【技术实现步骤摘要】
本专利技术提供具有高膜基结合力的tin涂层，属于涂层。
技术介绍
1、tin涂层由于其稳定的化学性能和良好的力学性能，被广泛应用于刀具行业、医学工业、航空航天以及集成电路等领域。如作为一种在工业上应用成熟的硬质涂层，tin涂层能够有效的保护航空发动机叶片、切削刀具和精密仪器。然而，随着机械零部件性能要求的不断提高，涂层的使用条件变得越来越严苛，这对保护涂层的可靠性和使用寿命提出更高的要求。tin涂层与基体之间的结合强度较差，导致涂层容易脱落，这一直是限制涂层使用寿命的重要因素。涂层与基体之间的异质界面存在晶格常数和热膨胀系数等参数差异，使得涂层与基体之间的结合变得脆弱。
技术实现思路
1、本专利技术提供具有高膜基结合力的tin涂层，解决了现有技术中tin涂层与基体结合力不足，易造成涂层剥离失效的技术问题。
2、本专利技术是这样实现的：该tin涂层按照原子质量比包括n 40~50 at.% 和ti 50~60at.%，厚度为300～500 nm，通过高功率脉冲磁控溅射，先沉积ti过渡层，后沉积tin涂层。
3、作为一种优选的实施方案，所述tin涂层通过以下步骤制得：
4、（1）基体预处理
5、基体清洗吹干后备用；
6、（2）预溅射清洗
7、步骤（1）所得的基体在真空度低于1×10-3 pa，温度350℃环境下，通入氩气，流量为350 sccm，偏压-850 v，频率40 khz，脉宽4 μs，预溅射清洗20～30
8、（3）沉积ti过渡层
9、氩气流量调为60 sccm，连续调整基体偏压为-200~-300 v，频率80 khz，脉宽6 μs，在纯ti靶上加高功率脉冲电源，调节峰值电流为150~300 a，频率100 hz，脉宽450 μs，沉积时间为15 min；
10、（4）沉积tin涂层
11、保持ti靶峰值电流150~300 a，频率100 hz，脉宽500 μs，氩气流量保持60 sccm，通入氮气，氮气流量为10~20 sccm，偏压-120 v，频率40 khz，脉宽12 μs，沉积10800 s。
12、作为一种优选的实施方案，所述步骤（3）中峰值电流为180 a。
13、作为一种优选的实施方案，所述步骤（4）中氮气流量为10 sccm。
14、作为一种优选的实施方案，所述步骤（2）中预溅射清洗时间为20min。
15、本专利技术的有益效果，高功率脉冲磁控溅射技术具有高金属离化率的优点，调控镀膜工艺参数，得到最佳沉积参数，通过构筑中间过渡层，减少界面物理性能突变，提高涂层与基体之间的结合强度，提高涂层的使用可靠性。本专利技术的tin涂层制备工艺简单，涂层表面颜色为金黄色，可用于彩色装饰。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.具有高膜基结合力的TiN涂层，其特征在于，该TiN涂层按照原子质量比包括N 40~50at.% 和Ti 50~60 at.%，厚度为300～500 nm，通过高功率脉冲磁控溅射，先沉积Ti过渡层，后沉积TiN涂层。
2.根据权利要求1所述的具有高膜基结合力的TiN涂层，其特征在于，所述TiN涂层通过以下步骤制得：
3.根据权利要求2所述的具有高膜基结合力的TiN涂层，其特征在于，所述步骤（3）中峰值电流为180 A。
4.根据权利要求2所述的具有高膜基结合力的TiN涂层，其特征在于，所述步骤（4）中氮气流量为10 sccm。
5.根据权利要求2所述的具有高膜基结合力的TiN涂层，其特征在于，所述步骤（2）中预溅射清洗时间为20min。
【技术特征摘要】
1.具有高膜基结合力的tin涂层，其特征在于，该tin涂层按照原子质量比包括n 40~50at.% 和ti 50~60 at.%，厚度为300～500 nm，通过高功率脉冲磁控溅射，先沉积ti过渡层，后沉积tin涂层。
2.根据权利要求1所述的具有高膜基结合力的tin涂层，其特征在于，所述tin涂层通过以下步骤制得：
3....
【专利技术属性】
技术研发人员：鲁晓龙，郝俊英，鲁艳，牟存礼，剡珍，张晓，
申请(专利权)人：中国科学院兰州化学物理研究所，
类型：发明
国别省市：
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