本发明专利技术公开了一种异形微透镜的制作方法及异形微透镜，其能够高效稳定的重复加工异形微透镜，工艺流程较少，成品透镜与理想的透镜对比，工艺引入的误差小。
1、微透镜是常用的光学器件，其在光通信、红外领域、消费电子等领域具有广泛的应用。凹或者凸面微透镜在光器件中是主要的形态，透镜在后面封装或在光路中需要搭配其他器件一同使用，需要较高的成本且增加了加工的时间。
6、在所述第一基底第一表面形成第二光刻胶层，所述第二光刻胶层覆盖所述微透镜面型和所述保护层，曝光显影所述第二光刻胶层，形成暴露所述微透镜面型的一个或多个异形结构，所述第一基底、微透镜面型以及异形结构构成异形微透镜母模具；
>8、在所述异形微透镜母模具上形成复合膜层；9、对所述复合膜层与所述异形微透镜母模具进行脱模处理；
10、提供第二基底，在所述第二基底第一表面形成压印胶层；
11、将所述第二基底的第一表面与所述复合膜层对位压印并固化脱模，以在所述压印胶层上形成异形微透镜面型；
12、通过刻蚀技术，将所述异形微透镜面型转移至所述第二基底上，形成异形微透镜。
13、在本专利技术的一个或多个实施例中，所述复合膜层包括依次设置的第一膜层，第二膜层以及第三膜层，所述第一膜层至少填充于所述异形结构和所述微透镜面型之间，所述第一膜层具有第一硬度，所述第二膜层覆盖所述异形结构和所述微透镜面型，所述第二膜层具有大于所述第一硬度的第二硬度，第三膜层的尺寸大于所述第二膜层的尺寸。
14、在本专利技术的一个或多个实施例中，所述第一光刻胶层和所述第二光刻胶层的材料包括正性光刻胶和/或负性光刻胶；和/或
15、所述保护层的材料包括无溶剂环氧uv胶；和/或，
16、所述压印胶层的材料包括聚丙烯酸uv固化耐刻蚀光刻胶；和/或，
17、所述第一硬度的范围小于或等于40a；和/或，
18、所述第一硬度的范围为25a-40a；和/或，
19、所述第二硬度的范围为45a-50a；和/或，
20、所述复合膜层的厚度范围为300μm-800μm；和/或，
21、所述第一膜层、第二膜层的材料均包括pdms和h-pdms；和/或，
22、所述第三膜层为pet膜。
23、在本专利技术的一个或多个实施例中，在所述第二基底第一表面形成压印胶层的步骤之前，还包括在所述第二基底第一表面涂布增粘剂的步骤；和/或，
24、在所述异形微透镜母模具表面形成抗沾涂层，包括：
25、对所述异形微透镜母模具表面进行改性hmds处理，后使用羟基硅油涂布固化以形成抗沾涂层。
26、在本专利技术的一个或多个实施例中，通过刻蚀技术，将所述异形微透镜面型转移至所述第二基底上，形成异形微透镜，包括：
27、通过干法刻蚀技术，将所述异形微透镜面型转移至所述第二基底上，其中，将所述微透镜面型完全转移至所述第二基底上后，仍保留所述异形结构表面的压印胶层厚度大于1μm；
28、去除所述异形结构表面的压印胶层，形成异形微透镜。
29、本专利技术一具体实施例提供了一种异形微透镜的制作方法，包括：
30、提供第一基底，在所述第一基底第一表面形成第一光刻胶层，曝光显影所述第一光刻胶层，形成一个或多个柱状的胶柱结构；
31、对所述第一基底加热，使每个所述胶柱结构热回流形成微透镜面型；
32、通过刻蚀技术，将所述微透镜面型转移至所述第一基底上，形成微透镜；
33、在所述第一基底具有微透镜的表面上形成第二光刻胶层，所述第二光刻胶层覆盖所述微透镜，曝光显影所述第二光刻胶层，形成暴露所述微透镜的一个或多个异形结构，所述第一基底、异形结构构成异形微透镜母模具；
34、在所述异形微透镜母模具表面形成抗沾涂层；
35、在所述异形微透镜母模具上形成复合膜层；
36、对所述复合膜层与所述异形微透镜母模具进行脱模处理；
37、提供第二基底，在所述第二基底第一表面形成压印胶层；
38、将所述第二基底的第一表面与所述复合膜层对位压印并固化脱模，以在所述压印胶层上形成异形微透镜面型；
39、通过刻蚀技术，将所述异形微透镜面型转移至所述第二基底上，形成异形微透镜。
40、在本专利技术的一个或多个实施例中，所述复合膜层包括依次设置的第二膜层以及第三膜层，所述第二膜层覆盖所述异形结构和所述微透镜面型，第三膜层的尺寸大于所述第二膜层的尺寸。
41、在本专利技术的一个或多个实施例中，所述第一光刻胶层和所述第二光刻胶层的材料包括正性光刻胶和/或负性光刻胶；和/或，
42、所述压印胶层的材料包括聚丙烯酸uv固化耐刻蚀光刻胶；和/或，
43、所述复合膜层的厚度范围为250μm-500μm；和/或，
44、所述第二膜层的材料包括pdms和h-pdms；和/或，
45、所述第三膜层为pet膜；和/或，
46、所述第二膜层具有第二硬度，所述第二硬度的范围为45a-50a。
47、在本专利技术的一个或多个实施例中，在所述第二基底第一表面形成压印胶层的步骤之前，还包括在所述第二基底第一表面涂布增粘剂的步骤；和/或，
48、在所述异形微透镜母模具表面形成抗沾涂层，包括：
49、对所述异形微透镜母模具表面进行改性hmds处理，后使用羟基硅油涂布固化以形成抗沾涂层。
50、本专利技术一具体实施例提供了一种异形微透镜，由上述的异形微透镜的制作方法所制作而成。
51、与现有技术相比，本专利技术的异形微透镜的制作方法及异形微透镜，其能够高效稳定的重复加工异形微透镜，工艺流程较少，成品透镜与理想的透镜对比，工艺引入的误差小。
52、本专利技术的异形微透镜的制作方法及异形微透镜，突破了一体多结构透镜纳米压印加工能力，工艺较简单，适用于大多数基底材料；通过纳米压印复制技术快速复制异形微透镜，效率极高，省去多结构加工过程；利用半导体加工技术，精准控制透镜面型本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种异形微透镜的制作方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的异形微透镜的制作方法，其特征在于，所述复合膜层包括依次设置的第一膜层，第二膜层以及第三膜层，所述第一膜层至少填充于所述异形结构和所述微透镜面型之间，所述第一膜层具有第一硬度，所述第二膜层覆盖所述异形结构和所述微透镜面型，所述第二膜层具有大于所述第一硬度的第二硬度，第三膜层的尺寸大于所述第二膜层的尺寸。
3.根据权利要求2所述的异形微透镜的制作方法，其特征在于，所述第一光刻胶层和所述第二光刻胶层的材料包括正性光刻胶和/或负性光刻胶；和/或
4.根据权利要求1所述的异形微透镜的制作方法，其特征在于，在所述第二基底第一表面形成压印胶层的步骤之前，还包括在所述第二基底第一表面涂布增粘剂的步骤；和/或，
5.根据权利要求1所述的异形微透镜的制作方法，其特征在于，通过刻蚀技术，将所述异形微透镜面型转移至所述第二基底上，形成异形微透镜，包括：
6.一种异形微透镜的制作方法，其特征在于，包括：
7.根据权利要求6所述的异形微透镜的制作方法，其特征在于，所述复合膜层包括依次设置的第二膜层以及第三膜层，所述第二膜层覆盖所述异形结构和所述微透镜面型，第三膜层的尺寸大于所述第二膜层的尺寸。
8.根据权利要求7所述的异形微透镜的制作方法，其特征在于，所述第一光刻胶层和所述第二光刻胶层的材料包括正性光刻胶和/或负性光刻胶；和/或，
9.根据权利要求1所述的异形微透镜的制作方法，其特征在于，在所述第二基底第一表面形成压印胶层的步骤之前，还包括在所述第二基底第一表面涂布增粘剂的步骤；和/或，
10.一种异形微透镜，其特征在于，由权利要求1-5或者权利要求6-9任一项所述的异形微透镜的制作方法所制作而成。
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【技术特征摘要】
1.一种异形微透镜的制作方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的异形微透镜的制作方法，其特征在于，所述复合膜层包括依次设置的第一膜层，第二膜层以及第三膜层，所述第一膜层至少填充于所述异形结构和所述微透镜面型之间，所述第一膜层具有第一硬度，所述第二膜层覆盖所述异形结构和所述微透镜面型，所述第二膜层具有大于所述第一硬度的第二硬度，第三膜层的尺寸大于所述第二膜层的尺寸。
3.根据权利要求2所述的异形微透镜的制作方法，其特征在于，所述第一光刻胶层和所述第二光刻胶层的材料包括正性光刻胶和/或负性光刻胶；和/或
4.根据权利要求1所述的异形微透镜的制作方法，其特征在于，在所述第二基底第一表面形成压印胶层的步骤之前，还包括在所述第二基底第一表面涂布增粘剂的步骤；和/或，
5.根据权利要求1所述的异形微透镜的制作方法，其特征在于，通过刻...
【专利技术属性】
技术研发人员：戴雷雷，王伟俊，吴奔，朱斌青，卢建娅，
申请(专利权)人：苏州苏纳光电有限公司，
类型：发明
国别省市：
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