外延炉晶圆材料的取放隔离结构制造技术

本技术公开了一种外延炉晶圆材料的取放隔离结构，其包括进样腔底座、进样腔上盖和隔离箱，所述进样腔底座设置在所述隔离箱内，所述进样腔上盖盖设在所述进样腔底座上。本技术的结构设计合理，通过隔离箱将进样腔底座和进样腔上盖与外界隔离，操作人员将手伸入操作手套便能完成衬底或外延片的取放流程，整体取放流程均是在隔离箱内完成的，有效解决碳化硅外延炉在放片和取片时容易被外界污染物影响的问题，进而保证成品质量。而且在操作前，还可以通过排气孔进行对隔离箱进行抽真空，确保箱内洁净，然后再通过进气口送入清洁惰性气体使得箱内和腔内的气压平衡，以方便操作。另外整体结构简单，可靠性高，成本较低，利于广泛推广应用。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及外延炉，尤其是一种应用在外延炉的传输装置上的外延炉晶圆材料的取放隔离结构。

技术介绍

1、目前，在半导体工艺过程中，污染是生产制造工艺中需要首要解决的问题。如碳化硅外延炉的放片和取片的过程中，即将单片盒上的衬底取出放到进样腔上或将进样腔上的外延片取出放回单片盒的过程当中并没有与外界隔离，容易存在粉尘等漂浮物和掉落物掉落在衬底或外延片上而导致污染，影响成品质量差。

2、因此，基于上述问题，需要设计一种能解决了碳化硅外延炉在放片和取片时容易被外界污染物影响的隔离结构，对于提升碳化硅外延片的成品质量有着非常重要的实际意义。

技术实现思路

1、针对上述不足，本技术的目的在于，提供一种结构设计合理，能解决外延炉在放片和取片时容易被外界污染物影响的外延炉晶圆材料的取放隔离结构。

2、为实现上述目的，本技术所提供的技术方案是：

3、一种外延炉晶圆材料的取放隔离结构，其包括进样腔底座、进样腔上盖和隔离箱，所述隔离箱至少有一面是透明结构，这样可以方便观察和操作晶圆材料的取放过程，所述进样腔底座设置在所述隔离箱内，所述进样腔上盖盖设在所述进样腔底座上，所述隔离箱的箱壁上设有能伸入其内的操作手套，所述隔离箱上设有进气口和排气口。

4、作为本技术的一种优选方案，所述隔离箱包括透明耐酸碱箱体和门板，所述透明耐酸碱箱体的正面设有进样开口，所述门板设置在所述进样开口上，并能打开或封闭所述进样开口。透明耐酸碱箱体由透明、物化稳定性高、力学性能好的耐酸碱材料制成，具有密封能力，能够承受压力，有效避免反应室被污染。

5、作为本技术的一种优选方案，所述透明耐酸碱箱体或门板上设有手套管，所述操作手套套设在所述手套管上，可以在保持封闭环境的同时进行操作。

6、作为本技术的一种优选方案，所述进气口和排气口位于所述透明耐酸碱箱体的背面，布置合理，排气孔用于抽真空，确保箱内洁净，避免箱内环境受到污染而影响外延片质量。

7、作为本技术的一种优选方案，所述进样开口的边缘设有能将所述门板锁住的门锁，通过门锁锁紧，能确保箱体内部的密封性。

8、作为本技术的一种优选方案，所述进样腔底座上设有用来取放晶圆材料的取放位，能方便准确地进行对晶圆材料进行取放，所述晶圆材料可以为衬底或外延片等。

9、作为本技术的一种优选方案，所述进样腔上盖上设有提手,能方便将进样腔上盖打开，便于操作。

10、本技术的有益效果为：本技术的结构设计合理，通过隔离箱将进样腔底座和进样腔上盖与外界隔离，操作人员将手伸入操作手套便能完成衬底或外延片的取放流程，整体取放流程均是在隔离箱内完成的，有效解决碳化硅外延炉在放片和取片时容易被外界污染物影响的问题，进而保证成品质量。而且在操作前，还可以通过排气孔进行对隔离箱进行抽真空，确保箱内洁净，然后再通过进气口送入清洁惰性气体使得箱内和腔内的气压平衡，以方便操作。另外整体结构简单，可靠性高，成本较低，操作简易，利于广泛推广应用。

11、下面结合附图与实施例，对本技术进一步说明。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种外延炉晶圆材料的取放隔离结构，其包括进样腔底座和进样腔上盖，其特征在于，其还包括隔离箱，所述隔离箱至少有一面是透明结构，所述进样腔底座设置在所述隔离箱内，所述进样腔上盖盖设在所述进样腔底座上，所述隔离箱的箱壁上设有能伸入其内的操作手套，所述隔离箱上设有进气口和排气口。

2.根据权利要求1所述的外延炉晶圆材料的取放隔离结构，其特征在于，所述隔离箱包括透明耐酸碱箱体和门板，所述透明耐酸碱箱体的正面设有进样开口，所述门板设置在所述进样开口上，并能打开或封闭所述进样开口。

3.根据权利要求2所述的外延炉晶圆材料的取放隔离结构，其特征在于，所述透明耐酸碱箱体或门板上设有手套管，所述操作手套套设在所述手套管上。

4.根据权利要求2所述的外延炉晶圆材料的取放隔离结构，其特征在于，所述进气口和排气口位于所述透明耐酸碱箱体的背面。

5.根据权利要求2所述的外延炉晶圆材料的取放隔离结构，其特征在于，所述进样开口的边缘设有能将所述门板锁住的门锁。

6.根据权利要求1所述的外延炉晶圆材料的取放隔离结构，其特征在于，所述进样腔底座上设有用来取放晶圆材料的取放位。

7.根据权利要求6所述的外延炉晶圆材料的取放隔离结构，其特征在于，所述晶圆材料为衬底或外延片。

8.根据权利要求1-7任意一项所述的外延炉晶圆材料的取放隔离结构，其特征在于，所述进样腔上盖上设有能方便将其打开的提手。

...

【技术特征摘要】

1.一种外延炉晶圆材料的取放隔离结构，其包括进样腔底座和进样腔上盖，其特征在于，其还包括隔离箱，所述隔离箱至少有一面是透明结构，所述进样腔底座设置在所述隔离箱内，所述进样腔上盖盖设在所述进样腔底座上，所述隔离箱的箱壁上设有能伸入其内的操作手套，所述隔离箱上设有进气口和排气口。

2.根据权利要求1所述的外延炉晶圆材料的取放隔离结构，其特征在于，所述隔离箱包括透明耐酸碱箱体和门板，所述透明耐酸碱箱体的正面设有进样开口，所述门板设置在所述进样开口上，并能打开或封闭所述进样开口。

3.根据权利要求2所述的外延炉晶圆材料的取放隔离结构，其特征在于，所述透明耐酸碱箱体或门板上设有手套管，所述操作手套套设在所述手...

【专利技术属性】
技术研发人员：严泽昌，曾庆森，陈佳枚，林逸，陈蛟，
申请(专利权)人：广州粤升半导体设备有限公司，
类型：新型
国别省市：