【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及电阻率的测量，尤其涉及一种电阻率测量系统复位装置、方法。
技术介绍
1、现有对半导体电阻率的测量，采用接触式测量和非接触式测量两大类。
2、接触式测量通常是借助于四探针进行的，基于四探针法的研究已有很多。但四探针法存在测试时间长、被测试样易损坏的弊端，并且在待测的半导体零件试样体积较小或电阻率很低的情况下，会出现较大的误差。另一方面接触式测量的测量电极及被测试样的表面容易污染，形成氧化物，使待测的试样和电极难以有良好接触，也会进一步增大测量误差。
3、非接触式测量通常是借助于涡流法，通过计算涡流感应的反馈量对被检测物进行检测。此方法广泛用于非接触条件下的电阻率测量，其原理是：当载有交变电流的检测线圈靠近被测导体，由于线圈上交变磁场的作用，被测导体感应出涡流并产生与原磁场方向相反的磁场，部分抵消原磁场，导致检测线圈电阻和电感变化。
4、涡流法中使用的探头，用于激励出磁场和检测涡流产生的磁场，因为其中的信号通常非常微弱，故电阻率测量系统复位探头的位置需要固定，以尽可能减小外界的影响。若因为维修维护或者外界干扰导致探头位置无法复原，会对测量结果产生非常大的影响，甚至无法测得数据。
5、现有技术中，通常通过利用透明基准板和试样的反射来对探头进行复位。因为透明基准板在环境光较强时，可能造成反射光过强，从而导致误检，或者计算结果受到影响，产生较大误差，导致电阻率测量系统复位不准确。
技术实现思路
1、本专利技术实施例的目的在于提出一
2、为了解决上述技术问题，本专利技术提供一种电阻率测量系统复位装置，采用了如下所述的技术方案，包括：底板、试样、第一探头、第一距离检测装置、第二距离检测装置、探头调整装置、存储与计算装置；其中，所述底板或试样用于辅助所述第一距离检测装置和所述第二距离检测装置完成距离检测，所述第一探头垂直设于所述底板上方；所述第一距离检测装置与所述第一探头平行设置，固定于所述第一探头上，用于测量所述第一距离检测装置与所述底板之间的距离；所述第二距离检测装置与所述第一距离检测装置对称设置，固定于所述第一探头上，用于测量所述第二距离检测装置与所述底板之间的距离；所述探头调整装置设于所述第一探头上方；所述存储与计算装置与所述距离检测装置连接，所述试样设于所述底板的上方，与所述底板平行，所述试样与所述底板或所述第一探头均无接触。
3、优选地，所述电阻率测量系统复位装置还包括：第二探头，垂直安装于所述底板上，与所述第一探头中心在一条直线上。
4、优选地，所述距离检测装置包括激光测距仪，所述激光测距仪的激光发射方向与所述第一探头的方向平行，并且垂直于所述试样或所述底板。
5、优选地，所述电阻率测量系统复位装置还包括：对准接收装置，设于所述底板上，用于对所述第一探头与所述第二探头进行对准。
6、优选地，所述电阻率测量系统复位装置还包括：传输与支撑装置，设于所述试样的下方，用于当所述试样倾斜或者偏移时，对所述试样进行调整。
7、优选地，所述传输与支撑装置设有多个，多个所述传输与支撑装置均匀地设于所述试样的下方。
8、优选地，所述探头调整装置包括调整机构，所述调整机构包括第二电机、减速器、传动轴、传感器，所述第二电机用于驱动所述减速器转动，所述减速器用于带动所述传动轴旋转，进而实现所述第一探头的移动和旋转，所述传感器用于实时监测所述第一探头的位置，确保调整的精度。
9、为了解决上述技术问题，本专利技术还提供一种电阻率测量系统复位方法，采用了如下所述的技术方案，应用于上述的电阻率测量系统复位装置，根据距离测量的结果对所述第一探头进行位置调整，所述方法包括下述步骤：
10、步骤s1，计算所述第一距离检测装置的实时测量结果d1、所述第二距离检测装置的实时测量结果d2的平均值如果所述平均值不等于预设标准距离d，跳转到步骤s2；如果所述平均值等于所述预设标准距离d，跳转到步骤s3；
11、步骤s2，如果所述平均值大于所述预设标准距离d，将所述第一探头向远离所述底板或试样的方向移动如果所述平均值小于所述预设标准距离d，将所述第一探头向靠近所述底板或试样的方向移动然后重新进行距离测量，跳转到步骤s1；
12、步骤s3，计算第一距离偏差a1＝d1-d；如果所述第一距离偏差a1的绝对值小于或等于预设最大误差γ，调整结束；反之，如果所述第一距离偏差a1大于所述预设最大误差γ，逆时针旋转所述第一探头；如果所述第一距离偏差a1小于所述预设最大误差γ的负数，顺时针旋转所述第一探头；然后重新进行距离测量，跳转到步骤s1。
13、优选地，所述步骤s3中，所述逆时针旋转所述第一探头及所述顺时针旋转所述第一探头时，所述旋转的角度为arc tan a1/d1或者arc tan a1/d1的倍数或者所述探头调整装置支持的最小转动角度。
14、优选地，所述方法还包括：在调整的过程中，对调整次数进行计数，当所述调整次数的值超过预设最大调整次数之后，结束调整过程。
15、与现有技术相比，本专利技术主要有以下有益效果：在探头发生倾斜或者偏移时，对探头进行位置调整，提高系统复位准确度，本专利技术的装置和方法可普遍适用于金属、半导体、薄膜材料等电阻率的测量等领域。
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1.一种电阻率测量系统复位装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的电阻率测量系统复位装置，其特征在于，所述测量系统复位装置还包括：第二探头，垂直安装于所述底板上，与所述第一探头中心在一条直线上。
3.根据权利要求1所述的电阻率测量系统复位装置，其特征在于，所述距离检测装置包括激光测距仪，所述激光测距仪的激光发射方向与所述第一探头的方向平行，并且垂直于所述试样或所述底板。
4.根据权利要求2所述的电阻率测量系统复位装置，其特征在于，所述测量系统复位装置还包括：对准接收装置，设于所述底板上，用于对所述第一探头与所述第二探头进行对准。
5.根据权利要求1所述的电阻率测量系统复位装置，其特征在于，所述测量系统复位装置还包括：传输与支撑装置，设于所述试样的下方，用于当所述试样倾斜或者偏移时，对所述试样进行调整。
6.根据权利要求5所述的电阻率测量系统复位装置，其特征在于，所述传输与支撑装置设有多个，多个所述传输与支撑装置均匀地设于所述试样的下方。
7.根据权利要求1至6任意一项所述的电阻率测量系统复位装置，其
8.一种电阻率测量系统复位方法，其特征在于，应用于如权利要求1至7任意一项所述的测量系统复位装置，根据距离测量的结果对所述第一探头进行位置调整，所述方法包括下述步骤：
9.根据权利要求8所述的电阻率测量系统复位方法，其特征在于，所述步骤S3中，所述逆时针旋转所述第一探头及所述顺时针旋转所述第一探头时，所述旋转的角度为arc tana1/d1或者arc tan a1/d1的倍数或者所述探头调整装置支持的最小转动角度。
10.根据权利要求8所述的电阻率测量系统复位方法，其特征在于，所述方法还包括：在调整的过程中，对调整次数进行计数，当所述调整次数的值超过预设最大调整次数之后，结束调整过程。
...【技术特征摘要】
1.一种电阻率测量系统复位装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的电阻率测量系统复位装置，其特征在于，所述测量系统复位装置还包括：第二探头，垂直安装于所述底板上，与所述第一探头中心在一条直线上。
3.根据权利要求1所述的电阻率测量系统复位装置，其特征在于，所述距离检测装置包括激光测距仪，所述激光测距仪的激光发射方向与所述第一探头的方向平行，并且垂直于所述试样或所述底板。
4.根据权利要求2所述的电阻率测量系统复位装置，其特征在于，所述测量系统复位装置还包括：对准接收装置，设于所述底板上，用于对所述第一探头与所述第二探头进行对准。
5.根据权利要求1所述的电阻率测量系统复位装置，其特征在于，所述测量系统复位装置还包括：传输与支撑装置，设于所述试样的下方，用于当所述试样倾斜或者偏移时，对所述试样进行调整。
6.根据权利要求5所述的电阻率测量系统复位装置，其特征在于，所述传输与支撑装置设有多个，多个所述传输与支撑装置均匀地设于所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：肖晶，李航，
申请(专利权)人：鸾和深圳科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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