【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及晶圆片清洗设备，尤其涉及一种晶圆片全自动清洗设备。
技术介绍
1、晶圆片在清洗工序，需要进行药液洗和清水洗，或者根据需要进行多次药液洗和多次清水洗，现有晶圆片清洗机在对晶圆片加工时出现以下问题：一、清洗过程药液的温度变化较大，导致晶圆片加工质量的稳定性较差，影响合格率；二、药液不可避免的出现溢出现象，而溢出部分的回收是影响药液工作温度的直接因素，需要改良；三、在晶圆片的转运夹持过程，具有耗能的现象；针对以上现象，需要进行设备改良。
技术实现思路
1、为了克服现有技术中存在的晶圆片加工质量不稳定、清洗过程耗能的问题，本专利技术的目的在于提供一种晶圆片全自动清洗设备，提高加工质量的稳定性，确保生产合格率。
2、为实现上述目的，本专利技术的技术方案为：
3、一种晶圆片全自动清洗设备，包括清洗装置、转运机构、收料翻转机构、烘干机构及挡板组件；
4、所述清洗装置的数量为多个，所述挡板组件位于相邻两个清洗装置之间，所述挡板组件位于烘干机构和清洗装置之间；
5、每个所述清洗装置均包括药剂清洗箱和水洗清洗箱；
6、所述药剂清洗箱包括第一箱体、第二箱体、进液组件及温控组件，所述第一箱体设有第一容腔，所述第二箱体与所述第一箱体连接并围设成第二容腔，所述第一箱体位于第二容腔内；
7、所述进液组件设于第一箱体并伸入第一容腔内；
8、所述温控组件包括加热件，所述加热件位于第一箱体外，所述加热件将第一容腔和第二容
9、所述转运机构用于承接外界料箱并依次送入多个清洗装置后再送至收料翻转机构，所述收料翻转机构将外界料箱转运至烘干机构。
10、进一步的，所述药剂清洗箱还包括第一载料件、第一驱动组件及盖板组件；
11、所述第一载料件设于第一容腔内，所述第一驱动组件驱动第一载料件运动；
12、所述盖板组件设于第二箱体并用于盖设第一容腔和第二容腔。
13、进一步的，所述温控组件还包括冷却件和温度感应件，所述冷却件设于第一箱体内，所述温度感应件设于第一箱体内。
14、进一步的，所述水洗清洗箱包括第三箱体、隔板、喷淋组件及阀门组件；
15、所述第三箱体设有第三容腔；
16、所述隔板设于第三容腔，所述隔板将第三容腔分成上腔和下腔，所述上腔和下腔连通，所述喷淋组件包括若干个喷头，所述喷头位于第三箱体的上方；
17、所述第三箱体设有出液口，所述出液口位于隔板的下方，所述阀门组件包括驱动源及孔盖板，所述驱动源驱动孔盖板运动使得孔盖板堵住出液口或远离出液口。
18、进一步的，所述水洗清洗箱还包括第四箱体，所述第四箱体与所述第三箱体连接并围设成第四容腔，所述第四容腔位于第三箱体外。
19、进一步的，所述转运机构包括导轨、机械手组件及进料组件，所述进料组件用于承接外界料箱，所述机械手组件滑动连接于导轨，所述机械手组件在相邻的水洗清洗箱、药剂清洗箱及水洗清洗箱之间往返运动。
20、进一步的，所述挡板组件包括底座、升降板及第二导流板，所述升降板滑动连接底座，所述第二导流板设于升降板的顶部并朝向清洗装置倾斜。
21、进一步的，所述机械手组件包括夹料组件、摆动驱动组件及升降驱动源；
22、所述夹料组件包括左摆件、右摆件，所述摆动驱动组件左摆件和右摆件开合，所述升降驱动源用于驱动摆动驱动组件升降。
23、进一步的，所述左摆件和右摆件均包括安装座、转动件、连杆、活动件及复位件，所述安装座设于升降驱动源的输出端，所述转动件转动连接于安装座，所述连杆的两端分别与转动件和活动件连接，所述摆动驱动组件驱动活动件升降；
24、所述复位件的两端分别与左摆件的转动件和右摆件的转动件连接。
25、进一步的，所述摆动驱动组件包括滑块驱动源及滑块，所述滑块滑动连接于安装座，所述滑块设有第一斜面，所述活动件与所述第一斜面抵触。
26、本专利技术的有益效果：通过设置由第一箱体、第二箱体、进液组件及温控组件组成的药剂清洗箱，第一箱体、第二箱体连接形成第一容腔和第二容腔，加热件连通第一容腔和第二容腔，实现对第一容腔内药液的加温目的，满足清洗的最佳温度条件，提高生产质量的稳定性。
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1.一种晶圆片全自动清洗设备，其特征在于：包括清洗装置(1)、转运机构(2)、收料翻转机构(3)、烘干机构(4)及挡板组件(5)；
2.根据权利要求1所述的晶圆片全自动清洗设备，其特征在于：所述药剂清洗箱(11)还包括第一载料件(115)、第一驱动组件(116)及盖板组件(117)；
3.根据权利要求1所述的晶圆片全自动清洗设备，其特征在于：所述温控组件还包括冷却件(1142)和温度感应件(1143)，所述冷却件(1142)设于第一箱体(111)内，所述温度感应件(1143)设于第一箱体(111)内。
4.根据权利要求1所述的晶圆片全自动清洗设备，其特征在于：所述水洗清洗箱(12)包括第三箱体(121)、隔板(122)、喷淋组件(123)及阀门组件(124)；
5.根据权利要求4所述的晶圆片全自动清洗设备，其特征在于：所述水洗清洗箱(12)还包括第四箱体(125)，所述第四箱体(125)与所述第三箱体(121)连接并围设成第四容腔(1202)，所述第四容腔(1202)位于第三箱体(121)外。
6.根据权利要求1所述的晶
7.根据权利要求1所述的晶圆片全自动清洗设备，其特征在于：所述挡板组件(5)包括底座(51)、升降板(52)及第二导流板(53)，所述升降板(52)滑动连接底座(51)，所述第二导流板(53)设于升降板(52)的顶部并朝向清洗装置(1)倾斜。
8.根据权利要求1所述的晶圆片全自动清洗设备，其特征在于：所述机械手组件(22)包括夹料组件(221)、摆动驱动组件(222)及升降驱动源(223)；
9.根据权利要求8所述的晶圆片全自动清洗设备，其特征在于：所述左摆件(2211)和右摆件(2212)均包括安装座(221a)、转动件(221b)、连杆(221c)、活动件(221d)及复位件(221e)，所述安装座(221a)设于升降驱动源(223)的输出端，所述转动件(221b)转动连接于安装座(221a)，所述连杆(221c)的两端分别与转动件(221b)和活动件(221d)连接，所述摆动驱动组件(222)驱动活动件(221d)升降；
10.根据权利要求1所述的晶圆片全自动清洗设备，其特征在于：所述摆动驱动组件(222)包括滑块驱动源(222a)及滑块(222b)，所述滑块(222b)滑动连接于安装座(221a)，所述滑块(222b)设有第一斜面(222c)，所述活动件(221d)与所述第一斜面(222c)抵触。
...【技术特征摘要】
1.一种晶圆片全自动清洗设备，其特征在于：包括清洗装置(1)、转运机构(2)、收料翻转机构(3)、烘干机构(4)及挡板组件(5)；
2.根据权利要求1所述的晶圆片全自动清洗设备，其特征在于：所述药剂清洗箱(11)还包括第一载料件(115)、第一驱动组件(116)及盖板组件(117)；
3.根据权利要求1所述的晶圆片全自动清洗设备，其特征在于：所述温控组件还包括冷却件(1142)和温度感应件(1143)，所述冷却件(1142)设于第一箱体(111)内，所述温度感应件(1143)设于第一箱体(111)内。
4.根据权利要求1所述的晶圆片全自动清洗设备，其特征在于：所述水洗清洗箱(12)包括第三箱体(121)、隔板(122)、喷淋组件(123)及阀门组件(124)；
5.根据权利要求4所述的晶圆片全自动清洗设备，其特征在于：所述水洗清洗箱(12)还包括第四箱体(125)，所述第四箱体(125)与所述第三箱体(121)连接并围设成第四容腔(1202)，所述第四容腔(1202)位于第三箱体(121)外。
6.根据权利要求1所述的晶圆片全自动清洗设备，其特征在于：所述转运机构(2)包括导轨(21)、机械手组件(22)及进料组件(23)，所述进料组件(23)用于承接外界料箱(100)，所述机械手组件(22)滑动连接于导轨(21)，所述机械手组件(22)在相邻的水洗清洗箱...
【专利技术属性】
技术研发人员：李成，姚禄华，邱立阳，赵江风，张义，
申请(专利权)人：东莞市鼎力自动化科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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