【技术实现步骤摘要】
本公开内容涉及衬底处理室，更具体而言，本公开内容涉及测量气体分配装置与衬底支撑件之间的距离的系统与方法。
技术介绍
1、这里提供的背景描述是为了总体呈现本公开的背景的目的。当前指定的专利技术人的工作在其在此
技术介绍
部分以及在提交申请时不能确定为现有技术的说明书的各方面中描述的范围内既不明确也不暗示地承认是针对本公开的现有技术。
2、衬底处理系统可用于处理诸如半导体晶片之类的衬底。可以在衬底上执行的示例性处理包括但不限于化学气相沉积(cvd)、原子层沉积(ald)、导体蚀刻和/或其他蚀刻、沉积或清洁处理。衬底可以布置在衬底处理系统的处理室中的衬底支撑件上，衬底支撑件例如基座、静电卡盘(esc)等。
3、衬底支撑件可以包含布置成支撑衬底的陶瓷层。例如，可以在处理期间将晶片静电夹持到陶瓷层上。
技术实现思路
1、在一特征中，一种衬底处理系统包含：激光三角传感器，其被配置成通过衬底处理室的外壁的窗来传输和接收光。控制器被配置成：将所述激光三角传感器定位，使得所述激光三角传感器传输光至布置于衬底支撑件的第一表面和气体分配装置的第二表面之间的测量特征上，其中所述第二表面面对所述第一表面；以及当所述激光三角传感器传输光至所述测量特征上时，基于下列两者之间的差异来确定所述第一表面和所述第二表面之间的第一距离：使用所述激光三角传感器所测得的介于所述激光三角传感器与所述第一表面之间的第二距离；以及使用所述激光三角传感器所测得的介于所述激光三角传感器与所述第二表面之间的第三距离。
2、在其他特征中，所述测量特征被配置成：当所述激光三角传感器输出光至所述测量特征的第一表面上时，将来自所述激光三角传感器的光反射至所述衬底支撑件的所述第一表面上；以及当所述激光三角传感器输出光至所述测量特征的第二表面上时，将来自所述激光三角传感器的光反射至所述气体分配装置的所述第二表面上。
3、在其他特征中，所述测量特征包含含有镜面涂膜的刀刃棱镜。
4、在其他特征中，所述控制器被配置成将所述衬底处理室内的温度增加至大于或等于预定处理温度，其中当所述温度大于或等于所述预定处理温度时，所述控制器被配置成将所述激光三角传感器定位。
5、在其他特征中，所述预定处理温度为至少80℃。
6、在其他特征中，调整机构被配置成升高和降低所述气体分配装置的一部分。
7、在其他特征中，所述控制器被配置成基于所述第一距离而选择性地致动所述调整机构。
8、在其他特征中，所述控制器被配置成选择性地致动所述调整机构，以将所述第一距离朝向第一目标距离调整。
9、在其他特征中，所述控制器被进一步配置成：将所述激光三角传感器定位，使得所述激光三角传感器传输光至布置于所述衬底支撑件的所述第一表面和所述气体分配装置的所述第二表面之间的第二测量特征；以及当所述激光三角传感器传输光至所述第二测量特征上时，基于下列两者之间的第二差异来确定所述第一表面和所述第二表面之间的第四距离：使用所述激光三角传感器所测得的介于所述激光三角传感器与所述第一表面之间的第五距离；以及使用所述激光三角传感器所测得的介于所述激光三角传感器与所述第二表面之间的第六距离。
10、在其他特征中，所述控制器被进一步配置成：将所述激光三角传感器定位，使得所述激光三角传感器传输光至布置于所述衬底支撑件的所述第一表面和所述气体分配装置的所述第二表面之间的第三测量特征；以及当所述激光三角传感器传输光至所述第三测量特征上时，基于下列两者之间的第三差异来确定所述第一表面和所述第二表面之间的第七距离：使用所述激光三角传感器所测得的介于所述激光三角传感器与所述第一表面之间的第八距离；以及使用所述激光三角传感器所测得的介于所述激光三角传感器与所述第二表面之间的第九距离。
11、在其他特征中，第一调整机构被配置成升高和降低所述气体分配装置上的第一点；第二调整机构被配置成独立于所述第一调整机构而升高和降低所述气体分配装置上的第二点；第三调整机构，其被配置成独立于所述第一调整机构和所述第二调整机构而升高和降低所述气体分配装置上的第三点。
12、在其他特征中，所述控制器被配置成基于所述第一、第二、以及第三距离中的至少一者而选择性地致动所述第一、第二、以及第三调整机构中的至少一者。
13、在一特征中，一种衬底处理方法包含：通过激光三角传感器，穿过衬底处理室的外壁的窗来传输和接收光；将所述激光三角传感器定位，使得所述激光三角传感器传输光至布置于衬底支撑件的第一表面和气体分配装置的第二表面之间的测量特征上，其中所述第二表面面对所述第一表面；当所述激光三角传感器传输光至所述测量特征上时，基于下列两者之间的差异来确定所述第一表面和所述第二表面之间的第一距离：使用所述激光三角传感器所测得的介于所述激光三角传感器与所述第一表面之间的第二距离；以及使用所述激光三角传感器所测得的介于所述激光三角传感器与所述第二表面之间的第三距离。
14、在其他特征中，所述衬底处理方法还包含通过所述测量特征：当所述激光三角传感器输出光至所述测量特征的第一表面上时，将来自所述激光三角传感器的光反射至所述衬底支撑件的所述第一表面上；以及当所述激光三角传感器输出光至所述测量特征的第二表面上时，将来自所述激光三角传感器的光反射至所述气体分配装置的所述第二表面上。
15、在其他特征中，所述测量特征包含含有镜面涂膜的刀刃棱镜。
16、在其他特征中，所述衬底处理方法还包含将所述衬底处理室内的温度增加至大于或等于预定处理温度，其中所述定位包含：当所述温度大于或等于所述预定处理温度时，将所述激光三角传感器定位。
17、在其他特征中，所述预定处理温度为至少80℃。
18、在其他特征中，所述衬底处理方法还包含：升高和降低所述气体分配装置的一部分。
19、在其他特征中，所述升高和降低包含基于所述第一距离而对所述气体分配装置的所述部分进行升高和降低中的至少一者。
20、在其他特征中，所述升高和降低包含对所述气体分配装置的所述部分进行升高和降低中的至少一者，以将所述第一距离朝向第一目标距离调整。
21、在其他特征中，所述衬底处理方法还包含：将所述激光三角传感器定位，使得所述激光三角传感器传输光至布置于所述衬底支撑件的所述第一表面和所述气体分配装置的所述第二表面之间的第二测量特征；以及当所述激光三角传感器传输光至所述第二测量特征上时，基于下列两者之间的第二差异来确定所述第一表面和所述第二表面之间的第四距离：使用所述激光三角传感器所测得的介于所述激光三角传感器与所述第一表面之间的第五距离；以及使用所述激光三角传感器所测得的介于所述激光三角传感器与所述第二表面之间的第六距离。
22、在其他特征中，所述衬底处理方法还包含：将所述激光三角传感器定位，使得所述激光三角传感器传输光至布置于所述衬底支撑件的所述第一表面和所述气体分配装置的所述第二表面之间的第三测量特征本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种衬底处理系统，其包含：
2.根据权利要求1所述的衬底处理系统，其中所述测量特征被配置成：
3.根据权利要求1所述的衬底处理系统，其中所述测量特征包含含有镜面涂膜的刀刃棱镜。
4.根据权利要求1所述的衬底处理系统，其中所述控制器被配置成将所述衬底处理室内的温度增加至大于或等于预定处理温度，
5.根据权利要求4所述的衬底处理系统，其中所述预定处理温度为至少80℃。
6.根据权利要求1所述的衬底处理系统，其中还包含：
7.根据权利要求6所述的衬底处理系统，其中所述控制器被配置成基于所述第一距离而选择性地致动所述调整机构。
8.根据权利要求7所述的衬底处理系统，其中所述控制器被配置成选择性地致动所述调整机构，以将所述第一距离朝向第一目标距离调整。
9.根据权利要求1所述的衬底处理系统，其中所述控制器被进一步配置成当所述距离传感器传输光至布置于所述衬底支撑件的所述第一表面和所述气体分配装置的所述第二表面之间的第二测量特征上时，基于下列两者之间的第二差异来确定所述第一表面和所述第二表面之间
10.根据权利要求9所述的衬底处理系统，其中所述控制器被进一步配置成当所述距离传感器传输光至布置于所述衬底支撑件的所述第一表面和所述气体分配装置的所述第二表面之间的第三测量特征上时，基于下列两者之间的第三差异来确定所述第一表面和所述第二表面之间的第七距离：
11.根据权利要求10所述的衬底处理系统，其还包含：
12.根据权利要求11所述的衬底处理系统，其中所述控制器被配置成基于所述第一距离、所述第二距离、以及所述第三距离中的至少一者而选择性地致动所述第一调整机构、所述第二调整机构、以及所述第三调整机构中的至少一者。
13.一种衬底处理方法，其包含：
14.根据权利要求13所述的衬底处理方法，其还包含通过所述测量特征：
15.根据权利要求13所述的衬底处理方法，其中所述测量特征包含含有镜面涂膜的刀刃棱镜。
16.根据权利要求13所述的衬底处理方法，其还包含将所述衬底处理室内的温度增加至大于或等于预定处理温度，
17.根据权利要求16所述的衬底处理方法，其中所述预定处理温度为至少80℃。
18.根据权利要求13所述的衬底处理方法，其还包含：
19.根据权利要求18所述的衬底处理方法，其中所述升高和降低包含基于所述第一距离而对所述气体分配装置的所述部分进行升高和降低中的至少一者。
20.根据权利要求19所述的衬底处理方法，其中所述升高和降低包含对所述气体分配装置的所述部分进行升高和降低中的至少一者，以将所述第一距离朝向第一目标距离调整。
21.根据权利要求13所述的衬底处理方法，其还包含，当所述距离传感器传输光至布置于所述衬底支撑件的所述第一表面和所述气体分配装置的所述第二表面之间的第二测量特征上时，基于下列两者之间的第二差异来确定所述第一表面和所述第二表面之间的第四距离：
22.根据权利要求21所述的衬底处理方法，其还包含，当所述距离传感器传输光至布置于所述衬底支撑件的所述第一表面和所述气体分配装置的所述第二表面之间的第三测量特征上时，基于下列两者之间的第三差异来确定所述第一表面和所述第二表面之间的第七距离：
23.根据权利要求22所述的衬底处理方法，其还包含：
24.根据权利要求23所述的衬底处理方法，其还包含基于所述第一距离、所述第二距离、以及所述第三距离中的至少一者而对所述第一点、所述第二点、以及所述第三点中的至少一者进行升高和降低中的至少一者。
...【技术特征摘要】
1.一种衬底处理系统，其包含：
2.根据权利要求1所述的衬底处理系统，其中所述测量特征被配置成：
3.根据权利要求1所述的衬底处理系统，其中所述测量特征包含含有镜面涂膜的刀刃棱镜。
4.根据权利要求1所述的衬底处理系统，其中所述控制器被配置成将所述衬底处理室内的温度增加至大于或等于预定处理温度，
5.根据权利要求4所述的衬底处理系统，其中所述预定处理温度为至少80℃。
6.根据权利要求1所述的衬底处理系统，其中还包含：
7.根据权利要求6所述的衬底处理系统，其中所述控制器被配置成基于所述第一距离而选择性地致动所述调整机构。
8.根据权利要求7所述的衬底处理系统，其中所述控制器被配置成选择性地致动所述调整机构，以将所述第一距离朝向第一目标距离调整。
9.根据权利要求1所述的衬底处理系统，其中所述控制器被进一步配置成当所述距离传感器传输光至布置于所述衬底支撑件的所述第一表面和所述气体分配装置的所述第二表面之间的第二测量特征上时，基于下列两者之间的第二差异来确定所述第一表面和所述第二表面之间的第四距离：
10.根据权利要求9所述的衬底处理系统，其中所述控制器被进一步配置成当所述距离传感器传输光至布置于所述衬底支撑件的所述第一表面和所述气体分配装置的所述第二表面之间的第三测量特征上时，基于下列两者之间的第三差异来确定所述第一表面和所述第二表面之间的第七距离：
11.根据权利要求10所述的衬底处理系统，其还包含：
12.根据权利要求11所述的衬底处理系统，其中所述控制器被配置成基于所述第一距离、所述第二距离、以及所述第三距离中的至少一者而选择性地致动所述第一调整机构、所述第二调整机构、以及所述第三调整机构中的至少一者。
13.一...
【专利技术属性】
技术研发人员：马克·E·爱默生，尼克·雷·小莱恩巴格，
申请(专利权)人：朗姆研究公司，
类型：发明
国别省市：
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