System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种MBene材料及电化学刻蚀制备方法和应用技术_技高网

一种MBene材料及电化学刻蚀制备方法和应用技术

技术编号:42997506 阅读:6 留言:0更新日期:2024-10-15 13:25
本发明专利技术公开了一种MBene材料及电化学刻蚀制备方法和应用,属于二维金属硼化物制备技术领域。制备方法包括以下步骤:以MAB相材料为工作电极,使用酸性电解液作为电解液,在热辅助的条件下对所述MAB相材料进行电化学刻蚀,通过阳极氧化选择性的去除MAB相材料中的A族元素,得到手风琴状结构的MBene材料。本发明专利技术通过在酸性溶液中热辅助的方法,对Mo<subgt;4/3</subgt;Y<subgt;2/3</subgt;AlB<subgt;2</subgt;进行电化学刻蚀,通过阳极氧化选择性的去除MAB相中的A族元素,实现从MAB相到二维MBene的转化,得到MBene相材料,以实现新型绿色过渡金属基二维材料电催化剂制备和应用。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及二维金属硼化物制备,更具体的涉及一种mbene材料及电化学刻蚀制备方法和应用。


技术介绍

1、以新型绿色能源替代传统化石能源,发展低碳或零碳技术,对于解决能源和环境问题具有重要意义。二维(2d)材料由于其高导电性、高比表面积、亲水性和可调节的表面特性,在电催化领域显示出巨大的潜力。mbene相作为一种新兴的二维材料受到了广泛关注,它是由三元层状过渡金属硼化物(mab相,m为过渡金属元素,a为a族元素,b为硼元素)通过化学刻蚀的方法将a族去除得到的二维衍生物。

2、近期大量理论工作研究表明,以mab相作为前驱体制备的mbene具有潜在的电催化活性。然而,mab相很难剥离形成mbene,大多数mbene相关研究停留于理论阶段。尤其是传统正交mab相,由于m-a和a-b键的键强强于max相,难以在保证原结构前提下抽离a族,因此导致适用于max相剥离的方法无法用于mab相的剥离制备mbene。2020年,rosen等人发表的论文jam chem soc,2020,142(43):18583-18591,预测出了15种具有面内化学有序的稳定新相i-mab,即一种四元六方mab相,其中mo4/3y2/3alb2和mo4/3sc2/3alb2两种mab相被成功合成。2021年,该课题组发表的论文,science,2021,373(6556):801-805,借鉴max相剥离的hf腐蚀法选择性地刻蚀层状i-mab相得到了一种新的二维过渡金属硼化物mo4/3b2-xtz,其中tz表示表面官能团-f,-o或-oh。这一研究显示了从六方mab相制备二维mbene的广阔前景,并且该课题组在2022年发表的论文advancedfunctional materials,2022,32(14):2109060,研究表明了2d mo4/3b2-xtz作为阴极催化剂材料在酸性介质中具有高稳定性和良好的her性能,为mbene的应用研究提供了重要的理论基础。

3、然而,hf试剂本身具有强腐蚀性,对人体健康危害性较大,hf刻蚀法本身具有相当的安全和环境问题,不符合绿色发展理念。此外,hf酸刻蚀制备的mbene材料表面会产生大量-f官能团,作为一种强吸电子基团,在催化反应中往往作为毒化位点存在,不仅阻碍了mbene相本征催化性能的研究,也限制了mbene材料的催化性能提升。因此,开发一种绿色环保、简单可行的工艺来制备无氟mbene具有重要意义。


技术实现思路

1、本专利技术的目的在于,本专利技术提供了一种mbene材料及电化学刻蚀制备方法和应用,在酸性溶液中热辅助的方法,对mo4/3y2/3alb2进行电化学刻蚀,实现从mab相到二维mbene的转化,以实现新型绿色过渡金属基二维材料电催化剂制备和应用。

2、本专利技术是通过以下技术方案解决上述技术问题的。

3、本专利技术的目的之一是提供一种电化学刻蚀制备mbene材料的方法,包括以下步骤:以mab相材料为工作电极,使用酸性电解液作为电解液,在热辅助的条件下对所述mab相材料进行电化学刻蚀,通过阳极氧化选择性的去除mab相材料中的a族元素,得到手风琴状结构的mbene材料。

4、在一个优选的实施例中,所述mab相材料为mo4/3m2/3alb2,m为y、sc或er。

5、在一个优选的实施例中,所述酸性电解液选自硫酸、高氯酸、盐酸、硝酸中的一种或两种以上,所述酸性电解液中的氢离子浓度为0.01mol/l~5mol/l。

6、在一个优选的实施例中,所述电化学刻蚀处理采用恒定电位法,电位为0.2v~1.5v,刻蚀时间为0.1h~100h。

7、在一个优选的实施例中,所述热辅助为对酸性电解液加热至温度为10℃~90℃。

8、在一个优选的实施例中,所述电化学刻蚀采用三电极体系或两电极体系,三电极体系中,参比电极为饱和甘汞电极,对电极为石墨电极;两电极体系中,石墨电极或pt片电极作为对电极。

9、在一个优选的实施例中,所述电化学刻蚀结束后,将工作电极浸泡在乙醇中进行超声处理,离心得到悬浮液,干燥后得到mbene材料。

10、在一个优选的实施例中,所述mab相材料的制备方法,包括以下步骤:

11、将mo、m、al和b按照化学计量比称取,进行压片处理后在惰性气体氛围下于1500℃下煅烧保温480min,煅烧结束后进行研磨,得到mab相材料;惰性气体为氩气。

12、本专利技术的目的之二是提供上述电化学刻蚀方法制备的mbene材料,所述mbene材料为手风琴状结构。

13、本专利技术的目的之三是提供上述mbene材料作为催化剂在电催化析氢反应中的应用。

14、与现有技术相比,本专利技术具有以下有益效果:

15、(1)本专利技术设计了在酸性溶液中热辅助的方法,对mo4/3y2/3alb2进行电化学刻蚀,基于电化学原理选择性去除电解液中某种金属或半导体的过程,通过阳极氧化选择性的去除mab相中的a族元素,实现从mab相到二维mbene的转化,得到mbene相材料,以实现新型绿色过渡金属基二维材料电催化剂制备和应用。

16、(2)本专利技术通过研究外加电压、电解液种类、刻蚀时间等因素对刻蚀效果影响,开发了一种以mo4/3y2/3alb2为母相基体的电化学刻蚀方法,实现绿色、高效的二维mbene材料制备,是绿色清洁的电化学刻蚀方法,避免了氟化物的使用,同时刻蚀过程简单,操作方便,且对环境友好,无二次污染,具有广阔的应用前景。

17、(3)本专利技术得到的刻蚀产物mbene材料应用于电催化析氢反应中具有较好的催化活性,与使用hf刻蚀得到的产物相比具有较低的过电位,为新型高性能电解水制氢催化剂的研发提供重要的理论和技术基础。

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【技术保护点】

1.一种电化学刻蚀制备MBene材料的方法,其特征在于,包括以下步骤:以MAB相材料为工作电极,使用酸性电解液作为电解液,在热辅助的条件下对所述MAB相材料进行电化学刻蚀,通过阳极氧化选择性的去除MAB相材料中的A族元素,得到手风琴状结构的MBene材料。

2.根据权利要求1所述的电化学刻蚀制备MBene材料的方法,其特征在于,所述MAB相材料为Mo4/3M2/3AlB2,M为Y、Sc或Er。

3.根据权利要求1所述的电化学刻蚀制备MBene材料的方法,其特征在于,所述酸性电解液选自硫酸、高氯酸、盐酸、硝酸中的一种或两种以上,所述酸性电解液中的氢离子浓度为0.01mol/L~5mol/L。

4.根据权利要求1所述的电化学刻蚀制备MBene材料的方法,其特征在于,所述电化学刻蚀处理采用恒定电位法,电位为0.2V~1.5V,刻蚀时间为0.1h~100h。

5.根据权利要求1所述的电化学刻蚀制备MBene材料的方法,其特征在于,所述热辅助为对酸性电解液加热至温度为10℃~90℃。

6.根据权利要求1所述的电化学刻蚀制备MBene材料的方法,其特征在于,所述电化学刻蚀采用三电极体系或两电极体系,三电极体系中,参比电极为饱和甘汞电极,对电极为石墨电极;两电极体系中,石墨电极或Pt片电极作为对电极。

7.根据权利要求1所述的电化学刻蚀制备MBene材料的方法,其特征在于,所述电化学刻蚀结束后,将工作电极浸泡在乙醇中进行超声处理,离心得到悬浮液,干燥后得到MBene材料。

8.根据权利要求2所述的电化学刻蚀制备MBene材料的方法,其特征在于,所述MAB相材料的制备方法,包括以下步骤:

9.一种权利要求1-8任一项所述的电化学刻蚀方法制备的MBene材料。

10.一种权利要求9所述的MBene材料作为催化剂在电催化析氢反应中的应用。

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【技术特征摘要】

1.一种电化学刻蚀制备mbene材料的方法,其特征在于,包括以下步骤:以mab相材料为工作电极,使用酸性电解液作为电解液,在热辅助的条件下对所述mab相材料进行电化学刻蚀,通过阳极氧化选择性的去除mab相材料中的a族元素,得到手风琴状结构的mbene材料。

2.根据权利要求1所述的电化学刻蚀制备mbene材料的方法,其特征在于,所述mab相材料为mo4/3m2/3alb2,m为y、sc或er。

3.根据权利要求1所述的电化学刻蚀制备mbene材料的方法,其特征在于,所述酸性电解液选自硫酸、高氯酸、盐酸、硝酸中的一种或两种以上,所述酸性电解液中的氢离子浓度为0.01mol/l~5mol/l。

4.根据权利要求1所述的电化学刻蚀制备mbene材料的方法,其特征在于,所述电化学刻蚀处理采用恒定电位法,电位为0.2v~1.5v,刻蚀时间为0.1h~100h。

5.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员:巩玉同杨芮王俊杰
申请(专利权)人:西北工业大学
类型:发明
国别省市:

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