System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种激光打孔加工设备制造技术_技高网

一种激光打孔加工设备制造技术

技术编号:42956823 阅读:17 留言:0更新日期:2024-10-11 16:14
本发明专利技术涉及一种激光打孔加工设备,所述激光打孔加工设备包括光学系统、定位系统、加工平台和控制系统,所述控制系统控制所述光学系统、定位系统和加工平台,所述光学系统包括光源、整形单元、扩束单元、光束偏转单元、光束反射单元和光束扫描单元,所述光源发出激光,通过所述整形单元、扩束单元、光束偏转单元、光束反射单元、光束扫描单元输出至承载于加工平台的工件,所述光束偏转单元包括至少两个偏转元件,其中一个偏转元件实现光束X向偏转,另一个偏转元件实现光束Y向偏转。所述偏转元件为声光偏转器或者电光偏转器。快速偏转光束,提高加工效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种激光加工,具体为一种激光打孔加工设备


技术介绍

1、激光加工技术是利用高功率密度的激光束照射工件,使工件材料熔化气化而进行打孔、切割、焊接等加工。

2、目前的激光打孔设备多通过振镜在x-y平面控制激光束的偏转,但是振镜的响应速度和偏转速度受限,影响加工速度。且由于激光打孔是需要制作通孔、盲孔、埋孔,制作不同的孔时,需要调整激光打孔设备的离焦量,现有的方式是通过振镜竖直方向的机械运动实现,运动速度慢,且光路的长期稳定性差。


技术实现思路

1、本专利技术旨在提供一种激光打孔加工设备,实现激光束的快速偏转。

2、为了实现上述目的,本专利技术提供一种激光打孔加工设备,一种激光打孔加工设备,所述激光打孔加工设备包括光学系统、定位系统、加工平台和控制系统,所述控制系统控制所述光学系统、定位系统和加工平台,所述光学系统包括光源、 整形单元、扩束单元、光束偏转单元、光束反射单元和光束扫描单元,所述光源发出激光,通过所述整形单元、扩束单元、光束偏转单元、光束反射单元、光束扫描单元输出至承载于加工平台的工件,所述光束偏转单元包括至少两个偏转元件,其中一个偏转元件实现光束x向偏转,另一个偏转元件实现光束y向偏转。所述偏转元件为声光偏转器或者电光偏转器。

3、进一步的,所述控制系统基于所需离焦量,控制所述光束偏转单元的频率改变的持续时间及频率改变量。

4、进一步的,所述离焦量正比于频率改变的时间,反比于频率改变量。

5、进一步的,所述偏转元件前设置有半波片。

6、进一步的,所述光路系统还包括分光单元和能量检测单元,所述分光单元置于所述光束偏转单元和光束扫描单元之间。

7、进一步的,所述能量检测单元包括光电探测装置和激光脉冲反馈装置,所述光电探测装置用于检测光能量,所述激光脉冲反馈装置用于对光电探测装置检测的数据进行处理,所述光电探测装置采用光电二极管或者光电池。

8、进一步的,所述光电探测装置前设置有积分球或者陶瓷片。

9、进一步的,所述激光脉冲反馈装置接收所述光电探测装置的电信号,获得当前单脉冲能量,将当前单脉冲能量与预先设定的单脉冲能量进行比较,获得两者的差值,依据获得的当前单脉冲能量与预先设定的单脉冲能量的差值,调节所述光束偏转单元的输出振幅,调整所述光束偏转单元的衍射效率。

10、进一步的,所述扩束单元包括至少一变倍扩束元件。

11、进一步的,所述光束偏转单元的后端设置有空间滤波系统。

12、与现有技术相比,本专利技术采用声光偏转器或者电光偏转器作为光束偏转的元件,上述偏转器通过改变射频频率值来改变偏转角,偏转激光束的传播方向,调制相应时间为ns级别,能够实现快速偏转光束的目的,提高加工效率。同时,通过控制所述光束偏转单元的频率改变的持续时间及频率改变量,实现快速动态离焦,稳定性好,加工效果更佳。

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【技术保护点】

1.一种激光打孔加工设备,其特征在于:所述激光打孔加工设备包括光学系统、定位系统、加工平台和控制系统,所述控制系统控制所述光学系统、定位系统和加工平台,所述光学系统包括光源、 整形单元、扩束单元、光束偏转单元、光束反射单元和光束扫描单元,所述光源发出激光,通过所述整形单元、扩束单元、光束偏转单元、光束反射单元、光束扫描单元输出至承载于加工平台的工件,所述光束偏转单元包括至少两个偏转元件,其中一个偏转元件实现光束X向偏转,另一个偏转元件实现光束Y向偏转,所述偏转元件为声光偏转器或者电光偏转器。

2.根据权利要求1所述的激光打孔加工设备,其特征在于:所述控制系统基于所需离焦量,控制所述光束偏转单元的频率改变的持续时间及频率改变量。

3.根据权利要求2所述的激光打孔加工设备,其特征在于:所述离焦量正比于频率改变的时间,反比于频率改变量。

4.根据权利要求1所述的激光打孔加工设备,其特征在于:所述偏转元件前设置有半波片。

5.根据权利要求1所述的激光打孔加工设备,其特征在于:所述光路系统还包括分光单元和能量检测单元,所述分光单元置于所述光束偏转单元和光束扫描单元之间。

6.根据权利要求5所述的激光打孔加工设备,其特征在于:所述能量检测单元包括光电探测装置和激光脉冲反馈装置,所述光电探测装置用于检测光能量,所述激光脉冲反馈装置用于对光电探测装置检测的数据进行处理,所述光电探测装置采用光电二极管或者光电池。

7.根据权利要求6所述的激光打孔加工设备,其特征在于:所述光电探测装置前设置有积分球或者陶瓷片。

8.根据权利要求6所述的激光打孔加工设备,其特征在于:所述激光脉冲反馈装置接收所述光电探测装置的电信号,获得当前单脉冲能量,将当前单脉冲能量与预先设定的单脉冲能量进行比较,获得两者的差值,依据获得的当前单脉冲能量与预先设定的单脉冲能量的差值,调节所述光束偏转单元的输出振幅,调整所述光束偏转单元的衍射效率。

9.根据权利要求1所述的激光打孔加工设备,其特征在于:所述扩束单元包括至少一变倍扩束元件。

10.根据权利要求1所述的激光打孔加工设备,其特征在于:所述光束偏转单元的后端设置有空间滤波系统。

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【技术特征摘要】

1.一种激光打孔加工设备,其特征在于:所述激光打孔加工设备包括光学系统、定位系统、加工平台和控制系统,所述控制系统控制所述光学系统、定位系统和加工平台,所述光学系统包括光源、 整形单元、扩束单元、光束偏转单元、光束反射单元和光束扫描单元,所述光源发出激光,通过所述整形单元、扩束单元、光束偏转单元、光束反射单元、光束扫描单元输出至承载于加工平台的工件,所述光束偏转单元包括至少两个偏转元件,其中一个偏转元件实现光束x向偏转,另一个偏转元件实现光束y向偏转,所述偏转元件为声光偏转器或者电光偏转器。

2.根据权利要求1所述的激光打孔加工设备,其特征在于:所述控制系统基于所需离焦量,控制所述光束偏转单元的频率改变的持续时间及频率改变量。

3.根据权利要求2所述的激光打孔加工设备,其特征在于:所述离焦量正比于频率改变的时间,反比于频率改变量。

4.根据权利要求1所述的激光打孔加工设备,其特征在于:所述偏转元件前设置有半波片。

5.根据权利要求1所述的激光打孔加工设备,其特征在于:所述光路系统还包括分光单元和能量...

【专利技术属性】
技术研发人员:吴威张雷
申请(专利权)人:源卓微纳科技苏州股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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