【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体领域，具体涉及一种用于溶剂提纯处理的超重力分离装置及其控制方法。
技术介绍
1、高纯湿溶剂等化学品，作为半导体行业需求的重要原料之一，其纯度对半导体或集成电路的生产需求至关重要。这一方面不仅与设备的材料有关，另一方面也与生产工艺提纯方法有关。
2、传统的化工生产方法主要是利用板式塔或者填料塔通过精馏的方式提纯，而这类设备由于本身材质，以及表面处理等原因，导致生产出的产品纯度不高，难以满足半导体行业对溶剂超高纯度的要求，诸如专利申请文件cn 202478632u所披露的旋流剪切式超重力精馏塔所披露的精馏塔等，利用了超重力分离原理，虽然有效降低了设备高度，解决了现有超重力旋转型精馏塔汽液间存在短路或沟流现象，使气液两相接触时间过短，从而致使传质效率下降的问题，并极大提高了溶剂的提纯浓度，但是仍然无法达到ppb级及以上。
3、另外，传统化工生产的产品纯度基本都在ppm级及以下，主要是因为采用板式塔或填料塔提纯，液相利用重力场较弱、液膜流动缓慢、传质系数低，另外生产设备的材料主要是碳钢或者不锈钢，这样在提纯过程中离子容易析出，导致产品污染，纯度难以提高。
4、因此，如何提供一种用于溶剂提纯处理的超重力分离装置及控制方法，以提升传质系数,以及气相冷凝后形成的纯化产品的纯度，是本专利技术亟需解决的技术问题。
技术实现思路
1、本专利技术的目的是如何提供一种用于溶剂提纯处理的超重力分离装置，可以提升传质系数,以及气相冷凝后形成的纯化产品的纯
2、为了达到上述目的，本专利技术提供一种用于溶剂提纯处理的超重力分离装置，包括：壳体，
3、静折流圈，其包括：与所述壳体相连的静折流板、多个与静折流板相连且间隔设置的第一分隔板；
4、动折流圈，其包括：与旋转轴转动的动折流板、多个与动折流板相连且间隔设置的第二分隔板；
5、其中，各第一分隔板和第二分隔板交替且呈环形的间隔设置，并形成用于气液交互的通道；
6、气体由下至上进入所述通道内曲折流动，以与从上至下进入所述通道的液体进行交互冷凝；
7、并且，所述第二分隔板上设有引流通道，相邻的两个第二分隔板上开设的引流通道的方向反向且交错设置。
8、进一步作为优选地，所述第二分隔板上从上至下，开设有多个引流孔，以及与所述第二分隔板相连且朝外凸出设置的引流板；并且所述引流板的一端与所述引流孔相连，并形成所述引流通道。
9、进一步作为优选地，相邻的两个第二分隔板上的引流板的布置方向反向设置。
10、进一步作为优选地，各第一分隔板和第二分隔板与所述旋转轴的轴向相互平行；所述静折流板和动折流板与所述旋转轴的轴向相互垂直。
11、进一步作为优选地，所述引流板为柔性体和/或弹性件。
12、进一步作为优选地，所述引流通道为锥形通道。
13、进一步作为优选地，所述引流孔的直径为0.5～1mm。
14、进一步作为优选地，相邻的两个引流孔在周向以及纵向上的间距均为15～30mm。
15、进一步作为优选地，所述第一分隔板和第二分隔板的厚度为1mm～5mm。
16、所述引流板包括交替设置的第一引流板和第二引流板；
17、所述第一引流板与第二分隔板(22)之间的第一倾斜角度为30°～75°；
18、所述第二引流板与第二分隔板(22)之间的第二倾斜角度为30°～75°；
19、和/或，所述引流板上沿其周向开设有多个缝隙。
20、进一步作为优选地，位于所述通道的气体入口侧的第二分隔板的引流板的顶部与所述静折流板之间的空隙形成气体入口；所述位于所述通道的气体出口侧的第二分隔板的引流板的顶部与所述静折流板之间的空隙形成气体出口；其中，所述液体从所述气体出口流入，并从所述气体入口流出。
21、进一步作为优选地，所述位于所述通道的气体出口侧的第二分隔板的引流板邻近所述旋转轴设置。
22、进一步作为优选地，所述静折流圈和所述动折流圈至少有多组，且沿所述旋转轴的轴向从下至上依次等距设置；所述壳体的顶部的一侧开设有液体入口，而另一侧开设有蒸馏气出口；所述壳体的下部的一侧开设有液体入口，而另一侧的底部开设有排液口；所述壳体的中部的侧壁开设有回流液入口，所述回流液入口位于相邻的两组静折流圈和所述动折流圈之间。
23、进一步作为优选地，所述壳体和所述静折流圈和所述动折流圈的材质均为纯钛材质，且表面粗糙度小于等于0.25μm。
24、本申请还提供了一种用于溶剂提纯处理的超重力分离装置置的控制方法，用于控制上述用于溶剂提纯处理的超重力分离装置，包括：
25、使得所述旋转轴转动，以转动所述动折流圈；
26、使得所述液体由下至上进入所述通道内曲折流动后，使得所述气体从上至下进入所述通道且曲折流动，以进行交互冷凝。
27、与现有技术相比，本申请提供的用于提纯溶剂的超重力分离装置，可以提升传质系数,以及气相冷凝后形成的纯化产品的纯度。
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1.一种用于溶剂提纯处理的超重力分离装置，其特征在于，包括：壳体(1)，
2.根据权利要求1所述的用于溶剂提纯处理的超重力分离装置，其特征在于，所述第二分隔板(22)上从上至下，开设有多个引流孔，以及与所述第二分隔板(22)相连且朝外凸出设置的引流板；并且所述引流板的一端与所述引流孔相连，并形成所述引流通道。
3.根据权利要求1所述的用于溶剂提纯处理的超重力分离装置，其特征在于，相邻的两个第二分隔板(22)上的引流板的布置方向反向设置。
4.根据权利要求1所述的用于溶剂提纯处理的超重力分离装置，其特征在于，各第一分隔板(72)和第二分隔板(22)与所述旋转轴的轴向相互平行；所述静折流板(71)和动折流板(21)与所述旋转轴的轴向相互垂直。
5.根据权利要求2所述的用于溶剂提纯处理的超重力分离装置，其特征在于，所述引流板为柔性体和/或弹性件；
6.根据权利要求2所述的用于溶剂提纯处理的超重力分离装置，其特征在于，位于所述通道的气体入口侧的第二分隔板(22)的引流板的顶部与所述静折流板(71)之间的空隙形成气体入口；位于所述
7.根据权利要求1所述的用于溶剂提纯处理的超重力分离装置，其特征在于，位于所述通道的气体出口侧的第二分隔板(22)的引流板邻近所述旋转轴设置。
8.根据权利要求1至7中任意一项所述的用于溶剂提纯处理的超重力分离装置，其特征在于，所述静折流圈(7)和所述动折流圈(2)至少有多组，且沿所述旋转轴的轴向从下至上依次等距设置；所述壳体(1)的顶部的一侧开设有液体入口(8)，而另一侧开设有蒸馏气出口(9)；所述壳体(1)的下部的一侧开设有气相入口(11)，而另一侧的底部开设有排液口(15)；所述壳体(1)的中部的侧壁开设有回流液入口(6)以及和中间进料口(5)，所述回流液入口(6)和中间进料口(5)分别位于对应的且相邻的两组静折流圈(7)和所述动折流圈(2)之间。
9.根据权利要求1所述的用于溶剂提纯处理的超重力分离装置，其特征在于，所述壳体和所述静折流圈(7)和所述动折流圈(2)的材质均为纯钛材质，且表面粗糙度小于等于0.25μm。
10.一种用于溶剂提纯处理的超重力分离装置的控制方法，用于控制权利要求1至9中任意一项所述的用于提纯溶剂的超重力分离装置，其特征在于，包括：
...【技术特征摘要】
1.一种用于溶剂提纯处理的超重力分离装置，其特征在于，包括：壳体(1)，
2.根据权利要求1所述的用于溶剂提纯处理的超重力分离装置，其特征在于，所述第二分隔板(22)上从上至下，开设有多个引流孔，以及与所述第二分隔板(22)相连且朝外凸出设置的引流板；并且所述引流板的一端与所述引流孔相连，并形成所述引流通道。
3.根据权利要求1所述的用于溶剂提纯处理的超重力分离装置，其特征在于，相邻的两个第二分隔板(22)上的引流板的布置方向反向设置。
4.根据权利要求1所述的用于溶剂提纯处理的超重力分离装置，其特征在于，各第一分隔板(72)和第二分隔板(22)与所述旋转轴的轴向相互平行；所述静折流板(71)和动折流板(21)与所述旋转轴的轴向相互垂直。
5.根据权利要求2所述的用于溶剂提纯处理的超重力分离装置，其特征在于，所述引流板为柔性体和/或弹性件；
6.根据权利要求2所述的用于溶剂提纯处理的超重力分离装置，其特征在于，位于所述通道的气体入口侧的第二分隔板(22)的引流板的顶部与所述静折流板(71)之间的空隙形成气体入口；位于所述通道的气体出口侧的第二分隔板(22)的引流板的顶部与所述静折流板(71)之间的空隙形成气体出口，以及套设在所述静折流板的通孔上并...
【专利技术属性】
技术研发人员：陆翔，张真，王国栋，赵鑫，程秀萍，
申请(专利权)人：常州容导精密装备有限公司，
类型：发明
国别省市：
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