【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及在基材被覆涂料层的涂装构造。
技术介绍
1、在下述专利文献1所述的前保险杠中，在树脂构件的表面设置有非涂装部和涂装部。
2、此处，在该前保险杠中，在通过带体遮盖非涂装部的情况下涂装涂装部。
3、专利文献1：日本特开平5-253533号公报
技术实现思路
1、本专利技术考虑上述状况，目的是获得即便不进行遮盖也能够变更涂料层表面的外观设计的涂装构造。
2、本专利技术的第1方式的涂装构造具备：基材，其设置有基面，上述基面设置有基面凹凸，在上述基面上邻接地设置有上述基面凹凸的深度较大的第1区域和上述基面凹凸的深度较小的第2区域；以及涂料层，其由单一的涂料形成，并且被覆上述基面，且在与上述第1区域对应的表面中与上述基面凹凸对应的第1凹凸的深度较大，并且在与上述第2区域对应的表面中与上述基面凹凸对应的第2凹凸的深度较小。
3、对于本专利技术的第2方式的涂装构造而言，在本专利技术的第1方式的涂装构造的基础上，在上述基面上设置有上述基面凹凸的深度比上述第1区域小并且比上述第2区域大的第3区域，在上述涂料层的与上述第3区域对应的表面中与上述基面凹凸对应的第3凹凸的深度处于上述第1凹凸与上述第2凹凸的中间。
4、本专利技术的第3方式的涂装构造具备：基材，其设置有基面，上述基面设置有基面凹凸，在上述基面上邻接地设置有上述基面凹凸的深度较大的第1区域和上述基面凹凸的深度较小的第2区域；以及涂料层，其由单一的涂料形成，并且被覆上述基面
5、本专利技术的第4方式的涂装构造具备：基材，其设置有基面，上述基面设置有基面凹凸，在上述基面上邻接地设置有上述基面凹凸的间隔较大的第1区域和上述基面凹凸的间隔较小的第2区域；以及涂料层，其由单一的涂料形成，并且被覆上述基面，且在与上述第1区域对应的表面中与上述基面凹凸对应的第1凹凸的深度较大，并且在与上述第2区域对应的表面中与上述基面凹凸对应的第2凹凸的深度较小。
6、对于本专利技术的第5方式的涂装构造而言，在本专利技术的第4方式的涂装构造的基础上，在上述基面上设置有上述基面凹凸的间隔比上述第1区域小并且比上述第2区域大的第3区域，在上述涂料层的与上述第3区域对应的表面中与上述基面凹凸对应的第3凹凸的深度处于上述第1凹凸与上述第2凹凸的中间。
7、本专利技术的第6方式的涂装构造具备：基材，其设置有基面，上述基面设置有基面凹凸，在上述基面上邻接地设置有上述基面凹凸的间隔较大的第1区域和上述基面凹凸的间隔较小的第2区域；以及涂料层，其由单一的涂料形成，并且被覆上述基面，且在与上述第1区域对应的表面设置有与上述基面凹凸对应的表侧凹凸，并且在与上述第2区域对应的表面没有设置与上述基面凹凸对应的上述表侧凹凸。
8、对于本专利技术的第7方式的涂装构造而言，在本专利技术的第1方式～第6方式中任一个涂装构造的基础上，上述涂料层由哑光涂料形成。
9、在本专利技术的第1方式的涂装构造中，在基材的基面上设置有基面凹凸，涂料层由单一的涂料形成且被覆基面。
10、此处，基面的第1区域与第2区域邻接，在基面的第1区域处使基面凹凸的深度较大，并且在基面的第2区域处使基面凹凸的深度较小，在涂料层中，在与第1区域对应的表面中与基面凹凸对应的第1凹凸的深度较大，并且在与第2区域对应的表面中与基面凹凸对应的第2凹凸的深度较小。因此，能够使涂料层中同第1区域对应的表面与同第2区域对应的表面的外观设计不同，即便不进行遮盖也能够变更涂料层表面的外观设计。
11、在本专利技术的第2方式的涂装构造中，在基面的第3区域处基面凹凸的深度比第1区域小并且比第2区域大，在涂料层的与第3区域对应的表面处使与基面凹凸对应的第3凹凸的深度处于第1凹凸与第2凹凸的中间。因此，能够使涂料层中与第1区域对应的表面、与第2区域对应的表面以及与第3区域对应的表面的外观设计不同。
12、在本专利技术的第3方式的涂装构造中，在基材的基面上设置有基面凹凸，涂料层由单一的涂料形成且被覆基面。
13、此处，基面的第1区域与第2区域邻接，在基面的第1区域处基面凹凸的深度较大，并且在基面的第2区域处基面凹凸的深度较小，在涂料层中，在与第1区域对应的表面设置有与基面凹凸对应的表侧凹凸，并且在与第2区域对应的表面没有设置与基面凹凸对应的表侧凹凸。因此，能够使涂料层中同第1区域对应的表面与同第2区域对应的表面的外观设计不同，即便不进行遮盖也能够变更涂料层表面的外观设计。
14、在本专利技术的第4方式的涂装构造中，在基材的基面设置有基面凹凸，涂料层由单一的涂料形成且被覆基面。
15、此处，基面的第1区域与第2区域邻接，在基面的第1区域处基面凹凸的间隔较大，并且在基面的第2区域处基面凹凸的间隔较小，在涂料层中，在与第1区域对应的表面中与基面凹凸对应的第1凹凸的深度较大，并且在与第2区域对应的表面中与基面凹凸对应的第2凹凸的深度较小。因此，能够使涂料层中同第1区域对应的表面与同第2区域对应的表面的外观设计不同，即便不进行遮盖也能够变更涂料层表面的外观设计。
16、在本专利技术的第5方式的涂装构造中，在基面的第3区域处基面凹凸的间隔比第1区域小并且比第2区域大，涂料层的与第3区域对应的表面中与基面凹凸对应的第3凹凸的深度处于第1凹凸与第2凹凸的中间。因此，能够使涂料层中与第1区域对应的表面、与第2区域对应的表面、以及与第3区域对应的表面的外观设计不同。
17、在本专利技术的第6方式的涂装构造中，在基材的基面设置有基面凹凸，涂料层由单一的涂料形成且被覆基面。
18、此处，基面的第1区域与第2区域邻接，在基面的第1区域处基面凹凸的间隔较大，并且在基面的第2区域处基面凹凸的间隔较小，在涂料层中，在与第1区域对应的表面设置有与基面凹凸对应的表侧凹凸，并且在与第2区域对应的表面没有设置与基面凹凸对应的表侧凹凸。因此，能够使涂料层中同第1区域对应的表面与同第2区域对应的表面的外观设计不同，即便不进行遮盖也能够变更涂料层表面的外观设计。
19、在本专利技术的第7方式的涂装构造中，涂料层由哑光涂料形成。因此，能够使因涂料层的表面凹凸的深度的差异产生的涂料层表面的外观设计的差异变大。
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1.一种涂装构造，其特征在于，具备：
2.根据权利要求1所述的涂装构造，其特征在于，
3.一种涂装构造，其特征在于，具备：
4.一种涂装构造，其特征在于，具备：
5.根据权利要求4所述的涂装构造，其特征在于，
6.一种涂装构造，其特征在于，具备：
7.根据权利要求1、3、4、6中任一项所述的涂装构造，其特征在于，
【技术特征摘要】
1.一种涂装构造，其特征在于，具备：
2.根据权利要求1所述的涂装构造，其特征在于，
3.一种涂装构造，其特征在于，具备：
4.一种涂装构造，其特征在于，具备...
【专利技术属性】
技术研发人员：市村玲也，伊藤智之，
申请(专利权)人：株式会社东海理化电机制作所，
类型：发明
国别省市：
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