【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及工艺数据处理相关，具体涉及一种用于优化纳米薄膜制备工艺的方法及系统。
技术介绍
1、纳米薄膜是指由尺寸为纳米数量级（1~100nm）的组元镶嵌于基体所形成的薄膜材料，兼具传统复合材料和现代纳米材料二者的优越性，在多个领域具有广泛的应用前景，例如，纳米硅晶薄膜具有热稳定性好、光的吸收能力强、掺杂效应高、高温电导率可在大范围内变化等优点，因此在传感器、光电磁器件及其他薄膜微电子器件中有着广阔的应用前景。
2、纳米薄膜还可用于光学器件材料、微芯片导热基片与布线材料、微电子封装材料及太阳能电池材料等，工艺参数优化是提高纳米薄膜制备质量和生产效率的关键环节，但在现有技术中，纳米薄膜制备工艺参数优化的多依赖于经验函数模型，导致的生产效率不高，薄膜制备成品不佳的技术问题。
3、综上所述，现有技术中存在纳米薄膜制备工艺参数难以精确调控，使得制备所得的薄膜均匀性不佳的技术问题。
技术实现思路
1、本申请通过提供了一种用于优化纳米薄膜制备工艺的方法及系统，旨在解决现有技术中的纳米薄膜制备工艺参数难以精确调控，使得制备所得的薄膜均匀性不佳的技术问题。
2、鉴于上述问题，实现本申请的技术方案是：
3、本申请的第一个方面，提供了一种用于优化纳米薄膜制备工艺的方法，其中，所述方法包括：建立生产数据集，其中，所述生产数据集包括公开生产数据集和加密生产数据集，且所述生产数据集中的每个数据均带有与目标制备薄膜的数据关联度；
4、将所述生产数据
5、向所述可信处理端发送工艺参数的评价指令，在所述基础寻优空间内进行工艺参数关键评价，并接收由可信处理端反馈的评价结果，进行特征降维，建立关键工艺参数；
6、向可信处理端发送同步请求，根据请求响应结果获取标记基础寻优空间，其中，所述标记基础寻优空间与所述基础寻优空间相对应，且标记基础寻优空间内存储有公开数据和未公开编号，所述未公开编号为加密数据的唯一映射编号；
7、以需求薄膜特性和关键工艺参数建立适应度函数，并将标记基础寻优空间作为基础搜索空间，将变异寻优空间作为附加搜索空间，在设定搜索概率后，基于适应度函数和未公开编号执行迭代寻优搜索；
8、根据迭代寻优搜索结果建立解空间，并以所述解空间进行生产控制，并接收控制反馈，以控制反馈结果更新解空间，根据更新结果完成工艺优化。
9、本申请的第二个方面，提供了一种用于优化纳米薄膜制备工艺的系统，其中，所述系统包括：数据集建立单元，用于建立生产数据集，其中，所述生产数据集包括公开生产数据集和加密生产数据集，且所述生产数据集中的每个数据均带有与目标制备薄膜的数据关联度；
10、聚类划分单元，用于将所述生产数据集同步至可信处理端，并依据数据关联度和数据可信度进行数据聚类划分，建立基础寻优空间和变异寻优空间；
11、特征降维单元，用于向所述可信处理端发送工艺参数的评价指令，在所述基础寻优空间内进行工艺参数关键评价，并接收由可信处理端反馈的评价结果，进行特征降维，建立关键工艺参数；
12、寻优空间获取单元，用于向可信处理端发送同步请求，根据请求响应结果获取标记基础寻优空间，其中，所述标记基础寻优空间与所述基础寻优空间相对应，且标记基础寻优空间内存储有公开数据和未公开编号，所述未公开编号为加密数据的唯一映射编号；
13、寻优搜索单元，用于以需求薄膜特性和关键工艺参数建立适应度函数，并将标记基础寻优空间作为基础搜索空间，将变异寻优空间作为附加搜索空间，在设定搜索概率后，基于适应度函数和未公开编号执行迭代寻优搜索；
14、生产控制单元，用于根据迭代寻优搜索结果建立解空间，并以所述解空间进行生产控制，并接收控制反馈，以控制反馈结果更新解空间，根据更新结果完成工艺优化。
15、综上，本申请中提供的一个或多个技术方案，解决了纳米薄膜制备工艺参数难以精确调控，使得制备所得的薄膜均匀性不佳的技术问题，通过进行参数采集，并以辅助人工智能进行参数分析，结合关键工艺参数的确定，在减少计算量的基础上，保障寻优效果，进而使得构建的寻优效果更加准确，并通过联动传感器的实时监控，保障工艺参数精确执行，实现了制备工艺优化，从而提升制备所得的薄膜均匀性的技术效果。
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1.一种用于优化纳米薄膜制备工艺的方法，其特征在于，所述方法包括：
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述以需求薄膜特性和关键工艺参数建立适应度函数，并将标记基础寻优空间作为基础搜索空间，将变异寻优空间作为附加搜索空间，在设定搜索概率后，基于适应度函数和未公开编号执行迭代寻优搜索，包括：
3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述通过搜索概率进行基础搜索空间和附加搜索空间的搜索判定，还包括：
4.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述若搜索判定结果为基础搜索空间时，则随机选中基础搜索空间内的参数，进行微调扩充，包括：
5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，接收由可信处理端反馈的评价结果，进行特征降维，包括：
6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述以控制反馈结果更新解空间，包括：
7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述判断所述控制反馈结果的偏离值是否满足预设阈值，包括：
8.一种用于优化纳米薄膜制备工艺的系统，其特征在于，所述系统包括：
【技术特征摘要】
1.一种用于优化纳米薄膜制备工艺的方法，其特征在于，所述方法包括：
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述以需求薄膜特性和关键工艺参数建立适应度函数，并将标记基础寻优空间作为基础搜索空间，将变异寻优空间作为附加搜索空间，在设定搜索概率后，基于适应度函数和未公开编号执行迭代寻优搜索，包括：
3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述通过搜索概率进行基础搜索空间和附加搜索空间的搜索判定，还包括：
4.如权利要求2所述的方法，其特征在于...
【专利技术属性】
技术研发人员：朱薇，
申请(专利权)人：朔韦茨环境科技江苏有限公司，
类型：发明
国别省市：
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