System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 抛光液供应缓冲装置及其控制方法制造方法及图纸_技高网

抛光液供应缓冲装置及其控制方法制造方法及图纸

技术编号:43022185 阅读:13 留言:0更新日期:2024-10-18 17:24
本发明专利技术涉及一种抛光液供应缓冲装置及其控制方法,所属硅片加工设备技术领域,包括抛光机,所述的抛光机外侧设有与抛光机相连通的抛光液进液管Ⅰ,所述的抛光液进液管Ⅰ与抛光机间设有缓冲储液桶,所述的缓冲储液桶与抛光机间设有三通连接件,所述的三通连接件上设有与三通连接件相管路连通的抛光液进液管Ⅱ,所述的三通连接件与缓冲储液桶间、三通连接件与抛光机间均设有过渡连接管。具有结构紧凑和运行稳定性好的优点。解决了抛光液使用量增大出现供应不足的问题。采用缓冲结构实现抛光液流量增加,从而保障抛光工艺的正常工作。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及硅片加工设备,具体涉及一种抛光液供应缓冲装置及其控制方法


技术介绍

1、在半导体工业中,为了得到表面高度平整的晶圆,化学机械抛光以及化学机械平坦化技术是不可缺少的角色。在化学机械抛光处理程序中,晶圆通常会被压在转动的抛光垫上,而且此晶圆会在抛光垫的表面旋转及摆动,用以增进抛光的效率。在化学机械抛光的过程中,会同时地提供一液态抛光液,用以提升抛光的效率。

2、通过降低布线的厚度以及形成多层布线来寻求提高的密度和集成。而且,为了实现这种目的,已经采用了各种技术,如化学机械抛光即cmp。对于加工层如夹层绝缘膜的表面平坦化、对于插头的形成、对于埋入金属布线的形成等,cmp是必要的技术,并且cmp进行基板的平滑和从布线形成上将过量金属薄膜除去,以及将在绝缘膜的表面上的过量阻挡层除去。

3、cmp的常规方法是这样的方法:将抛光垫固定在圆形抛光工作台(抛光台板)的表面上,用抛光液浸渍抛光垫的表面,将基板(晶片)的表面按压到垫上,然后将抛光台板和晶片同时旋转,同时从它们的背侧施加预定量的压力(抛光压力),从而使得晶片的表面通过由此产生的机械磨损而被平坦化。


技术实现思路

1、本专利技术主要解决现有技术中存在抛光液使用量增大时出现供应流量不足的缺陷,提供了一种抛光液供应缓冲装置及其控制方法,其具有结构紧凑和运行稳定性好的优点。解决了抛光液使用量增大出现供应不足的问题。采用缓冲结构实现抛光液流量增加,从而保障抛光工艺的正常工作。

2、本专利技术的上述技术问题主要是通过下述技术方案得以解决的:

3、一种抛光液供应缓冲装置,包括抛光机,所述的抛光机外侧设有与抛光机相连通的抛光液进液管ⅰ,所述的抛光液进液管ⅰ与抛光机间设有缓冲储液桶,所述的缓冲储液桶与抛光机间设有三通连接件,所述的三通连接件上设有与三通连接件相管路连通的抛光液进液管ⅱ,所述的三通连接件与缓冲储液桶间、三通连接件与抛光机间均设有过渡连接管。

4、作为优选,所述的抛光液进液管ⅰ与缓冲储液桶间、过渡连接管与缓冲储液桶间均设有单向阀。

5、一种抛光液供应缓冲装置的控制方法,包括如下操作步骤:

6、第一步:抛光液进液管ⅰ、抛光液进液管ⅱ均与供液机供液管道连接。

7、第二步:单向阀呈闭合状态,抛光液通过抛光液进液管ⅱ在三通连接件处直接经过过渡连接管进入抛光机进行供液。

8、第三步:当抛光机使用大量抛光液且抛光液进液管ⅱ供应的流量不足以提供抛光机工作所需抛光液流量时,过渡连接管与缓冲储液桶间的单向阀打开,通过缓冲储液桶及时补充抛光液。

9、作为优选,当缓冲储液桶内储存抛光液不足时,抛光液进液管ⅰ与缓冲储液桶间的单向阀打开,供液机中的抛光液通过抛光液进液管ⅰ进入缓冲储液桶,使得抛光液在缓冲储液桶内储存。

10、本专利技术能够达到如下效果:

11、本专利技术提供了一种抛光液供应缓冲装置及其控制方法,与现有技术相比较,具有结构紧凑和运行稳定性好的优点。解决了抛光液使用量增大出现供应不足的问题。采用缓冲结构实现抛光液流量增加,从而保障抛光工艺的正常工作。

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【技术保护点】

1.一种抛光液供应缓冲装置,包括抛光机(7),其特征在于:所述的抛光机(7)外侧设有与抛光机(7)相连通的抛光液进液管Ⅰ(1),所述的抛光液进液管Ⅰ(1)与抛光机(7)间设有缓冲储液桶(3),所述的缓冲储液桶(3)与抛光机(7)间设有三通连接件(5),所述的三通连接件(5)上设有与三通连接件(5)相管路连通的抛光液进液管Ⅱ(6),所述的三通连接件(5)与缓冲储液桶(3)间、三通连接件(5)与抛光机(7)间均设有过渡连接管(4)。

2.根据权利要求1所述的抛光液供应缓冲装置,其特征在于:所述的抛光液进液管Ⅰ(1)与缓冲储液桶(3)间、过渡连接管(4)与缓冲储液桶(3)间均设有单向阀(2)。

3.一种根据权利要求2所述的抛光液供应缓冲装置的控制方法,其特征在于包括如下操作步骤:

4.根据权利要求3所述的抛光液供应缓冲装置的控制方法,其特征在于:当缓冲储液桶(3)内储存抛光液不足时,抛光液进液管Ⅰ(1)与缓冲储液桶(3)间的单向阀(2)打开,供液机中的抛光液通过抛光液进液管Ⅰ(1)进入缓冲储液桶(3),使得抛光液在缓冲储液桶(3)内储存。

【技术特征摘要】

1.一种抛光液供应缓冲装置,包括抛光机(7),其特征在于:所述的抛光机(7)外侧设有与抛光机(7)相连通的抛光液进液管ⅰ(1),所述的抛光液进液管ⅰ(1)与抛光机(7)间设有缓冲储液桶(3),所述的缓冲储液桶(3)与抛光机(7)间设有三通连接件(5),所述的三通连接件(5)上设有与三通连接件(5)相管路连通的抛光液进液管ⅱ(6),所述的三通连接件(5)与缓冲储液桶(3)间、三通连接件(5)与抛光机(7)间均设有过渡连接管(4)。

2.根据权利要求1所述的抛光液供应缓冲装置,其...

【专利技术属性】
技术研发人员:李君
申请(专利权)人:杭州中欣晶圆半导体股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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