【技术实现步骤摘要】
本申请涉及半导体制造，尤其涉及一种研磨头及研磨设备。
技术介绍
1、在化学机械研磨机中，研磨垫修整器是一个关键组件，其主要作用是维护和恢复研磨垫的平整度和粗糙度，以保证研磨工艺过程中的效果和一致性。
2、目前，研磨垫修整器的设计一般是，将马达设置于基座中，通过齿轮组、皮带、滑轮组以及支撑臂，完成动力传输，带动修整器对研磨垫进行打磨。
3、但是齿轮组、滑轮组和皮带都是老化零件，属于耗材，时间久了需要更换，停机更换，费时费力费财，而且部件多，修机的概率就增大，影响设备效率。
4、需要说明的是，上述
技术介绍
部分公开的信息仅用于加强对本申请的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
技术实现思路
1、基于此，本申请实施例提供了一种研磨头及研磨设备，有利于降低设备制造成本和设备使用功耗，提升设备工作效率，同时为设备的维护操作提供便利。
2、根据一些实施例，本申请一方面提供了一种研磨头，包括研磨头主体和研磨垫修整器；其中，
3、所述研磨头主体的外周间隔设置有多个导轨；
4、所述研磨垫修整器设置于所述研磨头主体的外周，且所述研磨垫修整器靠近所述研磨垫修整器的一侧间隔设置有多个导轨槽；
5、所述研磨垫修整器上的各所述导轨槽对应地与所述研磨头主体上的各所述导轨相配合，以使所述研磨垫修整器在所述研磨头主体的外周沿竖直方向上下运动。
6、在一些实施例中，所述研磨头还包括：>
7、气动部件，设置于所述研磨垫修整器的上部，用于控制所述研磨垫修整器在所述研磨头主体的外周向上运动或向下运动。
8、在一些实施例中，所述研磨头主体上设置有运动检测组件，所述运动检测组件用于对所述研磨垫修整器在所述研磨头主体的外周是否发生向下运动进行检测。
9、在一些实施例中，所述研磨头还包括：
10、位置检测组件，设置于所述研磨垫修整器的上方，用于对所述研磨垫修整器在所述竖直方向上的位置进行检测。
11、在一些实施例中，所述研磨头还包括：
12、防水结构，设置于所述研磨头主体的上方，且所述防水结构至少覆盖所述研磨头主体的顶面。
13、在一些实施例中，所述研磨垫修整器上还间隔开设有多个导流槽，所述导流槽与研磨液供应装置相连通，用于在研磨工艺过程中使研磨液自所述研磨液供应装置流经所述研磨垫修整器，引流至研磨垫。
14、在一些实施例中，所述导流槽自所述研磨垫修整器的底面倾斜向上延伸。
15、在一些实施例中，所述研磨头还包括保持环，所述保持环套设于所述研磨头主体的外周；
16、其中，所述保持环的外周间隔分布有多个凸起部，多个所述凸起部作为间隔设置于所述研磨头主体外周的多个所述导轨。
17、在一些实施例中，所述研磨垫修整器上还设有多个固定孔，多个所述固定孔与多个所述导轨槽交替间隔地分布；
18、所述研磨头还包括基部，设置于所述研磨头主体的上方，用于带动所述研磨头主体进行运动；
19、其中，所述研磨头主体在所述基部上的正投影落在所述基部的中心部分，所述基部的外扩部分上插设有多个固定件，多个所述固定件对应地插设于所述研磨垫修整器上的多个所述固定孔中，以将所述研磨垫修整器设置于所述研磨头主体的外周。
20、根据一些实施例，本申请另一方面还提供了一种研磨设备，包括：
21、研磨垫；
22、如上实施例中提供的研磨头，设置于所述研磨垫的上方；其中，所述研磨垫修整器用于对所述研磨垫进行修整。
23、应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本申请。
24、本申请实施例可以/至少具有以下优点：
25、在本申请实施例中，通过将研磨垫修整器设置于研磨头主体的外周，使研磨垫修整器与研磨头主体集成为一体，如此，研磨垫修整器可以在研磨头的带动下对研磨垫进行修整。
26、相较于传统的研磨垫修整器设计方式，本申请实施例可以利用研磨头自身已有的驱动部件(例如研磨头自身已有的马达等等)对研磨垫修整器进行驱动，从而无需额外设置驱动部件来带动研磨垫修整器进行运动，可减少驱动部件的使用，有利于降低设备制造成本和设备使用功耗。并且，减少驱动部件的使用还有利于降低设备故障率，减少设备停机维修时间，提升设备工作效率。此外，减少驱动部件的使用还省去了传统研磨垫修整器设计方式所必需的齿轮组、皮带、滑轮组、支撑臂等部件，显著增大了设备维修空间，为设备的维护操作提供便利。
27、在本申请实施例中，研磨垫修整器上的导轨槽与设置于研磨头主体外周的导轨相互配合，使得研磨垫修整器能够在研磨头主体的外周上下运动，以此对研磨垫的表面施加力度不同的下压力，从而对待加工晶圆的实现更好、更精确的修整效果。
28、本申请的其他优点、目标和特征在某种程度上将在随后的说明书中进行阐述，并且在某种程度上，基于对下文的考察研究对本领域技术人员而言将是显而易见的，或者可以从本申请的实践中得到教导。本申请的目标和其他优点可以通过下面的说明书来实现和获得。
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1.一种研磨头，其特征在于，包括研磨头主体和研磨垫修整器；其中，
2.根据权利要求1所述的研磨头，其特征在于，所述研磨头还包括：
3.根据权利要求2所述的研磨头，其特征在于，所述研磨头主体上设置有运动检测组件，所述运动检测组件用于对所述研磨垫修整器在所述研磨头主体的外周是否发生向下运动进行检测。
4.根据权利要求1所述的研磨头，其特征在于，所述研磨头还包括：
5.根据权利要求1所述的研磨头，其特征在于，所述研磨头还包括：
6.根据权利要求1所述的研磨头，其特征在于，所述研磨垫修整器上还间隔开设有多个导流槽，所述导流槽与研磨液供应装置相连通，用于在研磨工艺过程中使研磨液自所述研磨液供应装置流经所述研磨垫修整器，引流至研磨垫。
7.根据权利要求6所述的研磨头，其特征在于，所述导流槽自所述研磨垫修整器的底面倾斜向上延伸。
8.根据权利要求1所述的研磨头，其特征在于，所述研磨头还包括保持环，所述保持环套设于所述研磨头主体的外周；
9.根据权利要求1所述的研磨头，其特征在于，所述研磨垫修整器上还
10.一种研磨设备，其特征在于，包括：
...【技术特征摘要】
1.一种研磨头，其特征在于，包括研磨头主体和研磨垫修整器；其中，
2.根据权利要求1所述的研磨头，其特征在于，所述研磨头还包括：
3.根据权利要求2所述的研磨头，其特征在于，所述研磨头主体上设置有运动检测组件，所述运动检测组件用于对所述研磨垫修整器在所述研磨头主体的外周是否发生向下运动进行检测。
4.根据权利要求1所述的研磨头，其特征在于，所述研磨头还包括：
5.根据权利要求1所述的研磨头，其特征在于，所述研磨头还包括：
6.根据权利要求1所述的研磨头，其特征在于，所述研磨垫修整器上还间隔...
【专利技术属性】
技术研发人员：左昭，杨俊男，闫晓晖，
申请(专利权)人：上海积塔半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：
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