【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及芯片生产，尤其涉及一种光刻机。
技术介绍
1、光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤，耗时长、成本高。半导体芯片生产的难点和关键点在于如何在硅片上制作出目标电路图样，这一过程通过光刻来实现，光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平。在光刻工艺中需要利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将模板上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆，还可以是其他金属层、介质层，例如玻璃、sos中的蓝宝石。衬底材料放置在模板和曝光光源的下方，若衬底材料的放置不能很好的与模板进行对位，会影响光刻效果。故而需要使衬底材料的放置与模板平行，以免衬底材料上的曝光图案出现偏层而影响成型效果。
2、现有的校正机构，大都结构复杂，需要在三轴方向上对衬底材料的位置进行调整，操作相对麻烦而且操作速度慢。另一方面，现有的光刻机，模板一般都是直接固定在机台上，安装困难且防护效果不好，容易被损坏。而且现有的光刻机很难适用于各种尺寸工件。
3、因此，有必要提供一种结构合理、操作方便，模板防护效果好且能适用于多个尺寸工件进行曝光的光刻机。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种结构更简单，操作更方便的光刻机。
2、为实现上述目的，本专利技术提供了一种光刻机，包括：
3、机架；
4、自动校平放料装置，用于放置工件，并能自动校正工件的位置；自动校平放料装置呈滑动地设置于机架上，以能在放料位和曝光位之
5、模板定位装置，设置于机架上，用于固定模板；
6、对位装置，呈滑动地设置于机架上，用于工件与模板之间的对位，以使工件能调整到合适位置上进行曝光；
7、曝光装置，呈滑动地设置于机架上，用于对工件进行曝光，以将模板上的图形转移到工件上；
8、其中，放料机构借由弧形调节机构、水平调整机构和升降调整机构以能多角度调整工件的位置，定位机构用于定位放料机构。
9、与现有技术相比，本专利技术的光刻机，结构布局合理，曝光效果好且适用范围更广。光刻机包括机架以及设置于机架上的自动校平放料装置、模板定位装置、对位装置和曝光装置。自动校平放料装置用于放置工件，并能自动校正工件的位置。自动校平放料装置呈滑动地设置于机架上，以能在放料位和曝光位之间移动，在放料位时能够放入工件，在曝光位时能够对工件进行曝光。具体地，自动校平放料装置包括自上而下依次设置的放料机构、弧形调节机构、定位机构、水平调整机构和升降调整机构。放料机构用于放料。弧形调节机构能够带动放料机构多角度调整位置。水平调整机构用于在水平方向上带动工件进行移动或转动。升降调整机构用于在竖直方向上对工件的位置进行调整。模板定位装置设置于机架上，用于固定模板。对位装置呈滑动地设置于机架上，用于工件与模板之间的对位，以使工件能调整到合适位置上进行曝光。曝光装置呈滑动地设置于机架上，用于对工件进行曝光，以将模板上的图形转移到工件上。本专利技术的光刻机，结构布局合理、操作方便，能够根据实际需要对工件的位置自动进行调整，模板的防护效果好，且能适用于多个尺寸的工件进行曝光。
10、较佳地，放料机构包括放料组件、灯板组件和第一吸附组件，灯板组件和第一吸附组件位于放料组件内，放料组件用于放置工件并借由第一吸附组件以使工件固定于放料组件上，灯板组件用于加亮工件的亮度。
11、较佳地，弧形调节机构包括弧形调节组件和弹性调节组件，放料机构安装于弧形调节组件上，放料机构受力作用于弧形调节组件，以使弧形调节组件弹性挤压弹性调节组件。
12、较佳地，弧形调节组件包括底座和弧形调节件，底座上开设有弧形槽，弧形调节件设置有弧形部和安装部，弧形部安装于弧形槽内并能在弧形槽内多角度转动，放料组件安装于安装部上并能随弧形部在弧形槽内活动。
13、较佳地，定位机构包括设置于底座内的第二吸附组件，借由第二吸附组件以将弧形调节件吸附固定于弧形槽内。
14、较佳地，定位机构包括安装座以及设置于安装座上的定位组件和限位组件，定位组件动作以将弧形调节机构定位于安装座上；限位组件包括设置于安装座上的限位件以及开设于放料机构上的限位槽，借由限位件与限位槽的配合以免放料机构脱离弧形调节机构。
15、较佳地，机架上设置有支撑架，支撑架上开设有用于曝光的曝光位，模板定位装置安装于支撑架上的曝光位处，模板定位装置包括定位座，定位座安装于支撑架上朝向自动校平放料装置的一面，定位座上开设有滑槽，模板滑动安装于滑槽内。
16、较佳的，定位座内设置有第三吸附组件，借由第三吸附组件以加固模板在定位座内的安装。
17、较佳地，模板定位装置还包括防护板，防护板呈拆卸地安装于定位座远离模板的一面上，定位座上开设有第一通槽，防护板上开设有第二通槽，曝光装置的光源穿过第二通槽及第一通槽并作用于模板。
18、较佳地，对位装置包括第一ccd机构和第二ccd机构，第一ccd机构和第二ccd机构均呈滑动地安装于机架上，借由第一ccd机构和第二ccd机构以使自动校平放料装置带动工件与模板对位。
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1.一种光刻机，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的光刻机，其特征在于，所述放料机构包括放料组件、灯板组件和第一吸附组件，所述灯板组件和所述第一吸附组件位于所述放料组件内，所述放料组件用于放置工件并借由所述第一吸附组件以使所述工件固定于所述放料组件上，所述灯板组件用于加亮所述工件的亮度。
3.根据权利要求1所述的光刻机，其特征在于，所述弧形调节机构包括弧形调节组件和弹性调节组件，所述放料机构安装于所述弧形调节组件上，所述放料机构受力作用于所述弧形调节组件，以使所述弧形调节组件弹性挤压所述弹性调节组件。
4.根据权利要求3所述的光刻机，其特征在于，所述弧形调节组件包括底座和弧形调节件，所述底座上开设有弧形槽，所述弧形调节件设置有弧形部和安装部，所述弧形部安装于所述弧形槽内并能在所述弧形槽内多角度转动，所述放料组件安装于所述安装部上并能随所述弧形部在所述弧形槽内活动。
5.根据权利要求4所述的光刻机，其特征在于，所述定位机构包括设置于所述底座内的第二吸附组件，借由所述第二吸附组件以将所述弧形调节件吸附固定于所述弧形槽内。
...【技术特征摘要】
1.一种光刻机，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的光刻机，其特征在于，所述放料机构包括放料组件、灯板组件和第一吸附组件，所述灯板组件和所述第一吸附组件位于所述放料组件内，所述放料组件用于放置工件并借由所述第一吸附组件以使所述工件固定于所述放料组件上，所述灯板组件用于加亮所述工件的亮度。
3.根据权利要求1所述的光刻机，其特征在于，所述弧形调节机构包括弧形调节组件和弹性调节组件，所述放料机构安装于所述弧形调节组件上，所述放料机构受力作用于所述弧形调节组件，以使所述弧形调节组件弹性挤压所述弹性调节组件。
4.根据权利要求3所述的光刻机，其特征在于，所述弧形调节组件包括底座和弧形调节件，所述底座上开设有弧形槽，所述弧形调节件设置有弧形部和安装部，所述弧形部安装于所述弧形槽内并能在所述弧形槽内多角度转动，所述放料组件安装于所述安装部上并能随所述弧形部在所述弧形槽内活动。
5.根据权利要求4所述的光刻机，其特征在于，所述定位机构包括设置于所述底座内的第二吸附组件，借由所述第二吸附组件以将所述弧形调节件吸附固定于所述弧形槽内。
6.根据权利要求1所述的光刻机，其特征在于，所述定位机构包括安装座以及设置于所述安装座上的定位组件和限位组件，所述定位组件动作以将所述弧形调节机构定位...
【专利技术属性】
技术研发人员：梁弄，王章，倪沁心，陈建明，杨大昆，
申请(专利权)人：广东华恒智能科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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