【技术实现步骤摘要】
本申请涉及光刻机，更为具体地说，涉及一种光刻机的工艺程序设置方法。
技术介绍
1、光刻机是半导体制造过程中的重要设备，其作用是将掩膜版中的电路图案按照预定的尺寸和位置通过曝光工艺精准地转移到硅片或其他衬底上，这就要求在掩膜版与硅片或其他底衬具有极高的对准精度，光刻机的精度和分辨率对芯片制造的质量和性能至关重要。
2、光刻机曝光工艺过程中不仅涉及掩膜版转运、晶圆转运、粗对准、精对准等运动控制类任务，还存在如图像处理任务、数据传输任务、状态监测任务等其它类型的任务，也即光刻机工作过程中需处理多任务场景下的控制，只有将多任务场景下的各种控制、处理、协调有机统一，才能保证光刻机的光刻效率和光刻质量。因此，在光刻机主控系统客户端软件中，存在工艺程序(recipe)编辑界面，如图1所示。其中，曝光区域地图(shotmap)区域中每个单元格称为一个曝光区域(shot)，由多个曝光区域(shot)组成的矩阵称为曝光区域地图(shotmap)，表示映射。右侧工艺程序(recipe)参数区域例如包括曝光类型、粗对准类型、精对准类型、测量类型四种类型的曝光区域(shot)参数信息。这里，图1图示了光刻机主控系统中工艺程序编辑界面的示意图。
3、在光刻机核心业务，曝光中，就是以工艺程序(recipe)为基础进行的序列动作，由此，在工艺程序设置方法中，需要对于现有的曝光类型、粗对准类型、精对准类型、测量类型四种类型的曝光区域(shot)，将一个曝光区域(shot)设置为某种或某些类型的曝光区域(shot)，该设置模型即不同光刻机主
4、因此，期望提供一种改进的光刻机主控系统的工艺程序设置方案，以提升曝光区域信息的使用效果。
技术实现思路
1、本申请实施例提供了一种光刻机的工艺程序设置方法，其通过将每个曝光区域对于各个曝光业务公共的工艺程序基本参数和对于各个曝光业务特定的曝光区域具体参数分开设置并关联，提升了曝光区域信息针对不同曝光业务的独立性、复用性、封装性和可扩展性。
2、根据本申请的一方面，提供了一种光刻机的工艺程序设置方法，包括：设置所述光刻机主控系统中曝光业务相关的工艺程序基本参数，所述工艺程序基本参数包括对每个曝光区域各个曝光业务公共的曝光区域信息；以及，基于所述光刻机主控系统中的具体曝光业务设置与所述曝光业务类型对应的各个曝光区域的曝光区域具体参数。
3、在上述光刻机的工艺程序设置方法中，所述工艺程序基本参数包括每个曝光区域的id、偏移量、位置信息中的一个或多个。
4、在上述光刻机的工艺程序设置方法中，基于所述光刻机主控系统中的具体曝光业务设置与所述曝光业务类型对应的各个曝光区域的曝光区域具体参数包括：预先存储每个曝光区域与预定曝光类型业务对应的曝光区域具体参数，所述预定曝光类型包括曝光、粗对准、精对准、测量中的一个或多个。
5、在上述光刻机的工艺程序设置方法中，基于所述光刻机主控系统中的具体曝光业务设置与所述曝光业务类型对应的各个曝光区域的曝光区域具体参数包括：设置与曝光类型业务对应的预定id的曝光区域的曝光量、图案信息的长宽、调焦校正值和曝光走位方式。
6、在上述光刻机的工艺程序设置方法中，进一步包括：将包括所述工艺程序基本参数和所述曝光区域具体参数的工艺程序数据发送至所述光刻机主控系统的服务层，所述服务层将所述工艺程序数据发送至所述光刻机主控系统的设备接入层；所述设备接入层调用光刻机设备的照明子系统模块以设置曝光量和与图案信息的长宽对应的透光区域；所述设备接入层调用所述光刻机设备的调平调焦子系统以设置调焦校正值；以及，所述设备接入层调用所述光刻机设备的工作台子系统以使得工作台按照所述曝光走位方式进行曝光。
7、在上述光刻机的工艺程序设置方法中，进一步包括：在所述预定id的曝光区域的曝光完成后，所述工作台子系统向所述光刻机主控系统通知所述预定id的曝光区域已完成曝光；以及，所述光刻机主控系统将所述预定id的曝光区域的状态设置为已曝光状态。
8、在上述光刻机的工艺程序设置方法中，以曝光区域地图包含所述工艺程序基本参数，并以曝光类型曝光区域管理器包含所述曝光区域地图。
9、在上述光刻机的工艺程序设置方法中，所述曝光类型曝光区域管理器包含与各个曝光业务类型对应的曝光区域管理器，与每个曝光业务类型对应的曝光区域管理器关于所述曝光业务类型下的曝光区域具体参数。
10、在上述光刻机的工艺程序设置方法中，所述曝光类型曝光区域管理器接收对于所述工艺程序基本参数和所述曝光区域具体参数的增加、删除、修改和查询操作。
11、本申请实施例提供的光刻机的工艺程序设置方法，可以通过将每个曝光区域对于各个曝光业务公共的工艺程序基本参数和对于各个曝光业务特定的曝光区域具体参数分开设置并关联，来提升曝光区域信息针对不同曝光业务的独立性、复用性、封装性和可扩展性。
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1.一种光刻机的工艺程序设置方法，包括：
2.如权利要求1所述的光刻机的工艺程序设置方法，其中，所述工艺程序基本参数包括每个曝光区域的ID、偏移量、位置信息中的一个或多个。
3.如权利要求2所述的光刻机的工艺程序设置方法，其中，基于所述光刻机主控系统中的具体曝光业务设置与所述曝光业务类型对应的各个曝光区域的曝光区域具体参数包括：
4.如权利要求1所述的光刻机的工艺程序设置方法，其中，基于所述光刻机主控系统中的具体曝光业务设置与所述曝光业务类型对应的各个曝光区域的曝光区域具体参数包括：
5.如权利要求4所述的光刻机的工艺程序设置方法，进一步包括：
6.如权利要求5所述的光刻机的工艺程序设置方法，进一步包括：
7.如权利要求1所述的光刻机的工艺程序设置方法，其中，以曝光区域地图包含所述工艺程序基本参数，并以曝光类型曝光区域管理器包含所述曝光区域地图。
8.如权利要求7所述的光刻机的工艺程序设置方法，其中，所述曝光类型曝光区域管理器包含与各个曝光业务类型对应的曝光区域管理器，与每个曝光业务类型对应的曝光
9.如权利要求8所述的光刻机的工艺程序设置方法，其中，所述曝光类型曝光区域管理器接收对于所述工艺程序基本参数和所述曝光区域具体参数的增加、删除、修改和查询操作。
...【技术特征摘要】
1.一种光刻机的工艺程序设置方法，包括：
2.如权利要求1所述的光刻机的工艺程序设置方法，其中，所述工艺程序基本参数包括每个曝光区域的id、偏移量、位置信息中的一个或多个。
3.如权利要求2所述的光刻机的工艺程序设置方法，其中，基于所述光刻机主控系统中的具体曝光业务设置与所述曝光业务类型对应的各个曝光区域的曝光区域具体参数包括：
4.如权利要求1所述的光刻机的工艺程序设置方法，其中，基于所述光刻机主控系统中的具体曝光业务设置与所述曝光业务类型对应的各个曝光区域的曝光区域具体参数包括：
5.如权利要求4所述的光刻机的工艺程序设置方法，进一步包括：
【专利技术属性】
技术研发人员：张琪，符友银，沈全安，张泽玉，
申请(专利权)人：新毅东北京科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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