【技术实现步骤摘要】
本技术属于半导体制造设备，尤其涉及薄膜沉积设备领域，具体为一种液体流量稳定机构。
技术介绍
1、在化学气相沉积(chemical vapor deposition，cvd)工艺中，有些设备需要用到液态反应源，而液态反应源需要液体汽化装置配合使用，液体流量的控制精度关系到cvd工艺的稳定性。
2、现有的液体汽化装置在液体流通通路内没有设置压力缓冲机构，这使得流量控制器在打开截止阀的瞬间压力减少的很快，容易造成液体流量的顺时控制失衡。
技术实现思路
1、本技术提供了一种液体流量稳定机构，以解决
技术介绍
中提出的问题
2、为了实现以上目的，本技术通过以下技术方案实现：
3、一种液体流量稳定机构，包括第一通路和至少一个第二通路，所述第一通路的两端与液体连通通路连通，所述第二通路的一端与第一通路连通，所述第二通路的另一端为密封端；
4、所述第二通路内设置有一带孔隔板，所述带孔隔板靠近密封端的一侧设置有至少一个充气球。
5、优选的，所述带孔隔板上设置有一隔离通道，所述隔离通道用于保持第二通路内的液体压力一致。
6、优选的，所述隔离通道向密封端延伸。
7、优选的，所述隔离通道的周边均匀分布多个充气球。
8、优选的，所述第一通路与第二通路垂直连接。
9、与现有技术相比，本技术的有益效果如下：
10、本技术设置了带孔隔板和充气球，在液体连通通路的液体压力突然下降时，充气球外部压力减小
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1.一种液体流量稳定机构，其特征在于，包括第一通路和至少一个第二通路，所述第一通路的两端与液体连通通路连通，所述第二通路的一端与第一通路连通，所述第二通路的另一端为密封端；
2.根据权利要求1所述的液体流量稳定机构，其特征在于，所述带孔隔板上设置有一隔离通道，所述隔离通道用于保持第二通路内的液体压力一致。
3.根据权利要求2所述的液体流量稳定机构，其特征在于，所述隔离通道向密封端延伸。
4.根据权利要求2所述的液体流量稳定机构，其特征在于，所述隔离通道的周边均匀分布多个充气球。
【技术特征摘要】
1.一种液体流量稳定机构，其特征在于，包括第一通路和至少一个第二通路，所述第一通路的两端与液体连通通路连通，所述第二通路的一端与第一通路连通，所述第二通路的另一端为密封端；
2.根据权利要求1所述的液体流量稳定机构，其特征在于，所述带孔隔板上设置有...
【专利技术属性】
技术研发人员：王彬，李继刚，张国伟，张璇，付陈承，
申请(专利权)人：江苏首芯半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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