【技术实现步骤摘要】
本技术涉及pecvd设备，尤其涉及一种炉管支撑装置及半导体热处理设备。
技术介绍
1、pecvd(plasma enhanced chemical vapor deposition，中文全称为离子体增强化学气相淀积)设备主要用于硅片太阳能器件制造中减反射膜的镀膜工艺，炉管是镀膜工艺的反应腔室，需要固定在支撑横梁上。
2、为了保证推舟送片机构顺利进入炉管，就必须将炉管与推舟送片机构的相对位置对准，由于推舟送片机构是固定在送料滑台上的，无法调节，因此只能对炉管位置进行调节，炉管为圆柱形，体积大、重量重，现有的炉管支撑调节装置主要包括安装在支撑横梁上的四个坡面支架，调节时需要操作人员手动移动坡面支架，极为费力，此外，这种方法依靠斜面调节高度和前后方向上的距离，两个方向是同时进行的，不具有独立可调性，其调节并不完全可控。
技术实现思路
1、本技术提供了一种炉管支撑装置及半导体热处理设备，用以解决现有技术中不方便调节炉管位置的缺陷。
2、第一方面，本技术提供一种炉管支撑装置，包括：
3、一对托板，一对所述托板间隔设置，每个所述托板上分别设置有安装座；
4、一对支撑杆，设置在一对所述安装座之间，所述支撑杆平行于炉管的长度方向设置，每个所述支撑杆的两端均与所述安装座连接；
5、第一调节机构，设置在所述炉管一侧的所述托板上，所述第一调节机构能够驱使所述安装座沿第一方向移动；
6、第二调节机构，所述第二调节机构与所述第一调节机构
7、根据本技术提供的炉管支撑装置，一对所述支撑杆包括第一支撑杆和第二支撑杆，所述第一支撑杆和/或所述第二支撑杆的两端分别与所述安装座活动连接，并能够沿第一方向移动。
8、根据本技术提供的炉管支撑装置，一对所述支撑杆包括第一支撑杆和第二支撑杆，所述第二支撑杆的两端分别与所述安装座固定连接，所述第一支撑杆的两端分别与所述安装座活动连接并能够沿第一方向移动。
9、根据本技术提供的炉管支撑装置，一对所述支撑杆包括第一支撑杆和第二支撑杆，所述第一支撑杆和所述第二支撑杆的两端分别与所述安装座活动连接并能够沿第一方向移动。
10、根据本技术提供的炉管支撑装置，还包括第二调节机构，所述第二调节机构作用于所述第二支撑杆，能够驱使所述第二支撑杆沿第一方向靠近或远离所述第一支撑杆。
11、根据本技术提供的炉管支撑装置，所述第二调节机构包括：
12、第一驱动件，设置为能够驱使所述第二支撑杆沿所述第一方向远离所述第一支撑杆；
13、第二驱动件，设置为能够驱使所述第二支撑杆沿所述第一方向靠近所述第一支撑杆。
14、根据本技术提供的炉管支撑装置，所述安装座包括安装板，所述安装板间隔设置有固定孔和调节孔，所述第一支撑杆的端部与所述固定孔适配，所述第二支撑杆的端部设置在所述调节孔中，并能够在所述调节孔中沿第一方向往复移动。
15、根据本技术提供的炉管支撑装置，所述安装板的一端设置有端板，所述第一驱动件与所述第二驱动件均设置在所述端板上。
16、根据本技术提供的炉管支撑装置，所述第一调节机构包括第三驱动件，所述第三驱动件的驱动端与所述安装座连接，并能够驱使所述安装座沿第一方向移动。
17、根据本技术提供的炉管支撑装置，还包括固定座，所述固定座设置在所述托板上，所述第三驱动件可移动地设置在所述固定座上。
18、第二方面，本技术提供一种半导体热处理设备，包括机架以及如第一方面所描述的炉管支撑装置，所述炉管支撑装置的托板通过螺栓与机架连接。
19、根据本技术提供的半导体热处理设备，还包括柜门，所述炉管支撑装置的第二支撑管靠近所述柜门设置。
20、本技术提供的一种炉管支撑装置，包括一对托板、一对安装座、一对支撑杆、第一调节机构和第二调节机构，通过第一调节机构驱使安装座在托板上沿第一方向移动，以调节一对支撑杆上托载的炉管的向内移动和向外移动；由于一对支撑杆是平行于炉管的长度方向设置，通过第二调节机构驱使相邻的支撑杆沿第一方向移动来调节一对支撑杆之间的间距，从而能对炉管进行高度的调节；本技术炉管支撑结构简单，此外，通过将第一调节机构与第二调节机构设置在炉管的同一侧，方便操作且便于维护。
21、本技术还提供了一种半导体热处理设备，包括机架以及上述的炉管支撑装置，该有益效果的推导过程与上述炉管支撑装置所带来的有益效果的推导过程大体类似，此处不再赘述。
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1.一种炉管支撑装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的炉管支撑装置，其特征在于，一对所述支撑杆包括第一支撑杆(5)和第二支撑杆(6)，所述第一支撑杆(5)和/或所述第二支撑杆(6)的两端分别与所述安装座(2)活动连接，并能够沿第一方向移动。
3.根据权利要求2所述的炉管支撑装置，其特征在于，所述第二调节机构(4)作用于所述第二支撑杆(6)，能够驱使所述第二支撑杆(6)沿第一方向靠近或远离所述第一支撑杆(5)。
4.根据权利要求3所述的炉管支撑装置，其特征在于，所述第二调节机构(4)包括：
5.根据权利要求4所述的炉管支撑装置，其特征在于，所述安装座(2)包括安装板(21)，所述安装板(21)间隔设置有固定孔和调节孔(23)，所述第一支撑杆(5)的端部与所述固定孔适配，所述第二支撑杆(6)的端部设置在所述调节孔(23)中，并能够在所述调节孔(23)中沿第一方向往复移动。
6.根据权利要求5所述的炉管支撑装置，其特征在于，所述安装板(21)的一端设置有端板(22)，所述第一驱动件(41)与所述第二驱动件(42)均
7.根据权利要求1所述的炉管支撑装置，其特征在于，所述第一调节机构(3)包括第三驱动件(31)，所述第三驱动件(31)的驱动端与所述安装座(2)连接，并能够驱使所述安装座(2)沿第一方向移动。
8.根据权利要求7所述的炉管支撑装置，其特征在于，还包括固定座(32)，所述固定座(32)设置在所述托板(1)上，所述第三驱动件(31)可移动地设置在所述固定座(32)上。
9.一种半导体热处理设备，其特征在于，包括机架(7)以及如权利要求1-8任一项所述的炉管支撑装置，所述炉管支撑装置的托板(1)通过螺栓与机架(7)连接。
10.根据权利要求9所述的半导体热处理设备，其特征在于，还包括柜门，所述炉管支撑装置的第二支撑管靠近所述柜门设置。
...【技术特征摘要】
1.一种炉管支撑装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的炉管支撑装置，其特征在于，一对所述支撑杆包括第一支撑杆(5)和第二支撑杆(6)，所述第一支撑杆(5)和/或所述第二支撑杆(6)的两端分别与所述安装座(2)活动连接，并能够沿第一方向移动。
3.根据权利要求2所述的炉管支撑装置，其特征在于，所述第二调节机构(4)作用于所述第二支撑杆(6)，能够驱使所述第二支撑杆(6)沿第一方向靠近或远离所述第一支撑杆(5)。
4.根据权利要求3所述的炉管支撑装置，其特征在于，所述第二调节机构(4)包括：
5.根据权利要求4所述的炉管支撑装置，其特征在于，所述安装座(2)包括安装板(21)，所述安装板(21)间隔设置有固定孔和调节孔(23)，所述第一支撑杆(5)的端部与所述固定孔适配，所述第二支撑杆(6)的端部设置在所述调节孔(23)中，并能够在所述调节孔(23)中沿第一方向往复移动。
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【专利技术属性】
技术研发人员：陶彪，
申请(专利权)人：株洲三一硅能技术有限公司，
类型：新型
国别省市：
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