System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种晶圆干燥装置及晶圆干燥方法制造方法及图纸_技高网

一种晶圆干燥装置及晶圆干燥方法制造方法及图纸

技术编号:42987435 阅读:15 留言:0更新日期:2024-10-15 13:19
本发明专利技术公开了晶圆干燥技术领域的一种晶圆干燥装置及晶圆干燥方法,包括清洗箱及排废箱,安装架设有横移组件,清洗箱内部设有喷杆组件,清洗箱设有排风管、第二排液管及第一排液管,清洗箱底部设有快排管及快排阀,洗箱内部设有花篮,安装架设有摆臂机构,安装架的另外一端设有起泡器组件、加热器及排风管组件,排风管设置于第二排液管的上端,在液位降低过程中,喷杆喷射低表面张力的液体和气体,在晶圆表面形成表面张力梯度,激活马兰戈尼效应,从而有效地去除污染物,干燥方法包括以下步骤:步骤S1,晶圆装载,步骤S2,预清洗,步骤S3,晶圆清洗,步骤S4,晶圆干燥,步骤S5,晶圆卸载,该步骤能更进一步地提高晶圆清洗的洁净度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及晶圆干燥,具体为一种晶圆干燥装置及晶圆干燥方法


技术介绍

1、在晶圆制造过程中,在不同工艺步骤中可能会使用不同的化学品和溶剂对表面进行各种化学或物理处理,如氧化、沉积、光刻等,如果晶圆表面残留有之前的化学品,可能会与后续工艺中的化学品发生反应,导致交叉污染;

2、晶圆表面的污染物也可能会影响半导体器件的电学性能,如改变载流子的迁移率、引入漏电流或导致器件的阈值电压漂移,并且某些污染物可能会在后续的工艺步骤中引起器件的物理损坏,如腐蚀、裂纹或分层,污染物可能导致晶圆表面的缺陷,这些缺陷可能会在后续的刻蚀、沉积或光刻等工艺步骤中被放大,导致器件缺陷和成品率下降;

3、随着半导体工艺的不断进步,器件的特征尺寸越来越小,对晶圆表面的洁净度要求也越来越高,因此,在晶圆的清洗和干燥过程中,去除晶圆表面的污染物至关重要,去除这些污染物可以防止器件在制造过程中或使用期间失效,然而,市面上的晶圆干燥装置仅通过流体进行喷淋,使用气体对晶圆进行干燥,该方式很难清洗去除晶圆表面的污染物;

4、与此同时,现有的晶圆干燥方法缺少设置预清洗该步骤,使得晶圆在进行清洗过程中容易出现污染物未完全去除的问题发生。


技术实现思路

1、为了克服现有技术方案的不足,本专利技术提供一种晶圆干燥装置及晶圆干燥方法,能有效的解决市面上的晶圆干燥装置仅通过流体进行喷淋,使用气体对晶圆进行干燥,该方式很难清洗去除晶圆表面的污染物,以及现有的晶圆干燥方法缺少设置预清洗该步骤,使得晶圆在进行清洗过程中容易出现污染物未完全去除的问题发生的技术问题。

2、本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是:一种晶圆干燥装置,包括安装架,所述安装架的一端设有清洗箱及排废箱,所述清洗箱开设有开口朝上的清洗槽,清洗箱的上端设有与之非固定连接的盖板,且安装架设有用于驱动所述盖板做横移运动的横移组件,所述清洗箱的内部设有喷杆组件,所述清洗箱的一侧设有注液管及液位计,清洗箱接近注液管的一侧设有一组排风管及第二排液管,清洗箱的另外一侧设有第一排液管,一组所述排风管呈左右间隔分布设置,一组所述第二排液管呈左右间隔分布设置,所述排风管设于第二排液管的上端,清洗箱的底部设有快排管及快排阀,所述快排阀套设于快排管的外侧并用于打开或关闭快排管,所述快排管的另外一端与排废箱相互连接,所述清洗箱内部设有至少一个与之非固定连接的花篮,所述安装架接近清洗箱的一侧设有用于带动花篮运动的摆臂机构,所述摆臂机构包括摆臂、与所述摆臂驱动连接的驱动组件以及与所述摆臂相互连接的花篮支撑组件,所述花篮支撑组件包括支撑板以及固定设于所述支撑板左右两端的限位板;

3、所述安装架的另外一端设有起泡器组件、加热器以及排风管组件,所述起泡器组件包括安装箱、设于安装箱顶部的出风管、设于安装箱侧边的进风管、设于安装箱前侧的排液管、设于安装箱底部的第二排废管、设于所述安装箱内部的鼓泡器以及三个固定设于安装箱上的液位感应器,三个所述液位感应器由上至下依次分布设置,所述排风管组件包括清洗槽排风管、机架排风管以及鼓泡器加热排风管,所述清洗槽排风管远离机架排风管的一端设有第一手动调风阀,所述机架排风管的顶部设有第二手动调风阀。

4、优选地,所述清洗箱架设于安装架的顶端,清洗箱设有用于实现与安装架固定连接的支撑杆,所述排废箱固定设于安装架的底部,且排废箱设于安装架接近清洗箱的一侧,排废箱设有用于与快排管连接的快排阀法兰,排废箱设有至少两个排液接头,所述排废箱设有与之相互连接的第一排废管,清洗箱的废水通过快排管通入排废箱的内部,而排废箱内部的废水则通过第一排废管排出。

5、优选地,所述横移组件包括横移导轨、与所述横移导轨滑动配合的横移滑块以及用于驱动横移滑块沿横移导轨长度方向滑动的横移气缸,所述横移滑块设有与之相互连接的活动板,所述盖板与活动板相互连接并随之一同移动,所述盖板的一侧固定设有第一感应片,安装架设有用于安装横移组件的气缸安装板,气缸安装板的一侧设有缓冲器及用于安装所述缓冲器的安装支架,所述横移滑块与缓冲器相互接触但不连接,所述横移气缸固定设于气缸安装板的端面上,所述横移导轨沿气缸安装板的长度方向延伸设置,安装架远离气缸安装板的一侧设有感应器安装板,所述感应器安装板的一侧设有原点感应器。

6、优选地,所述花篮的前后两端均设有与之一体成型的提手部,所述花篮的底部设有定位槽,所述花篮开设有多个料槽,多个所述料槽沿花篮的宽度方向等间距分布设置,且每个所述料槽的内部均设有与之非固定连接的晶圆,所述支撑板的端面上设有定位板以及一组托板,所述定位板的结构形状大小与定位槽相互吻合,一组所述托板分别设于定位板的前后两侧,每个所述限位板均开设有镂空槽,花篮与花篮支撑组件的连接状态如下,花篮的底部与托板相互接触但不连接,定位板插设于定位槽的内部并通过该插接方式使花篮稳定的放置在花篮支撑组件上,且花篮设于一组限位板之间,镂空槽及提手部的设置能够便于花篮脱离花篮支撑组件。

7、优选地,所述机架排风管设于鼓泡器加热排风管的一侧并与之相互连通,所述鼓泡器加热排风管设于清洗槽排风管的底部并与之相互连通,所述机架排风管的顶部设有清洗槽排风管。

8、优选地,所述驱动组件包括直线导轨、直线滑块、与直线滑块相互连接并随之一同移动的滑板以及用于驱动直线滑块沿直线滑轨滑动的伺服电机,所述摆臂开设有呈长圆形状的活动槽,活动槽沿摆臂的长度方向延伸设置,所述滑板的前端面设有与之一体成型的活动块,所述活动块设于活动槽的内部并与之滑动连接,所述摆臂的前侧设有与之相互连接的连接臂,所述摆臂与连接臂相互平行,且摆臂与连接臂之间设有连接板,所述连接臂的一端与支撑板相互连接,伺服电机驱动直线滑块沿直线滑轨滑动时,滑板带动活动块于活动槽的内部滑动,进而使摆臂实现摆动,而花篮支撑组件也随着摆臂一起做摆动动作。

9、优选地,所述喷杆组件包括喷杆安装座、拖链以及设于所述喷杆安装座上的喷杆、压力表、滚轮和第二感应片,所述拖链用于带动喷杆安装座进行移动。

10、一种晶圆干燥方法,该干燥方法包括以下步骤:

11、步骤s1,晶圆装载,作业员开启液体大流量开关使液体进入,当液体到达槽体上限时装载晶圆,确认晶圆装载完毕后封闭腔体;

12、步骤s2,预清洗,作业员同时打开液体大流量开关与液体小流量开关,开启时间为8-12s,之后关闭液体大流量开关与液体小流量开关;

13、步骤s3,晶圆清洗,开启ipa喷杆及n2,流量大小为55-65slm,晶圆移动至慢排位,同时开启慢排阀,待液位到达花篮下端时开启快排阀,慢排过程时间为200-300s;

14、步骤s4,晶圆干燥,通过摆臂带动晶圆左右来回摇摆,同时开启ipa和hot n2,温度范围为50℃-250℃,流量大小为380-420slm,干燥时间为340-360s;

15、步骤s5,晶圆卸载,晶圆回到原点位,开启hot n2,温度范围为50℃-250℃,流量大小为380-本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种晶圆干燥装置,包括安装架,其特征在于,所述安装架的一端设有清洗箱及排废箱,所述清洗箱开设有开口朝上的清洗槽,清洗箱的上端设有与之非固定连接的盖板,且安装架设有用于驱动所述盖板做横移运动的横移组件,所述清洗箱的内部设有喷杆组件,所述清洗箱的一侧设有注液管及液位计,清洗箱接近注液管的一侧设有一组排风管及第二排液管,清洗箱的另外一侧设有第一排液管,一组所述排风管呈左右间隔分布设置,一组所述第二排液管呈左右间隔分布设置,所述排风管设于第二排液管的上端,清洗箱的底部设有快排管及快排阀,所述快排阀套设于快排管的外侧并用于打开或关闭快排管,所述快排管的另外一端与排废箱相互连接,所述清洗箱内部设有至少一个与之非固定连接的花篮,所述安装架接近清洗箱的一侧设有用于带动花篮运动的摆臂机构,所述摆臂机构包括摆臂、与所述摆臂驱动连接的驱动组件以及与所述摆臂相互连接的花篮支撑组件,所述花篮支撑组件包括支撑板以及固定设于所述支撑板左右两端的限位板;

2.根据权利要求1所述的一种晶圆干燥装置,其特征在于,所述清洗箱架设于安装架的顶端,清洗箱设有用于实现与安装架固定连接的支撑杆,所述排废箱固定设于安装架的底部,且排废箱设于安装架接近清洗箱的一侧,排废箱设有用于与快排管连接的快排阀法兰,排废箱设有至少两个排液接头,所述排废箱设有与之相互连接的第一排废管,清洗箱的废水通过快排管通入排废箱的内部,而排废箱内部的废水则通过第一排废管排出。

3.根据权利要求1所述的一种晶圆干燥装置,其特征在于,所述横移组件包括横移导轨、与所述横移导轨滑动配合的横移滑块以及用于驱动横移滑块沿横移导轨长度方向滑动的横移气缸,所述横移滑块设有与之相互连接的活动板,所述盖板与活动板相互连接并随之一同移动,所述盖板的一侧固定设有第一感应片,安装架设有用于安装横移组件的气缸安装板,气缸安装板的一侧设有缓冲器及用于安装所述缓冲器的安装支架,所述横移滑块与缓冲器相互接触但不连接,所述横移气缸固定设于气缸安装板的端面上,所述横移导轨沿气缸安装板的长度方向延伸设置,安装架远离气缸安装板的一侧设有感应器安装板,所述感应器安装板的一侧设有原点感应器。

4.根据权利要求1所述的一种晶圆干燥装置,其特征在于,所述花篮的前后两端均设有与之一体成型的提手部,所述花篮的底部设有定位槽,所述花篮开设有多个料槽,多个所述料槽沿花篮的宽度方向等间距分布设置,且每个所述料槽的内部均设有与之非固定连接的晶圆,所述支撑板的端面上设有定位板以及一组托板,所述定位板的结构形状大小与定位槽相互吻合,一组所述托板分别设于定位板的前后两侧,每个所述限位板均开设有镂空槽,花篮与花篮支撑组件的连接状态如下,花篮的底部与托板相互接触但不连接,定位板插设于定位槽的内部并通过该插接方式使花篮稳定的放置在花篮支撑组件上,且花篮设于一组限位板之间,镂空槽及提手部的设置能够便于花篮脱离花篮支撑组件。

5.根据权利要求1所述的一种晶圆干燥装置,其特征在于,所述机架排风管设于鼓泡器加热排风管的一侧并与之相互连通,所述鼓泡器加热排风管设于清洗槽排风管的底部并与之相互连通,所述机架排风管的顶部设有清洗槽排风管。

6.根据权利要求1所述的一种晶圆干燥装置,其特征在于,所述驱动组件包括直线导轨、直线滑块、与直线滑块相互连接并随之一同移动的滑板以及用于驱动直线滑块沿直线滑轨滑动的伺服电机,所述摆臂开设有呈长圆形状的活动槽,活动槽沿摆臂的长度方向延伸设置,所述滑板的前端面设有与之一体成型的活动块,所述活动块设于活动槽的内部并与之滑动连接,所述摆臂的前侧设有与之相互连接的连接臂,所述摆臂与连接臂相互平行,且摆臂与连接臂之间设有连接板,所述连接臂的一端与支撑板相互连接,伺服电机驱动直线滑块沿直线滑轨滑动时,滑板带动活动块于活动槽的内部滑动,进而使摆臂实现摆动,而花篮支撑组件也随着摆臂一起做摆动动作。

7.根据权利要求1所述的一种晶圆干燥装置,其特征在于,所述喷杆组件包括喷杆安装座、拖链以及设于所述喷杆安装座上的喷杆、压力表、滚轮和第二感应片,所述拖链用于带动喷杆安装座进行移动。

8.一种晶圆干燥方法,其特征在于,该干燥方法由权利要求1-7任意一项所述的晶圆干燥装置来完成,该干燥方法包括以下步骤:

...

【技术特征摘要】

1.一种晶圆干燥装置,包括安装架,其特征在于,所述安装架的一端设有清洗箱及排废箱,所述清洗箱开设有开口朝上的清洗槽,清洗箱的上端设有与之非固定连接的盖板,且安装架设有用于驱动所述盖板做横移运动的横移组件,所述清洗箱的内部设有喷杆组件,所述清洗箱的一侧设有注液管及液位计,清洗箱接近注液管的一侧设有一组排风管及第二排液管,清洗箱的另外一侧设有第一排液管,一组所述排风管呈左右间隔分布设置,一组所述第二排液管呈左右间隔分布设置,所述排风管设于第二排液管的上端,清洗箱的底部设有快排管及快排阀,所述快排阀套设于快排管的外侧并用于打开或关闭快排管,所述快排管的另外一端与排废箱相互连接,所述清洗箱内部设有至少一个与之非固定连接的花篮,所述安装架接近清洗箱的一侧设有用于带动花篮运动的摆臂机构,所述摆臂机构包括摆臂、与所述摆臂驱动连接的驱动组件以及与所述摆臂相互连接的花篮支撑组件,所述花篮支撑组件包括支撑板以及固定设于所述支撑板左右两端的限位板;

2.根据权利要求1所述的一种晶圆干燥装置,其特征在于,所述清洗箱架设于安装架的顶端,清洗箱设有用于实现与安装架固定连接的支撑杆,所述排废箱固定设于安装架的底部,且排废箱设于安装架接近清洗箱的一侧,排废箱设有用于与快排管连接的快排阀法兰,排废箱设有至少两个排液接头,所述排废箱设有与之相互连接的第一排废管,清洗箱的废水通过快排管通入排废箱的内部,而排废箱内部的废水则通过第一排废管排出。

3.根据权利要求1所述的一种晶圆干燥装置,其特征在于,所述横移组件包括横移导轨、与所述横移导轨滑动配合的横移滑块以及用于驱动横移滑块沿横移导轨长度方向滑动的横移气缸,所述横移滑块设有与之相互连接的活动板,所述盖板与活动板相互连接并随之一同移动,所述盖板的一侧固定设有第一感应片,安装架设有用于安装横移组件的气缸安装板,气缸安装板的一侧设有缓冲器及用于安装所述缓冲器的安装支架,所述横移滑块与缓冲器相互接触但不连接,所述横移气缸固定设于气缸安装板的端面上,所述横移导轨沿气缸安装板的长度方向延伸设置,安装架远离气缸安装板的一侧设有感应器安装板,所述感应器...

【专利技术属性】
技术研发人员:江永顾华平熊伟
申请(专利权)人:广东凯迪微智能装备有限公司
类型:发明
国别省市:

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