【技术实现步骤摘要】
本申请涉及显示，尤其涉及一种显示基板及其制备方法、显示装置。
技术介绍
1、目前，依据显示器件所利用的光源类型(包括背光源或者环境光)的不同，显示器件可以分为透射式、反射式和半透半反式三种。其中，反射式显示器件通过对入射至反射式显示器件内的环境光进行反射来实现显示。由于反射式显示器件无需额外设置背光模组来为其显示提供背光，因此，反射式显示器件得到了广泛的关注和应用。
技术实现思路
1、有鉴于此，本申请的目的在于提出一种显示基板及其制备方法、显示装置。
2、基于上述目的，本申请第一方面提供了一种显示基板，包括：
3、驱动基底；
4、挡墙结构，设于所述驱动基底上，所述挡墙结构包括阵列设置的多个挡墙，相邻两个所述挡墙之间均设有一子像素；
5、遮光层，设于所述挡墙结构背离所述驱动基底的一侧，所述遮光层包括阵列设置的多个遮光子层，多个所述遮光子层与多个所述挡墙一一对应，每一所述遮光子层在所述驱动基底上的正投影完全覆盖对应的所述挡墙在所述驱动基底上的正投影。
6、可选地，所述遮光层在所述驱动基底上的正投影与所述子像素在所述驱动基底上的正投影无交叠。
7、可选地，所述遮光层由金属遮光材料制成，每一所述遮光子层与对应的所述挡墙的厚度之比大于或等于1:10。
8、可选地，所述遮光层由非金属遮光材料制成，每一所述遮光子层与对应的所述挡墙的厚度之比大于或等于1:5。
9、可选地，所述挡墙包括相对设置的第一平面
10、可选地，所述挡墙包括相对设置的第一平面和第二平面，所述第一平面靠近所述驱动基底设置，所述第二平面在所述驱动基底上的正投影位于所述第一平面在所述驱动基底上的正投影之中。
11、可选地，所述挡墙包括相对设置的第一平面和第二平面，所述第一平面靠近所述驱动基底设置，所述第二平面在所述驱动基底上的正投影与所述第一平面在所述驱动基底上的正投影完全重合。
12、可选地，所述子像素包括第一电极层，所述第一电极层设于所述驱动基底上，所述第一电极层由电极材料和反光金属材料制成。
13、可选地，所述子像素包括叠置的第一电极层和反射层，所述反射层设于所述驱动基底上，所述第一电极层设于所述反射层上，所述第一电极层由电极材料制成，所述反射层由反光金属材料制成。
14、可选地，相邻两个所述挡墙与位于该相邻两个挡墙之间的第一电极层形成容纳空间，所述子像素还包括墨水层，所述墨水层位于所述容纳空间内。
15、基于同一专利技术构思，本申请第二方面提供了一种显示基板的制备方法，包括：
16、提供驱动基底；
17、在所述驱动基底上制作阵列设置的多个子像素的第一电极层；
18、在所述子像素远离所述驱动基底的一侧制作挡墙层，使所述挡墙层全部覆盖所述子像素和相邻两个所述子像素之间的间隔；
19、在所述挡墙层远离所述驱动基底的一侧制作阵列设置的多个遮光子层以形成遮光层；
20、以所述遮光子层为硬掩膜，采用刻蚀工艺，将所述挡墙层刻蚀为多个阵列设置的挡墙，多个所述挡墙与多个所述遮光子层一一对应，每一所述遮光子层在所述驱动基底上的正投影完全覆盖对应的所述挡墙在所述驱动基底上的正投影。
21、基于同一专利技术构思，本申请第三方面提供了一种显示装置，包括上述第一方面任一项所述的显示基板或上述第二方面所述的制备方法制备得到的显示基板和彩膜基板，所述挡墙结构将所述显示基板和所述彩膜基板之间的空间分隔为多个密封空腔，所述密封空腔内填充有墨水层。
22、从上面所述可以看出，本申请提供的显示基板及其制备方法、显示装置，通过在挡墙结构背离驱动基底的一侧设置遮光层，遮光层包括阵列设置的多个遮光子层，多个所述遮光子层与多个所述挡墙一一对应，每一所述遮光子层在所述驱动基底上的正投影完全覆盖对应的所述挡墙在所述驱动基底上的正投影，如此，遮光层的设置可以确保每个挡墙的厚度均一，确保对盒后相邻两个挡墙之间可以形成密封空间，避免墨水材料在不同像素区发生串扰。同时，在实际制作时，每个遮光子层可以作为对应的挡墙的硬掩膜，如此可以通过刻蚀工艺来制作挡墙，既可以精确定义挡墙的尺寸和形貌，确保开口率，又可以避免出现挡墙扭曲以及显影液残留，确保显示效果。
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1.一种显示基板，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述遮光层在所述驱动基底上的正投影与所述子像素在所述驱动基底上的正投影无交叠。
3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述遮光层由金属遮光材料制成，每一所述遮光子层与对应的所述挡墙的厚度之比大于或等于1:10。
4.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述遮光层由非金属遮光材料制成，每一所述遮光子层与对应的所述挡墙的厚度之比大于或等于1:5。
5.根据权利要求3或4任一项所述的显示基板，其特征在于，所述挡墙包括相对设置的第一平面和第二平面，所述第一平面靠近所述驱动基底设置，所述第二平面在所述驱动基底上的正投影与所述第一平面在所述驱动基底上的正投影完全重合。
6.根据权利要求3或4任一项所述的显示基板，其特征在于，所述挡墙包括相对设置的第一平面和第二平面，所述第一平面靠近所述驱动基底设置，所述第一平面在所述驱动基底上的正投影位于所述第二平面在所述驱动基底上的正投影之中。
7.根据权利要求3或4任一项所述的显示基板，
8.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述子像素包括第一电极层，所述第一电极层设于所述驱动基底上，所述第一电极层由电极材料和反光金属材料制成。
9.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述子像素包括叠置的第一电极层和反射层，所述反射层设于所述驱动基底上，所述第一电极层设于所述反射层上，所述第一电极层由电极材料制成，所述反射层由反光金属材料制成。
10.根据权利要求8或9任一项所述的显示基板，其特征在于，相邻两个所述挡墙与位于该相邻两个挡墙之间的第一电极层形成容纳空间，所述子像素还包括墨水层，所述墨水层位于所述容纳空间内。
11.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：
12.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1～10任一项所述的显示基板或权利要求11所述的制备方法制备得到的显示基板和彩膜基板，所述挡墙结构将所述显示基板和所述彩膜基板之间的空间分隔为多个密封空腔，所述密封空腔内填充有墨水层。
...【技术特征摘要】
1.一种显示基板，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述遮光层在所述驱动基底上的正投影与所述子像素在所述驱动基底上的正投影无交叠。
3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述遮光层由金属遮光材料制成，每一所述遮光子层与对应的所述挡墙的厚度之比大于或等于1:10。
4.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述遮光层由非金属遮光材料制成，每一所述遮光子层与对应的所述挡墙的厚度之比大于或等于1:5。
5.根据权利要求3或4任一项所述的显示基板，其特征在于，所述挡墙包括相对设置的第一平面和第二平面，所述第一平面靠近所述驱动基底设置，所述第二平面在所述驱动基底上的正投影与所述第一平面在所述驱动基底上的正投影完全重合。
6.根据权利要求3或4任一项所述的显示基板，其特征在于，所述挡墙包括相对设置的第一平面和第二平面，所述第一平面靠近所述驱动基底设置，所述第一平面在所述驱动基底上的正投影位于所述第二平面在所述驱动基底上的正投影之中。
7.根据权利要求3或4任一项所述的显示基板，其特征在于，所述挡墙包括相对设...
【专利技术属性】
技术研发人员：侯东飞，张超，张锋，崔钊，董立文，吕志军，刘文渠，孟德天，李国腾，宋梦亚，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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