【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及电子束熔炼，尤其涉及一种应用于电子束偏扫系统的双路功率放大器。
技术介绍
1、随着电子束熔炼技术的快速发展，不同的电子束运动轨迹对熔炼的效率有很大影响，而功率放大器作为电子束偏扫控制系统的核心部件，无疑对功率放大器的性能提出了更高的要求。传统功率放大器无法实现交直流信号的同时放大，另一方面器件集成度低、体积较大，无法在同一功率放大器中实现多路同时放大信号。因此，需要一种应用于电子束偏扫系统的双路功率放大器，既能够同时实现交流直流信号同时放大且可以实现多路信号同步放大，又集成度高体积小。
技术实现思路
1、本专利技术的目的是提出一种应用于电子束偏扫系统的双路功率放大器，在控制网络中分别接收处理电子束的交流信号和直流信号，在主电路网络中设置两路放大器分别对电子束的交流信号和直流信号进行放大后连接磁线圈来控制电子束的输出轨迹。
2、电子束的输出轨迹是磁线圈控制的两路电子束的合运动。
3、控制网络中设置的芯片包括tl084cn、csm003a、tl081cp。
4、双路功率放大器处理电子束的交流信号和直流信号包括以下步骤：
5、步骤1：控制网络输出电流采样信号；
6、步骤2：tl084cn检测交流信号和直流信号；
7、步骤3：csm003a将电流信号转为电压信号；
8、步骤4：判断是否达到目标电压值；若是，则转到步骤8；若否，则转到步骤5；
9、步骤5：计算交直流电压与目标值的误差
10、步骤6：tl081cp对交直流电压进行运算；再转到步骤7；
11、步骤7：判断是否达到目标电压值；若是，则转到步骤8；若否，则转到步骤5；
12、步骤8：tl084cn区分交直流信号，主电路输出电流信号。
13、本专利技术的有益效果在于：
14、本专利技术可实现对交流模拟量和直流模拟量的同时放大，满足对电子束偏移与轨迹模拟量的放大要求，且放大精准、集成度高，大大提高了电子束熔炼的效率。
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1.一种应用于电子束偏扫系统的双路功率放大器，其特征在于，在控制网络中分别接收处理电子束的交流信号和直流信号，在主电路网络中设置两路放大器分别对电子束的交流信号和直流信号进行放大后连接磁线圈来控制电子束的输出轨迹。
2.根据权利要求1所述应用于电子束偏扫系统的双路功率放大器，其特征在于，电子束的输出轨迹是磁线圈控制的两路电子束的合运动。
3.根据权利要求1或2所述应用于电子束偏扫系统的双路功率放大器，其特征在于，所述控制网络中设置的芯片包括TL084CN、CSM003A、TL081CP。
4.根据权利要求3所述应用于电子束偏扫系统的双路功率放大器，其特征在于，所述双路功率放大器处理电子束的交流信号和直流信号包括以下步骤：
【技术特征摘要】
1.一种应用于电子束偏扫系统的双路功率放大器，其特征在于，在控制网络中分别接收处理电子束的交流信号和直流信号，在主电路网络中设置两路放大器分别对电子束的交流信号和直流信号进行放大后连接磁线圈来控制电子束的输出轨迹。
2.根据权利要求1所述应用于电子束偏扫系统的双路功率放大器，其特征在于，电子束的输出轨迹是磁线圈控制的两...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈帅，王宏斌，朱宝宏，邱昊辰，李勍，
申请(专利权)人：有研工程技术研究院有限公司，
类型：发明
国别省市：
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