System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 皮肤处理设备的光源控制方法、控制装置及介质制造方法及图纸_技高网

皮肤处理设备的光源控制方法、控制装置及介质制造方法及图纸

技术编号:43079349 阅读:5 留言:0更新日期:2024-10-26 09:30
本申请适用于皮肤处理设备技术领域,提供了一种皮肤处理设备的光源控制方法、控制装置、皮肤处理设备及介质。通过利用模式调节指令指示皮肤处理装置进行工作模式切换,响应于该模式调节指令,可以确定光源的目标峰值波长。基于目标峰值波长与光源的调节机制,可以确定出光源适配的控制参数,利用该控制参数可以控制光源输出目标光能,将初始光能对应的峰值波长调整至相应的目标峰值波长。实现了通过切换皮肤处理设备不同的工作模式,对应控制光源输出峰值波长不同的光能,为控制皮肤处理设备提供了更丰富的出光控制途径,以及为实现皮肤处理设备输出更具针对性的光能提供了实现基础,拓宽了皮肤处理设备的适用范围。

【技术实现步骤摘要】

本申请属于皮肤处理设备,尤其涉及一种皮肤处理设备的光源控制方法、皮肤处理设备的光源控制装置、皮肤处理设备及计算机可读存储介质。


技术介绍

1、皮肤处理设备可用于改善人体皮肤状态。比如,皮肤处理设备可以是脱毛仪,通过触发脉冲光能量作用于皮肤毛囊,进而起到抑制毛发生长作用。再比如,皮肤处理设备可以是美容仪,通过美容仪上设置的光源,可以输出不同等级的光能作用于皮肤,通过光能照射皮肤实现皮肤发热以及热量堆积的效果,从而达到对皮肤的美容和保养作用。

2、然而,传统的皮肤处理设备虽然可以设定不同的工作模式,比如,控制不同颜色的光源相互切换,或者控制某一光源的功率大小,但是并不允许对同一光源进行更多维度的调节或控制。如此一来,便无法满足用户的多维度或者具有针对性的皮肤保养需求。


技术实现思路

1、有鉴于此,本申请实施例提供了一种皮肤处理设备的光源控制方法、皮肤处理设备的光源控制装置、皮肤处理设备及计算机可读存储介质,以解决传统的皮肤处理设备适用范围较小的问题。

2、本申请实施例的第一方面提供了一种皮肤处理设备的光源控制方法,包括:

3、控制光源输出初始光能;

4、响应于模式调节指令,确定光源的目标峰值波长;其中,模式调节指令用于指示皮肤处理装置进行工作模式切换,不同的工作模式对应光源不同的目标峰值波长;目标峰值波长与初始光能对应的峰值波长不同;

5、基于目标峰值波长与光源的调节机制,确定光源对应的控制参数;光源的调节机制用于描述目标峰值波长与控制参数之间的对应关系;

6、利用控制参数控制光源,按照目标峰值波长输出目标光能。

7、本申请实施例的第二方面提供了一种皮肤处理设备的光源控制装置,包括:

8、第一执行单元,用于控制光源输出初始光能;

9、第一确定单元,用于响应于模式调节指令,确定光源的目标峰值波长;其中,模式调节指令用于指示皮肤处理装置进行工作模式切换,不同的工作模式对应光源不同的目标峰值波长;目标峰值波长与初始光能对应的峰值波长不同;

10、第二确定单元,用于基于目标峰值波长与光源的调节机制,确定光源对应的控制参数;光源的调节机制用于描述目标峰值波长与控制参数之间的对应关系;

11、第二执行单元,用于利用控制参数控制光源,按照目标峰值波长输出目标光能。

12、本申请实施例的第三方面提供了一种皮肤处理设备,所述皮肤处理设备包括存储器、处理器以及存储在所述存储器中并可在所述皮肤处理设备上运行的计算机程序,所述处理器执行所述计算机程序时实现第一方面提供的皮肤处理设备的光源控制方法的各步骤。

13、本申请实施例的第四方面提供了一种计算机可读存储介质,所述计算机可读存储介质存储有计算机程序,所述计算机程序被处理器执行时实现第一方面提供的皮肤处理设备的光源控制方法的各步骤。

14、实施本申请实施例提供的一种皮肤处理设备的控制方法、皮肤处理设备的控制装置、皮肤处理设备及计算机可读存储介质具有以下有益效果:

15、本申请实施例提供的一种皮肤处理设备的光源控制方法,应用于皮肤处理设备,该皮肤处理设备被配置有光源。通过控制光源输出初始光能,在响应模式调节指令时,确定光源的目标峰值波长。其中,模式调节指令用于指示皮肤处理装置进行工作模式切换,由于不同的工作模式对应光源不同的目标峰值波长,并且光源的调节机制可以描述目标峰值波长与控制参数之间的对应关系,因此可以基于目标峰值波长与光源的调节机制,确定出光源对应的控制参数,进而可以利用该控制参数控制光源,按照目标峰值波长输出目标光能。上述方案,在控制光源输出初始光能的情况下,将不同的工作模式对应光源不同的目标峰值波长,并且利用模式调节指令指示皮肤处理装置进行工作模式切换,进而通过响应模式调节指令,可以确定光源的目标峰值波长。基于目标峰值波长结合光源的调节机制,可以确定出该光源适配的控制参数,从而利用该控制参数可以控制光源输出目标光能,将初始光能对应的峰值波长调整至相应的目标峰值波长,或者移动至相应的目标峰值波长。实现了通过切换皮肤处理设备不同的工作模式,对应控制光源输出峰值波长不同的光能,为控制皮肤处理设备提供了更丰富的出光控制途径,提高了皮肤处理设备的光源可调节性与控光能力,以及可以令皮肤处理设备输出更具针对性的光能以满足用户多维度或者个性化的皮肤保养需求,拓宽了皮肤处理设备的适用范围。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种皮肤处理装置的光源控制方法,其特征在于,所述方法包括:

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述响应于模式调节指令,确定所述光源的目标峰值波长,包括:

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述利用波长测算模型基于所述参考色温值测算候选波长,包括:

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于所述目标峰值波长与所述光源的调节机制,确定所述光源对应的控制参数,包括:

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述控制参数至少包括所述光源的工作电压值;

6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述根据所述目标色温值与所述光源的色温变化模型,确定所述光源对应的目标工作电压值,包括:

7.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述利用所述控制参数控制所述光源,按照所述目标峰值波长输出目标光能,包括:

8.根据权利要求1至7任一项所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:

9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述基于所述目标电功率调整所述光源的发光功率,包括:>

10.一种皮肤处理设备的光源控制装置,其特征在于,

11.一种皮肤处理设备,其特征在于,所述皮肤处理设备包括:存储器、处理器以及存储在所述存储器中并可在所述皮肤处理设备上运行的计算机程序,所述处理器执行所述计算机程序时实现如权利要求1至9任一项所述皮肤处理设备的光源控制方法的步骤。

12.一种计算机可读存储介质,所述计算机可读存储介质存储有计算机程序,其特征在于,所述计算机程序被处理器执行时实现如权利要求1至9任一项所述皮肤处理设备的光源控制方法的步骤。

...

【技术特征摘要】

1.一种皮肤处理装置的光源控制方法,其特征在于,所述方法包括:

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述响应于模式调节指令,确定所述光源的目标峰值波长,包括:

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述利用波长测算模型基于所述参考色温值测算候选波长,包括:

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于所述目标峰值波长与所述光源的调节机制,确定所述光源对应的控制参数,包括:

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述控制参数至少包括所述光源的工作电压值;

6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述根据所述目标色温值与所述光源的色温变化模型,确定所述光源对应的目标工作电压值,包括:

7.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述利用所述控制参...

【专利技术属性】
技术研发人员:柯创勇
申请(专利权)人:深圳由莱智能电子有限公司
类型:发明
国别省市:

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