【技术实现步骤摘要】
本技术涉及供气装置，具体为一种真空镀膜设备用供气装置。
技术介绍
1、真空镀膜设备，主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，mbe分子束外延，pld激光溅射沉积等很多种，主要思路是分成蒸发和溅射两种。
2、在中国技术专利申请公开说明书为cn217809623u所公开的一种真空镀膜设备用供气装置，两个供气瓶通过气压阀和供气管连接，有效实现对真空镀膜设备进行不间断供气，有效增加真空镀膜设备的使用效果，但是该装置与真空镀膜设备连接不够便捷，为此我们提出了一种真空镀膜设备用供气装置。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种真空镀膜设备用供气装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
2、为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：
3、一种真空镀膜设备用供气装置，包括供气箱，所述供气箱顶部设置有气泵，所述气泵顶部设置有进气口，所述进气口顶端设置有过滤罩，所述进气口内部两侧均开设有方槽，所述方槽内部设置有固定机构，所述供气箱外部一侧设置有排气口，所述排气口一端设置有连接头，所述连接头一端开设有安装槽，所述安装槽内部设置有连接管，所述安装槽内部两侧均开设有限位槽，所述限位槽内部设置有分离机构，所述连接管一端两侧均开设有容纳槽，所述容纳槽内部设置有限位机构，所述连接管外侧设置有密封机构。
4、优选的，所述固定机构包括螺纹杆、卡块、旋钮，所述方槽内部一侧通过转轴设置有螺纹杆，所述螺纹杆一端通过螺纹槽活动设置有
5、优选的，所述分离机构包括推杆、推块、按钮，所述限位槽内部一端通过活动槽设置有推杆，所述推杆一端固定设置有推块，所述连接头外部两侧在推杆一端均设置有按钮；
6、优选的，所述限位机构包括伸缩杆、弹簧、限位块，所述容纳槽内部一端设置有伸缩杆，所述伸缩杆的伸缩端外侧安装有弹簧，所述伸缩杆的伸缩端固定设置有限位块，所述弹簧的一端与限位块固定连接，所述限位块一端位于限位槽内部；
7、优选的，所述密封机构包括限位圈、密封套，所述连接管外侧固定设置有限位圈，所述连接管外侧活动设置有密封套，所述密封套内部为螺纹设置，所述连接头外部一端为螺纹设置；
8、优选的，所述进气口一端为扩口结构。
9、与现有技术相比，本技术的有益效果是：
10、1.该一种真空镀膜设备用供气装置，将真空镀膜设备的连接管对接在连接头一端开设的安装槽内，使其容纳槽内部设置的伸缩杆通过弹簧与限位块的连接，使限位块与安装槽内部两侧均开设的限位槽对接限位，从而快速实现连接管的固定安装，随后再把连接管外侧活动设置的密封套通过螺纹套设在连接头外侧，实现密封效果，防止空气泄漏，从而将空气输送到真空镀膜设备中。反之，使用连接头外部两侧在推杆一端均设置的按钮，可以推动推杆一端设置的推块移动，将限位块推动脱离限位槽内部，从而完成连接管的快速拆卸，便于后期的更换与维修，操作快捷简单，同时提高工作效率，增加该装置的实用性。
11、2.该一种真空镀膜设备用供气装置，使用进气管外部两侧在螺纹杆所在转轴一端均设置的旋钮，使螺纹杆旋转带动一端通过螺纹槽活动槽设置的卡块移动贴合住过滤罩表面，从而实现过滤罩的固定拆装，便于后期的更换与清洗，避免空气中灰尘直接进入供气箱，提升了装置使用稳定性和安全性。
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1.一种真空镀膜设备用供气装置，包括供气箱(1)，其特征在于：所述供气箱(1)顶部设置有气泵(2)，所述气泵(2)顶部设置有进气口(3)，所述进气口(3)顶端设置有过滤罩(4)，所述进气口(3)内部两侧均开设有方槽(5)，所述方槽(5)内部设置有固定机构，所述供气箱(1)外部一侧设置有排气口(6)，所述排气口(6)一端设置有连接头(7)，所述连接头(7)一端开设有安装槽(8)，所述安装槽(8)内部设置有连接管(9)，所述安装槽(8)内部两侧均开设有限位槽(10)，所述限位槽(10)内部设置有分离机构，所述连接管(9)一端两侧均开设有容纳槽(11)，所述容纳槽(11)内部设置有限位机构，所述连接管(9)外侧设置有密封机构。
2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备用供气装置，其特征在于：所述固定机构包括螺纹杆(12)、卡块(13)、旋钮(14)，所述方槽(5)内部一侧通过转轴设置有螺纹杆(12)，所述螺纹杆(12)一端通过螺纹槽活动设置有卡块(13)，所述进气口(3)外部两侧在螺纹杆(12)所在转轴一端均设置有旋钮(14)。
3.根据权利要求1所述的一种真空
4.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备用供气装置，其特征在于：所述限位机构包括伸缩杆(18)、弹簧(19)、限位块(20)，所述容纳槽(11)内部一端设置有伸缩杆(18)，所述伸缩杆(18)的伸缩端外侧安装有弹簧(19)，所述伸缩杆(18)的伸缩端固定设置有限位块(20)，所述弹簧(19)的一端与限位块(20)固定连接，所述限位块(20)一端位于限位槽(10)内部。
5.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备用供气装置，其特征在于：所述密封机构包括限位圈(21)、密封套(22)，所述连接管(9)外侧固定设置有限位圈(21)，所述连接管(9)外侧活动设置有密封套(22)，所述密封套(22)内部为螺纹设置，所述连接头(7)外部一端为螺纹设置。
6.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备用供气装置，其特征在于：所述进气口(3)一端为扩口结构。
...【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜设备用供气装置，包括供气箱(1)，其特征在于：所述供气箱(1)顶部设置有气泵(2)，所述气泵(2)顶部设置有进气口(3)，所述进气口(3)顶端设置有过滤罩(4)，所述进气口(3)内部两侧均开设有方槽(5)，所述方槽(5)内部设置有固定机构，所述供气箱(1)外部一侧设置有排气口(6)，所述排气口(6)一端设置有连接头(7)，所述连接头(7)一端开设有安装槽(8)，所述安装槽(8)内部设置有连接管(9)，所述安装槽(8)内部两侧均开设有限位槽(10)，所述限位槽(10)内部设置有分离机构，所述连接管(9)一端两侧均开设有容纳槽(11)，所述容纳槽(11)内部设置有限位机构，所述连接管(9)外侧设置有密封机构。
2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备用供气装置，其特征在于：所述固定机构包括螺纹杆(12)、卡块(13)、旋钮(14)，所述方槽(5)内部一侧通过转轴设置有螺纹杆(12)，所述螺纹杆(12)一端通过螺纹槽活动设置有卡块(13)，所述进气口(3)外部两侧在螺纹杆(12)所在转轴一端均设置有旋钮(14)。
3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备用供气装置，其...
【专利技术属性】
技术研发人员：张基伟，夏晓谦，
申请(专利权)人：艾姆西艾宿迁电池技术有限公司，
类型：新型
国别省市：
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