【技术实现步骤摘要】
本申请涉及半导体制造，特别是涉及一种曲线掩模版优化方法、装置、终端、介质及程序产品。
技术介绍
1、光刻是芯片制造过程中的核心工艺。光学系统、掩模版以及光刻胶系统的非线性效应会带来芯片制造过程中的从设计图像到晶圆制造中的转移失真。目前，一般采用opc（optical proximity correction，光学邻近效应修正）技术，基于epe（edge placementerror，边缘位置误差）或者cd（critical dimension，关键尺寸）的目标函数对掩模版版图进行仿真和优化，以最大化地减少半导体制造过程中由于光学等非线性效应造成的图形失真。
2、目前的opc修正方法中，通常的过程是基于曼哈顿图形进行掩膜图形的切分、确定控制点、移动曼哈顿边、迭代判断epe的收敛，得到曼哈顿掩膜。相比于曼哈顿修正，曲线掩模opc修正方法具有更高的自由度，以及更好的opc修正质量。但是自由的曲线掩模版会给掩模制造带来很多难题，并影响掩模版的质量。例如凸角的掩膜图形通常是需要避免的。
技术实现思路
1、鉴于以上所述现有技术的缺点，本申请的目的在于提供一种曲线掩模版优化方法、装置、终端、介质及程序产品，用于解决现有技术中opc修正后的曲线掩膜版质量较低的问题。
2、为实现上述目的及其他相关目的，本申请的第一方面提供一种曲线掩模版优化方法，包括：确定需优化的经opc修正后的曲线掩模版；在所述曲线掩模版的图案边缘上选取多个评估点，并划分为多个评估点组合；对每个评估点组合进
3、于本申请的第一方面的一些实施例中，在所述曲线掩模版的图案边缘上选取多个评估点，并划分为多个评估点组合的方式包括：采用定步长或者变步长的方式，在所述曲线掩膜版的图案的边缘上选取多个点，并将选取的点作为评估点；将每三个连续的评估点划分为一个评估点组合；其中，划分的各评估点组合中的评估点互不重复。
4、于本申请的第一方面的一些实施例中，对每个评估点组合进行基于圆周拟合的优化判断的方式包括：基于每个评估点组合中各评估点的坐标，根据圆的一般方程，计算每个评估点组合的当前半径；根据每个评估点组合的当前半径，基于优化判断规则，判断每个评估点组合是否需要进行优化。
5、于本申请的第一方面的一些实施例中，所述优化判断规则包括：若评估点组合的当前半径小于设定的半径阈值，则判断评估点组合需要进行优化；若评估点组合的当前半径大于设定的半径阈值，则判断评估点组合不需要进行优化。
6、于本申请的第一方面的一些实施例中，对判断为需要进行优化的评估点组合进行最优位置调整，以得到优化曲线掩膜版的方式包括：根据圆的一般方程，对判断为需要进行优化的每个评估点组合进行最优位置调整，以得到所有评估点的最优位置；采用多项式拟合的方式，基于所有评估点的最优位置进行评估点拟合，得到优化曲线掩膜版。
7、于本申请的第一方面的一些实施例中，根据圆的一般方程，对判断为需要进行优化的每个评估点组合进行最优位置调整，其具体过程包括：根据圆的一般方程，对判断为需要进行优化的每个评估点组合进行多次评估点位置调整，直至该评估点组合的当前半径大于设定的半径阈值且该评估点组合对应的当前边缘放置误差满足要求，得到该评估点组合中各评估点的最优位置；其中，每次评估点位置调整包括：沿着曲线的法线向外或沿着曲线的法线向内的方向，对该评估点组合中的一或多个评估点的位置分别进行调整；在位置调整完成后，根据圆的一般方程，计算在本次调整后该评估点组合的当前半径并计算该评估点组合对应的当前边缘放置误差。
8、为实现上述目的及其他相关目的，本申请的第二方面提供一种曲线掩模版优化装置，包括：确定模块，用于确定需优化的经opc修正后的曲线掩模版选取模块，与所述确定模块连接，用于在所述曲线掩模版的图案边缘上选取多个评估点，并划分为多个评估点组合；优化模块，与所述选取模块连接，用于对每个评估点组合进行基于圆周拟合的优化判断，并对判断为需要进行优化的评估点组合进行最优位置调整，以得到优化曲线掩膜版。
9、为实现上述目的及其他相关目的，本申请的第三方面提供一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现所述曲线掩模版优化方法。
10、为实现上述目的及其他相关目的，本申请的第四方面提供一种计算机程序产品，所述计算机程序产品中包括计算机程序代码，当所述计算机程序代码在计算机上运行时，使得所述计算机实现所述曲线掩模版优化方法。
11、为实现上述目的及其他相关目的，本申请的第五方面提供一种电子终端，包括存储器、处理器及存储在存储器上的计算机程序；所述处理器执行所述计算机程序以实现所述曲线掩模版优化方法。
12、如上所述，本申请的曲线掩模版优化方法、装置、终端、介质及程序产品，具有以下有益效果：
13、本申请通过评估点的选择和曲率半径的判断，高效地筛选出需要优化的图形，并通过对评估点位置进行迭代优化，快速地达到了凸角图形优化的目的，得到opc质量更高的掩模版。
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1.一种曲线掩模版优化方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的曲线掩模版优化方法，其特征在于，在所述曲线掩模版的图案边缘上选取多个评估点，并划分为多个评估点组合的方式包括：
3.根据权利要求1所述的曲线掩模版优化方法，其特征在于，对每个评估点组合进行基于圆周拟合的优化判断的方式包括：
4.根据权利要求3所述的曲线掩模版优化方法，其特征在于，所述优化判断规则包括：
5.根据权利要求4所述的曲线掩模版优化方法，其特征在于，对判断为需要进行优化的评估点组合进行最优位置调整，以得到优化曲线掩膜版的方式包括：
6.根据权利要求5所述的曲线掩模版优化方法，其特征在于，根据圆的一般方程，对判断为需要进行优化的每个评估点组合进行最优位置调整，其具体过程包括：
7.一种曲线掩模版优化装置，其特征在于，包括：
8.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，所述计算机程序被处理器执行时实现权利要求1至6中任一项所述方法。
9.一种计算机程序产品，其特征在于，所述计算机程序产品中包括
10.一种电子终端，包括存储器、处理器及存储在存储器上的计算机程序，其特征在于，所述处理器执行所述计算机程序以实现权利要求1至6中任一项所述方法。
...【技术特征摘要】
1.一种曲线掩模版优化方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的曲线掩模版优化方法，其特征在于，在所述曲线掩模版的图案边缘上选取多个评估点，并划分为多个评估点组合的方式包括：
3.根据权利要求1所述的曲线掩模版优化方法，其特征在于，对每个评估点组合进行基于圆周拟合的优化判断的方式包括：
4.根据权利要求3所述的曲线掩模版优化方法，其特征在于，所述优化判断规则包括：
5.根据权利要求4所述的曲线掩模版优化方法，其特征在于，对判断为需要进行优化的评估点组合进行最优位置调整，以得到优化曲线掩膜版的方式包括：
6.根据权利要求5所述的曲线掩模版优化方法，其特征在于，...
【专利技术属性】
技术研发人员：请求不公布姓名，
申请(专利权)人：华芯程杭州科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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