【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种压力传感器。
技术介绍
1、根据受到压力的膜片的挠曲量即位移来输出压力值的压力传感器，由于气体种类依赖性小，因此广泛用于以半导体设备为首的工业用途。在这种压力传感器中，有将膜片的位移作为应变进行检测，并根据检测出的应变输出压力值的应变式。
2、但是，当对膜片施加过大压力时，有时会导致膜片的破损。为了防止该破损，有使用限制膜片的位移的保护机构的技术。即使受到过大压力而膜片大幅位移，膜片也会与保护机构抵接(触底)而限制膜片进一步位移，防止膜片的破损。另外，在设置这种保护机构的情况下，受到过大压力的膜片被按压并紧贴在保护机构上，因此，即使从过大压力中释放，膜片也不会立即从保护机构离开，有时输出会在恢复中产生延迟。
3、为了防止该延迟，在保护机构的被膜片按压的面上离散地形成有多个凸部(专利文献1)。在该技术中，将相邻的凸部之间的通路作为设置于保护机构的通往膜片室的连通孔的周部与保护机构的周端部之间的连通路。
4、现有技术文献
5、专利文献
6、日本专利技术专利公开第2014-071068号公报
技术实现思路
1、专利技术要解决的问题
2、但是，在上述技术中，判明了在膜片被按压在保护机构上时，传感器输出发生变化。
3、本专利技术是为了解决以上那样的问题而完成的，其目的在于，为了防止因过大压力而导致的膜片的破损，抑制膜片被按压在限制膜片的位移的保护机构上时的传感器输出的变化。
4、
5、本专利技术涉及的压力传感器具备：膜片，其能够位移，承受测定对象的流体的压力；应变测量部，其设置于所述膜片的周端部附近，测定所述膜片的应变；保护机构，其在承受了压力的所述膜片位移时，与所述膜片的受压侧的相反侧的面抵接而限制所述膜片的过大位移；以及槽，其设置于比所述应变测量部的形成部位靠内侧的区域的所述应变测量部的附近的保护机构的与膜片相对的面。
6、在上述压力传感器的一个构成例中，在俯视时所述膜片的周向上的所述槽的长度大于在俯视时所述膜片的周向上的所述应变测量部的长度。
7、在上述压力传感器的一个构成例中，还具备多个凸部，所述多个凸部离散地形成在槽的内侧的区域的保护机构的与膜片相对的面。
8、在上述压力传感器的一个构成例中，还具备连接路，所述连接路将多个凸部中的相邻的凸部彼此之间的通路与槽连接。
9、在上述压力传感器的一例构成中，还具备两个膜片室，所述两个膜片室夹着所述膜片而配置，保护机构形成在两个膜片室的与膜片的相对的面上。
10、在上述压力传感器的一个构成例中，膜片分别设置在两个部位，保护机构与各个膜片对应地设置，所述压力传感器还具备：膜片室，其针对各个膜片而设置在受到压力的膜片发生位移的一侧；连通路，其连通所述两个膜片室；以及压力传递物质，其填充在两个膜片室和连通路中，保护机构形成在膜片室的与膜片相对的面上。
11、在上述压力传感器的一例构成中，还具备两个膜片室，所述两个膜片室夹着所述膜片而配置，保护机构形成于两个膜片室的与膜片相对的面上。
12、在上述压力传感器的一个构成例中，膜片分别设置在两个部位，所述保护机构与各个膜片对应地设置，所述压力传感器具备：膜片室，其针对各个膜片而设置在受到压力的膜片发生位移的一侧；连通路，其连通所述膜片室；以及压力传递物质，其填充在膜片室和连通路中，保护机构形成在膜片室的与膜片相对的面上。
13、在上述压力传感器的一个构成例中，多个凸部中的相邻的凸部间的通路是连通连通路与保护机构的周端部之间的通路。
14、专利技术的效果
15、如以上说明，根据本专利技术，在比应变测量部的形成部位更靠内侧的区域的应变测量部的附近的保护机构的与膜片相对的面上设置槽，因此，能够抑制为了防止过大压力导致的膜片的破损而将膜片推抵在限制膜片的位移的保护机构上时的传感器输出的变化。
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1.一种压力传感器，其特征在于，具备：
2.根据权利要求1所述的压力传感器，其特征在于，
3.根据权利要求1或2所述的压力传感器，其特征在于，
4.根据权利要求3所述的压力传感器，其特征在于，
5.根据权利要求1或2所述的压力传感器，其特征在于，
6.根据权利要求1或2所述的压力传感器，其特征在于，
7.根据权利要求3所述的压力传感器，其特征在于，
8.根据权利要求3所述的压力传感器，其特征在于，
9.根据权利要求8所述的压力传感器，其特征在于，
【技术特征摘要】
1.一种压力传感器，其特征在于，具备：
2.根据权利要求1所述的压力传感器，其特征在于，
3.根据权利要求1或2所述的压力传感器，其特征在于，
4.根据权利要求3所述的压力传感器，其特征在于，
5.根据权利要求1或2所述的压力...
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