【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及金属材料检测，尤其涉及一种取向硅钢微观织构ebsd试样制样方法。
技术介绍
1、取向硅钢是指合金成分为3％硅以及微量合金元素的铁硅合金，属于铁素体钢，是一种应用于变压器铁芯制造的重要软磁材料，在电子电力行业得到广泛应用。近年来市场对其需求日益增加，而且对其质量的要求也越来越高。高品质取向硅钢主要体现在其优异的磁性能，尤其是铁损和磁感应强度这两个性能参数。因此，能够生产出具有更低铁损和更高磁感应强度的取向硅钢是企业关注的热点。
2、取向硅钢生产过程中，尤其是在轧制过程及退火工序下，取向硅钢的微观结构变化十分明显且有特点，而取向硅钢的磁性能与晶粒、织构及再结晶现象有着密不可分的关联。因此，取向硅钢的微观结构有着重要的意义。
3、电子背散射衍射(ebsd)技术可以同时提供材料的组织形貌和结构取向，在材料表征分析领域起着十分重要的作用。在进行背散射电子衍射前通常需要对材料进行抛光处理以达到更好的组织观察效果。利用电解抛光技术可以对材料微观组织进行更好的观察，电解抛光可以获得较好的表面质量，对去除样品表面的变形层包括表面凹凸不平以及硬度相对较低的样品非常有效，弥补普通化学侵蚀后可能存在不便于分辨的缺点。取向硅钢微观织构ebsd制样要求比较严格，直接抛光表面可以使用ebsd进行观察，但在多数情况下，可通过电解抛光提高衍射花样质量。电解抛光时电压和电解时间的控制，对得到理想的抛光效果非常关键。
4、本专利技术的目的是提供一种取向硅钢微观织构ebsd试样制样方法，本专利技术提供的方法制备出来的取
技术实现思路
1、本专利技术的目的就是针对上述问题，提供一种取向硅钢微观织构ebsd试样制样方法。
2、本专利技术的目的是这样实现的：一种取向硅钢微观织构ebsd试样制样方法，包括以下步骤：步骤一：抛光液制备：将无水乙醇和高氯酸混合均匀，得到抛光液；步骤二：试样磨制：利用线切割机在取向硅钢上切取毛坯试样，试样尺寸为8～10mm×10～12mm，采用热镶嵌机镶制取向硅钢试样，然后进行粗磨、细磨和抛光：采用砂轮对试样进行第一次打磨处理，采用400目氧化铝砂纸对试样进行第二次打磨处理，采用800目氧化铝砂纸对试样进行第三次打磨处理，采用1000目氧化铝砂纸对试样进行第四次打磨处理；采用3.5～5um高效金刚石抛光剂对试样进行抛光处理；步骤三：电解抛光：取向硅钢试样机械抛光后再进行电解抛光，以不锈钢触点为阴极材料，以步骤一的抛光液为电解液，以步骤二的取向硅钢试样作为阳极，将取向硅钢试样的已磨制面平行于不锈钢触点并一起浸入电解液中，接通恒流稳压电源进行电解抛光，抛光过程中电解液通过磁力搅拌棒旋转将液体均匀喷出接触抛光表面；步骤四：抛光后用清水冲洗，再用酒精清洗4~6次，前两次清洗时间为5～10s，后两次清洗时间为10～15s，将抛光面及两侧面的抛光后产物冲洗干净，吹干。
3、步骤三中电解液为体积比高氯酸：无水乙醇为1:3，电解抛光电压为20～21v，电解时间为10～12s，电解抛光的温度为0～1℃。
4、步骤三中磁力搅拌棒转速为500～700rpm，时间为20~25s，磁力搅拌棒旋转时间包括电解前搅拌电解液的10s~13s及正式抛光的10~12s。
5、本专利技术的有益效果是：本专利技术提供的方法制备出来的取向硅钢ebsd试样表面洁净度符合电子背散射衍射(ebsd)对试样的要求，对于精确测量取向硅钢微观织构提供了更加可靠的条件。
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1.一种取向硅钢微观织构EBSD试样制样方法，其特征在于：包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种取向硅钢微观织构EBSD试样制样方法，其特征在于：步骤三中电解液为体积比高氯酸：无水乙醇为1:3，电解抛光电压为20～21V，电解时间为10～12s，电解抛光的温度为0～1℃。
3.根据权利要求1所述的一种取向硅钢微观织构EBSD试样制样方法，其特征在于：步骤三中磁力搅拌棒转速为500～700rpm，时间为20~25s，磁力搅拌棒旋转时间包括电解前搅拌电解液的10s~13s及正式抛光的10~12s。
【技术特征摘要】
1.一种取向硅钢微观织构ebsd试样制样方法，其特征在于：包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种取向硅钢微观织构ebsd试样制样方法，其特征在于：步骤三中电解液为体积比高氯酸：无水乙醇为1:3，电解抛光电压为20～21v，电解时间为10～12s，...
【专利技术属性】
技术研发人员：康煜欣，张寿禄，赵振铎，谷宇，
申请(专利权)人：山西太钢不锈钢股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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