【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体工艺流程领域，尤其涉及一种工艺腔作业控制方法以及系统。
技术介绍
1、在双极型功率器件(bipolar-cmos-dmos)工艺流程中，由于高阻多晶硅阻值范围很大，需要经过离子注入和硅化物注入两道工艺，因此需要两道快速热退火工艺。双极型功率器件本身对温度非常敏感，经过两道快速热退火工艺后，产品对温度更加敏感，在晶圆完成全部工艺后进行电性能测试，常常出现参数异常失效。
2、如何提供一种工艺腔作业控制方法，能够提升敏感产品的良率，还能够方便工作人员操作，对提高敏感产品的生产效率有非常大的应用价值。
技术实现思路
1、本专利技术所要解决的技术问题是提供一种工艺腔作业控制方法以及系统，在同一个晶圆多轮作业时，能够在执行同一种工艺时优化工艺腔的使用调度，能够在提升了产品良率的同时，简化人力操作。
2、为了解决上述问题，本专利技术提供了一种工艺腔作业控制方法，包括：生成数据配置表，所述数据配置表中包括多条配置数据，每条配置数据包括机台信息和工艺腔信息；根据所述数据配置表的配置数据，检查每个机台的状态以及机台内的工艺腔的状态；选择机台中处于正常状态的工艺腔中的任意一个作为选定工艺腔；将目标晶圆置于所述选定工艺腔中进行第一次作业；所述第一次作业完成生成作业报表，所述作业报表包括多条作业数据，每条作业数据包括晶圆信息、机台信息、以及工艺腔信息；根据所述数据配置表以及所述作业报表，找出所述目标晶圆完成第一次作业所在的工艺腔作为所述目标晶圆第二次作业的目标工艺
3、在一些实施例中，所述机台信息包括机台编号，所述工艺腔信息包括工艺腔编号，所述晶圆信息包括晶圆编号。
4、在一些实施例中，每条作业数据还包括晶圆作业信息。
5、在一些实施例中，所述数据配置表和/或所述作业报表存于数据库中。
6、在一些实施例中，通过用户界面查询、新增、删除、修改所述数据配置表的配置数据。
7、在一些实施例中，通过用户界面查询、导出所述作业报表的作业数据。
8、在一些实施例中，根据所述数据配置表的配置数据，检查每个机台的状态以及机台内的工艺腔的状态的步骤中，先检查每个机台是否处于空闲态。
9、在一些实施例中，根据所述数据配置表以及所述作业报表，找出所述目标晶圆完成第一次作业的晶圆所在的工艺腔作为所述目标晶圆第二次作业的目标工艺腔的步骤中还包括：根据所述数据配置表的配置数据，检查每个机台的状态以及机台内的工艺腔的状态。
10、在一些实施例中，所述第二次作业完成更新所述作业报表。
11、为了解决上述问题，本专利技术还提供了一种工艺腔作业控制系统，包括：配置模块，所述配置模块用于生成数据配置表，所述数据配置表包括多条配置数据，每条配置数据包括机台信息和工艺腔信息；报表模块，所述报表模块用于生成作业报表，所述作业报表包括多条作业数据，每条作业数据包括晶圆信息、机台信息、以及工艺腔信息；工艺腔选择模块，所述工艺腔选择模块与机台组连接并且能够读取所述数据配置表以及所述作业报表，第一次作业时，所述工艺腔选择模块根据所述数据配置表的配置数据，检查所述机台组中每个机台的状态以及机台内的工艺腔的状态，选择机台中处于正常状态的工艺腔中的任意一个作为选定工艺腔，第二次作业时，所述工艺腔选择模块根据所述数据配置表以及所述作业报表，找出目标晶圆完成第一次作业所在的工艺腔作为所述目标晶圆第二次作业的目标工艺腔；晶圆派送模块，所述晶圆派送模块与所述工艺腔选择模块连接，第一次作业时，所述晶圆派送模块用于将所述目标晶圆置于所述选定工艺腔中进行第一次作业，第二次作业时，所述晶圆派送模块用于将所述目标晶圆送入所述第二次作业的目标工艺腔中进行第二次作业。
12、在一些实施例中，所述配置模块还包括配置用户界面，所述配置用户界面用于查询、新增、删除、修改所述数据配置表的的配置数据。
13、在一些实施例中，所述作业模块还包括作业用户界面，所述作业用户界面用于查询、导出所述作业报表的作业数据。
14、上述技术方案，通过生成数据配置表记录包括机台信息和工艺腔信息的配置数据，根据所述数据配置表的配置数据，检查每个机台的状态以及机台内的工艺腔的状态并选择机台中处于正常状态的工艺腔中的任意一个作为选定工艺腔进行目标晶圆的第一次作业，第一次作业完成生成作业报表记录包括晶圆信息、机台信息、以及工艺腔信息的作业数据，根据所述数据配置表以及所述作业报表，找出目标晶圆完成第一次作业所在的工艺腔作为该目标晶圆第二次作业的目标工艺腔进行该目标晶圆的第二次作业。上述方法使得同一片晶圆进行多次特定工艺时，能够在同一机台的同一工艺腔中进行，减少了敏感产品在生产过程中因进入陌生工艺腔而导致的参数异常，提高了产品的良率，同时减少了操作人员的工作量，提高了工作效率。
15、应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本专利技术。对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论，但在适当情况下，所述技术、方法和设备应当被视为授权说明书的一部分。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种工艺腔作业控制方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述机台信息包括机台编号，所述工艺腔信息包括工艺腔编号，所述晶圆信息包括晶圆编号。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，每条作业数据还包括晶圆作业信息。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述数据配置表和/或所述作业报表存于数据库中。
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，通过用户界面查询、新增、删除、修改所述数据配置表的配置数据。
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，通过用户界面查询、导出所述作业报表的作业数据。
7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，根据所述数据配置表的配置数据，检查每个机台的状态以及机台内的工艺腔的状态的步骤中，先检查每个机台是否处于空闲态。
8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，根据所述数据配置表以及所述作业报表，找出所述目标晶圆完成第一次作业所在的工艺腔作为所述目标晶圆第二次作业的目标工艺腔的步骤中还包括：根据所述数据配置表的配置数据，检查每个机台的状
9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第二次作业完成更新所述作业报表。
10.一种工艺腔作业控制系统，其特征在于，包括：
11.根据权利要求10所述的工艺腔作业控制系统，其特征在于，所述配置模块还包括配置用户界面，所述配置用户界面用于查询、新增、删除、修改所述数据配置表的的配置数据。
12.根据权利要求10所述的工艺腔作业控制系统，其特征在于，所述作业模块还包括作业用户界面，所述作业用户界面用于查询、导出所述作业报表的作业数据。
...【技术特征摘要】
1.一种工艺腔作业控制方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述机台信息包括机台编号，所述工艺腔信息包括工艺腔编号，所述晶圆信息包括晶圆编号。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，每条作业数据还包括晶圆作业信息。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述数据配置表和/或所述作业报表存于数据库中。
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，通过用户界面查询、新增、删除、修改所述数据配置表的配置数据。
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，通过用户界面查询、导出所述作业报表的作业数据。
7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，根据所述数据配置表的配置数据，检查每个机台的状态以及机台内的工艺腔的状态的步骤中，先检查每个机台是否处于空闲...
【专利技术属性】
技术研发人员：何勇，伏龙，解海江，
申请(专利权)人：上海积塔半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。