【技术实现步骤摘要】
本申请涉光注入退火，尤其涉及一种光注入退火设备及其控制方法。
技术介绍
1、在光伏电池(如n型电池)的加工工艺中，需要对电池的基片进行烧结和光注入退火。相关技术中，光注入退火设备通常包括有加热系统、真空腔体和光辐照系统。在正常使用中，烧结后的基片放置在真空腔体内，加热系统对真空腔体内的基片进行加热提供高温环境，并在高温环境下注入化学气体，通过光辐照系统对基片进行辐照，以对烧结后的基片进行退火。
2、但是，光注入退火设备存在温度不易于精准控制的问题，影响退火效果。
技术实现思路
1、鉴于以上内容，有必要提供一种光注入退火设备及其控制方法，具有温度易于精准控制、提高退火效果的技术效果。
2、本申请第一方面提供一种光注入退火设备，包括：真空腔体；载板，用于放置基片；光辐照组件，设置于真空腔体内，用于对基片进行辐照；测温组件，至少部分设置于真空腔体内，用于采集基片的实际温度；加热组件，设置于真空腔体内，用于对基片进行加热；控制系统，用于根据基片的实际温度与预设的目标温度，控制加热组件工作；水冷组件，设置于真空腔体内，用于以确定的目标流量对基片进行降温。
3、在一些实施例中，水冷组件包括冷却管路，冷却管路具有入水端和出水端，入水端用于连接供液管路，出水端用于连接排水管路。
4、在一些实施例中，水冷组件还包括流量阀和水温传感器，流量阀设置于入水端与供液管路之间，水温传感器用于采集入水端的入水温度；其中，流量阀的阀门开度与入水温度呈正比例关系。p>
5、在一些实施例中，光辐照组件采用光照强度范围为0sun-70sun、精度在±5％以内的光源。
6、在一些实施例中，光注入退火设备还包括调节组件，调节组件连接于水冷组件，调节组件用于调节水冷组件与加热组件之间的距离。
7、本申请第二方面提供一种光注入退火设备的控制方法，光注入退火设备包括真空腔体以及均设置于真空腔体内的载板、光辐照组件、测温组件、加热组件和水冷组件控制系统，其中，载板用于放置基片，光辐照组件用于对基片进行辐照，测温组件用于采集基片的实际温度；控制方法包括：获取基片的实际温度；根据基片的实际温度与预设的目标温度，设置加热组件的加热功率，以控制加热组件对基片进行加热；确定水冷组件的目标流量，其中，目标流量用于控制水冷组件输出冷却液的流量。
8、在一些实施例中，水冷组件包括冷却管路、流量阀和水温传感器，冷却管路具有入水端和出水端，入水端用于连接供液管路，出水端用于连接排水管路，流量阀用于控制冷却管路的水流量，水温传感器用于采集入水端的入水温度；确定水冷组件的目标流量，包括：获取入水端的入水温度；根据入水端的入水温度，确定对应的目标流量，其中，入水温度与目标流量呈正比例关系。
9、在一些实施例中，根据入水温度，确定对应的目标流量，包括：根据入水温度和预设的流量调控模型，确定对应的目标流量；其中，流量调控模型用于指示在稳定降温的条件下，冷却液的温度与流量之间的关系。
10、在一些实施例中，控制方法还包括：获取基片的加热参数，其中，加热参数用于反映基片的加热程度；响应于加热参数满足预设的热累计条件，控制加热组件按照预设的时间间隔，间歇地在工作状态与休眠状态之间切换；其中，当加热组件处于工作状态时，允许加热组件对基片进行加热；当加热组件处于休眠状态时，加热组件停止对基片进行加热。
11、在一些实施例中，加热参数包括实际温度；热累计条件包括：基片的实际温度达到预设的温度阈值。
12、本申请提供的光注入退火设备及其控制方法，在实际工作过程中，加热组件发出的可控的热量与光辐照组件产生的不可控的热量在基片上叠加，同时水冷组件可以带走基片上的热量，起到散热的作用，避免基片不可控地持续升温导致过热，进而可以将基片的实际温度与预设的目标温度之间的差值控制在合理范围内，达到温度精确控制、提高退火效果的技术效果。
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1.一种光注入退火设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的光注入退火设备，其特征在于，所述水冷组件包括冷却管路，所述冷却管路具有入水端和出水端，所述入水端用于连接供液管路，所述出水端用于连接排水管路。
3.根据权利要求2所述的光注入退火设备，其特征在于，所述水冷组件还包括流量阀和水温传感器，所述流量阀设置于所述入水端与所述供液管路之间，所述水温传感器用于采集所述入水端的入水温度；其中，所述流量阀的阀门开度与所述入水温度呈正比例关系。
4.根据权利要求2所述的光注入退火设备，其特征在于，
5.根据权利要求1所述的光注入退火设备，其特征在于，所述光注入退火设备还包括调节组件，所述调节组件连接于所述水冷组件，所述调节组件用于调节所述水冷组件与所述加热组件之间的距离。
6.一种光注入退火设备的控制方法，其特征在于，所述光注入退火设备包括真空腔体以及均设置于所述真空腔体内的载板、光辐照组件、测温组件、加热组件和水冷组件控制系统，其中，所述载板用于放置基片，所述光辐照组件用于对所述基片进行辐照，所述测温组件用于采集所述基片
7.根据权利要求6所述的控制方法，其特征在于，所述水冷组件包括冷却管路、流量阀和水温传感器，所述冷却管路具有入水端和出水端，所述入水端用于连接供液管路，所述出水端用于连接排水管路，所述流量阀用于控制所述冷却管路的水流量，所述水温传感器用于采集所述入水端的入水温度；
8.根据权利要求7所述的控制方法，其特征在于，所述根据所述入水温度，确定对应的所述目标流量，包括：
9.根据权利要求6所述的控制方法，其特征在于，所述控制方法还包括：
10.根据权利要求9所述的控制方法，其特征在于，所述加热参数包括所述实际温度；
...【技术特征摘要】
1.一种光注入退火设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的光注入退火设备，其特征在于，所述水冷组件包括冷却管路，所述冷却管路具有入水端和出水端，所述入水端用于连接供液管路，所述出水端用于连接排水管路。
3.根据权利要求2所述的光注入退火设备，其特征在于，所述水冷组件还包括流量阀和水温传感器，所述流量阀设置于所述入水端与所述供液管路之间，所述水温传感器用于采集所述入水端的入水温度；其中，所述流量阀的阀门开度与所述入水温度呈正比例关系。
4.根据权利要求2所述的光注入退火设备，其特征在于，
5.根据权利要求1所述的光注入退火设备，其特征在于，所述光注入退火设备还包括调节组件，所述调节组件连接于所述水冷组件，所述调节组件用于调节所述水冷组件与所述加热组件之间的距离。
6.一种光注入退火设备的控制方法，其特征在于...
【专利技术属性】
技术研发人员：郭佳，祁文杰，林佳继，
申请(专利权)人：拉普拉斯西安科技有限责任公司，
类型：发明
国别省市：
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