System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 有机化合物的制造方法技术_技高网

有机化合物的制造方法技术

技术编号:43081499 阅读:5 留言:0更新日期:2024-10-26 09:32
本发明专利技术的目的在于,提供一种有机化合物的制造方法等。该目的通过下述制造方法解决:一种式(1)所示的化合物的制造方法:[式(1)中,X表示‑O‑、可具有取代基的亚胺基、或‑S‑,R1表示氢原子、或可具有1个以上的取代基的烃基,且R2表示氢原子或1价有机基团;或者,R1和R2可以与它们各自相邻的X和1个碳原子一起形成可具有1个以上的取代基的杂环,R3表示氢原子或1价有机基团,和R4为‑CF2CH3或‑CH2CHF2。],所述制造方法包括:步骤A,其中,使式(2)所示的化合物在光照射下与偏二氟乙烯反应:[式(2)中的标记与前述表示相同含义。]。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种有机化合物的制造方法(具体而言,涉及一种含杂原子的有机化合物的制造方法,更具体而言,涉及一种含杂原子的有机化合物在光照射下的制造方法)等。


技术介绍

1、作为有机化合物的制造方法(具体而言,一种含杂原子的有机化合物的制造方法,更具体而言,一种含杂原子的有机化合物在光照射下的制造方法),例如,非专利文献1中报道了在uv照射下制造的1-(聚氟烷基)乙烷-1,2-二醇。

2、现有技术文献

3、非专利文献

4、非专利文献1:vladimir cirkva等,journal of fluorine chemistry 94(1999):p.141~156


技术实现思路

1、专利技术要解决的技术问题

2、本领域中需要提供一种有机化合物的新制造方法(具体而言,一种含杂原子的有机化合物的制造方法,更具体而言,一种含杂原子的有机化合物在光照射下的新制造方法)。

3、本专利技术的目的在于,提供一种有机化合物的制造方法(具体而言,一种含杂原子的有机化合物的制造方法,更具体而言,一种含杂原子的有机化合物在光照射下的制造方法)等。

4、用于解决技术问题的手段

5、本专利技术作为用于解决前述技术问题的手段,提供以下的技术方案。

6、项1.

7、一种式(1)所示的化合物的制造方法:

8、【化1】

9、

10、[式中,

11、x表示-o-、可具有取代基的亚胺基、或-s-,

12、r1表示氢原子、或可具有1个以上的取代基的烃基,且r2表示氢原子或1价有机基团;或者,r1和r2可以与它们各自相邻的x和1个碳原子一起形成可具有1个以上的取代基的杂环,

13、r3表示氢原子或1价有机基团,和

14、r4为-cf2ch3或-ch2chf2。]

15、所述制造方法包括:

16、使式(2)所示的化合物在光照射下与偏二氟乙烯反应的步骤a:

17、【化2】

18、

19、[式中的标记与前述表示相同含义。]。

20、项2.

21、根据项1所述的制造方法,其中,x为-o-。

22、项3.

23、根据项1或2所述的制造方法,其中,

24、r1为:

25、氢原子、或

26、可具有1个以上的取代基的烷基、或

27、可具有1个以上的取代基的芳基或杂芳基。

28、项4.

29、根据项3所述的制造方法,其中,

30、r1为:

31、氢原子、或

32、各自可具有选自酮基、次氮基、硝基、卤基、芳基、-so2r、-sor、-op(=o)(or)2和-or中的1个以上的取代基的烷基或芳基,和

33、r在每次出现时相同或不同,为氢原子、烷基或芳基。

34、项5.

35、根据项1~4中任一项所述的制造方法,其中,

36、r2为:

37、氢原子、或

38、可具有1个以上的取代基的烷基、或可具有1个以上的取代基的芳基。

39、项6.

40、根据项5所述的制造方法,其中,

41、r2为:

42、氢原子、或

43、可具有选自酮基、次氮基、硝基、卤基、芳基、-so2r、-sor、-op(=o)(or)2和-or中的1个以上的取代基的烷基或芳基,和

44、r在每次出现时相同或不同,为氢原子、烷基或芳基。

45、项7.

46、根据项1~6中任一项所述的制造方法,其中,r1和r2与它们各自相邻的x和1个碳原子一起形成可具有1个以上的取代基的杂环。

47、项8.

48、根据项1~7中任一项所述的制造方法,其中,

49、r3为:

50、氢原子、

51、烃基、或

52、烃氧基。

53、项9.

54、根据项1~8中任一项所述的制造方法,其中,r4为-cf2ch3或-ch2chf2。

55、项10.

56、根据项1~9中任一项所述的制造方法,其中,将偏二氟乙烯中的至少一部分以含有它的微细气泡的形态导入含有所述式(2)所示的化合物的液体中。

57、项11.

58、根据项10所述的制造方法,其中,所述微细气泡的形态是具有5nm~100μm的范围内的粒径的泡的个数相对于所述气泡的全部个数的比例为90%以上的形态。

59、项12.

60、根据项1~11中任一项所述的制造方法,其中,含有偏二氟乙烯的气体的体积相对于含有所述式(2)所示的化合物的液体的体积的比在0.01~1的范围内。

61、项13.

62、根据项1~12中任一项所述的制造方法,其中,所述步骤a的反应温度为130℃以下。

63、项14.

64、根据项1~13中任一项所述的制造方法,其中,所述步骤a的光含有紫外线。

65、项15.

66、一种式(1)所示的化合物(其中,3,3-二氟-2-甲基-2-丁醇和4,4-二氟-2-甲基-2-丁醇除外):

67、【化3】

68、

69、[式中,

70、x表示-o-、可具有取代基的亚胺基、或-s-,

71、r1表示氢原子、或可具有1个以上的取代基的烃基,且r2表示氢原子或1价有机基团;或者,r1和r2可以与它们各自相邻的x和1个碳原子一起形成可具有1个以上的取代基的杂环,

72、r3表示氢原子或1价有机基团,和

73、r4表示-cf2ch3或-ch2chf2。]。

74、项16.

75、一种含偏二氟乙烯的组合物,其含有

76、(1)偏二氟乙烯、和

77、(2)液体介质,

78、并且,

79、所述偏二氟乙烯中的至少一部分在所述液体介质中作为微细气泡而分散。

80、项17.

81、根据项16所述的含偏二氟乙烯的组合物,其中,所述液体介质是含有选自水和作为偏二氟乙烯的贫溶剂的有机溶剂中的一种以上的液体介质。

82、项18.

83、根据项16或17所述的组合物,其中,所述微细气泡的形态是具有5nm~100μm的范围内的粒径的泡的个数相对于所述气泡的全部个数的比例为90%以上的形态。

84、项19.

85、一种含有含氟烯烃的组合物,其含有

86、(1)含氟烯烃(其中,偏二氟乙烯除外)、和

87、(2)液体介质,

88、并且,

89、所述含氟烯烃中的至少一部分在所本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种含有含氟烯烃的组合物,其含有:

2.根据权利要求1所述的含有含氟烯烃的组合物,其中,所述含氟烯烃为式(3)所示的化合物:

3.根据权利要求1或2所述的含有含氟烯烃的组合物,其中,所述液体介质是含有选自水和有机溶剂中的一种以上的液体介质,所述有机溶剂为除偏二氟乙烯之外的所述式(3)所示的含氟烯烃的贫溶剂。

4.根据权利要求1或2所述的含有含氟烯烃的组合物,其中,所述微细气泡的形态是具有5nm~100μm的范围内的粒径的泡的个数相对于所述气泡的全部个数的比例为90%以上的形态。

【技术特征摘要】

1.一种含有含氟烯烃的组合物,其含有:

2.根据权利要求1所述的含有含氟烯烃的组合物,其中,所述含氟烯烃为式(3)所示的化合物:

3.根据权利要求1或2所述的含有含氟烯烃的组合物,其中,所述液体介质是含有选自水和有机溶剂中的一种以上的液体...

【专利技术属性】
技术研发人员:白井淳黑木克亲间濑畅之
申请(专利权)人:大金工业株式会社
类型:发明
国别省市:

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