的所述喷管与所述主管路之间的通断。
17、进一步的，沿远离所述清洁介质源至靠近所述清洁介质源的方向，所述喷管的轴向尺寸增加。
18、进一步的，所述设备主体还包括压力传感器、控制器和执行件；
19、所述压力传感器与所述喷管一一对应，所述压力传感器设置于对应的喷管上并监测对应的所述喷管内的压力信息；
20、所述控制器与所述压力传感器和所述执行件电连接，所述控制器根据所述压力传感器的监测信息控制所述执行件调节所述喷管内的压力。
21、进一步的，所述设备主体还包括微调组件；
22、所述喷管的至少一端设有所述微调组件，所述微调组件包括驱动件和封闭件；
23、所述封闭件滑动安装于所述喷管内，所述驱动件伸入所述喷管内并与所述封闭件相连，所述驱动件驱动所述封闭件在所述喷管内沿所述喷管的轴向方向滑动，从而切断所述喷管内的清洁介质流。
24、进一步的，所述设备主体包括多根介质管；
25、所述介质管的一端与所述清洁介质源连通，另一端形成至少一个所述喷射口；
26、所述调节组件用于调节所述介质管与所述清洁介质源之间的连通状态。
27、进一步的，所述设备主体还包括压力传感器、控制器和执行件；
28、所述压力传感器与所述介质管一一对应，所述压力传感器设置于对应的所述介质管上并监测对应的所述介质管内的压力信息；
29、所述控制器与所述压力传感器和所述执行件电连接，所述控制器根据所述压力传感器的监测信息控制所述执行件调节所述介质管内的压力。
30、本技术另一方面实施例还提供了一种工件表面处理装置，包括上述任一实施例中所述的清洁设备。
31、本技术的有益效果：
32、本技术提供的一种清洁设备，设于工件表面处理装置的输送线旁侧，用于工件表面清洁；所述清洁设备包括：设备主体和调节组件；所述设备主体用于与清洁介质源连通，所述设备主体具有多个喷射口；当所述喷射口处于工作状态时，清洁介质源中的清洁介质能够通过喷射口喷射至工件的表面；当所述喷射口处于非工作状态时，所述喷射口处没有清洁介质流动；所述调节组件与所述设备主体相连，并用于调节处于工作状态和非工作状态的喷射口的数量。
33、清洁介质源中的清洁介质能够由设备主体的喷射口喷射至工件的表面，从而实现对工件的表面进行清洁。而调节组件能够调节喷射口的状态，使喷射口在工作状态和非工作状态之间进行切换，从而设备主体能够更好的与工件匹配。相较于现有技术，不会出现因设备主体喷射范围过大而导致清洁介质浪费的问题。
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1.一种清洁设备，设于工件表面处理装置的输送线旁侧，用于工件表面清洁；
2.根据权利要求1所述的清洁设备，其特征在于，所述设备主体包括多根喷管(11)；
3.根据权利要求2所述的清洁设备，其特征在于，所述设备主体还包括主管路(12)；
4.根据权利要求3所述的清洁设备，其特征在于，所述调节组件包括多个与所述喷管(11)一一对应的调节阀(21)；
5.根据权利要求3所述的清洁设备，其特征在于，沿远离所述清洁介质源至靠近所述清洁介质源的方向，所述喷管(11)的轴向尺寸增加。
6.根据权利要求3所述的清洁设备，其特征在于，所述设备主体还包括压力传感器(31)、控制器和执行件；
7.根据权利要求3所述的清洁设备，其特征在于，所述设备主体还包括微调组件；
8.根据权利要求1所述的清洁设备，其特征在于，所述设备主体包括多根介质管(13)；
9.根据权利要求8所述的清洁设备，其特征在于，所述设备主体还包括压力传感器(31)、控制器和执行件；
10.一种工件表面处理装置，其特征在于，包括如
...【技术特征摘要】
1.一种清洁设备，设于工件表面处理装置的输送线旁侧，用于工件表面清洁；
2.根据权利要求1所述的清洁设备，其特征在于，所述设备主体包括多根喷管(11)；
3.根据权利要求2所述的清洁设备，其特征在于，所述设备主体还包括主管路(12)；
4.根据权利要求3所述的清洁设备，其特征在于，所述调节组件包括多个与所述喷管(11)一一对应的调节阀(21)；
5.根据权利要求3所述的清洁设备，其特征在于，沿远离所述清洁介质源至靠近所述清洁介质源的方向，所述喷管(11)的轴向尺寸...
【专利技术属性】
技术研发人员：王少峰，何龙，孙洪军，孙兴源，
申请(专利权)人：杭州泰恩智达装备科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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