一种定位啁啾相位掩模板周期的装置制造方法及图纸

本技术公开一种定位啁啾相位掩模板周期的装置，包括248nm的准分子激光器，准分子激光器的下方从左到右依次设置有反射镜、宽度可调光阑、准直扩束光路、聚焦柱透镜、变迹光阑、带刻度的啁啾相位掩模板，待刻写的光纤，啁啾相位掩模板的右侧设置有待刻写的光纤，所述准分子激光器发出的紫外光斑依次经过反射镜、可调光阑、准直扩束光路、聚焦柱透镜、变迹光阑、照到啁啾相位掩模板上面，该光路用于定位啁啾相位掩模板的周期，本技术以啁啾相位掩模板的中心位置为参考点，根据待刻写光纤的参数要求，计算出所需要的周期,以及该周期在啁啾相位掩膜板的相对位置，然后直接让紫外光斑打在计算出的啁啾相位掩模板的位置，从而精准定位。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及啁啾光纤光栅，尤其涉及一种定位啁啾相位掩模板周期的装置。

技术介绍

1、啁啾光纤光栅（cfbg）作为色散补偿器，在超快激光器、可调锁模外腔半导体激光器、光纤光栅传感解调技术等领域有着重要的用途。随着超快激光器领域的飞速发展，对啁啾光纤光栅的色散补偿要求越来越高，对啁啾光纤光栅的各种性能参数也都提出了更高的要求。

2、相位掩模法是目前主流的适用于大批量光纤光栅制备的方法，其主要是利用紫外光透过相位掩模板后的±1级衍射光形成的干涉光对光纤进行曝光，使纤芯折射率发生改变，从而写入光栅。利用啁啾相位掩模板的非均匀周期，使光纤的纤芯折射率的周期沿光纤轴向逐渐发生变化，使啁啾光纤光栅轴向不同位置反射不同波长的入射光，从而形成啁啾光纤光栅。

3、由于啁啾相位掩模板周期的非均匀性，通过相位掩模板不同位置时，对光纤纤芯折射率的改变是不同的，从而形成不同的波长。光纤光栅的制备过程中需要对各种参数精准把制，目前利用啁啾相位掩模板刻写啁啾光纤光栅时，需要通过让紫外光斑照在啁啾相位掩模板的不同位置，多次刻写啁啾光纤光栅，得到不同位置的光纤光栅参数，从而估算啁啾相位掩膜板不同位置的周期，粗略推测出紫外光斑应该照在相位板的位置。因此，为了得到具体的波长，该方法需要进行多次光纤光栅的试刻写才能达到与实际需求波长的高度拟合。

技术实现思路

1、本技术目的在于针对现有技术的不足，提供一种定位啁啾相位掩模板周期的装置，包括248nm的准分子激光器，所述准分子激光器的下方从左到右依次设置有反射镜、宽度可调光阑、准直扩束光路、聚焦柱透镜、变迹光阑、带刻度的啁啾相位掩模板，待刻写的光纤，所述啁啾相位掩模板的右侧设置有待刻写的光纤，所述准分子激光器发出的紫外光斑依次经过反射镜、可调光阑、准直扩束光路、聚焦柱透镜、变迹光阑、照到啁啾相位掩模板上面，该光路用于定位啁啾相位掩模板的周期。

2、优选地，所述啁啾相位掩模板包括透明衬底，所述透明衬底上开设有多个不透明凹槽，透明衬底的边缘开设有mm级刻度标注，该刻度以啁啾相位掩模板中心为零点，向左右两边均匀分布。

3、优选地，所述啁啾相位掩模板的周期与边缘刻度标注呈线性等比例分布。

4、优选地，所述啁啾相位掩模板为任意规格、类型的相位掩模板。

5、优选地，计算紫外光斑打在所述啁啾相位掩模板位置周期的计算公式如下：2nλ={(z2-z0)*c}+λ0=λ2，其中，λ0为啁啾相位掩模板中心位置的波长，n为光纤纤芯的有效折射率， c为啁啾相位掩膜板的啁啾率，z2为紫外光斑打在啁啾相位掩模板的相对位置，λ2为紫外光斑所在位置的波长，λ为紫外光打在啁啾相位掩模板位置的周期。

6、与现有技术相比，本技术的有益效果为：

7、1 、能够满足任意规格、类型的啁啾相位掩模板周期的定位。

8、2 、以啁啾相位掩模板的中心位置为参考点，根据待刻写光纤的参数要求，计算出所需要的周期,以及该周期在啁啾相位掩膜板的相对位置，然后直接让紫外光斑打在计算出的啁啾相位掩模板的位置，从而精准定位。

9、3、无需多次试验啁啾相位掩模板不同位置的周期与波长，根据待刻写啁啾光纤光栅的参数需求，计算出紫外光斑需要打在掩模板的具体位置，提高了啁啾光纤光栅的刻写效率。

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【技术保护点】

1.一种定位啁啾相位掩模板周期的装置，其特征在于：包括248nm的准分子激光器，所述准分子激光器的下方从左到右依次设置有反射镜、宽度可调光阑、准直扩束光路、聚焦柱透镜、变迹光阑、带刻度的啁啾相位掩模板，待刻写的光纤，所述啁啾相位掩模板的右侧设置有待刻写的光纤，所述准分子激光器发出的紫外光斑依次经过反射镜、可调光阑、准直扩束光路、聚焦柱透镜、变迹光阑、照到啁啾相位掩模板上面，该光路用于定位啁啾相位掩模板的周期。

2.根据权利要求1所述的一种定位啁啾相位掩模板周期的装置，其特征在于：所述啁啾相位掩模板包括透明衬底，所述透明衬底上开设有多个不透明凹槽，透明衬底的边缘开设有mm级刻度标注，该刻度以啁啾相位掩模板中心为零点，向左右两边均匀分布。

3.根据权利要求2所述的一种定位啁啾相位掩模板周期的装置，其特征在于：所述啁啾相位掩模板的周期与边缘刻度标注呈线性等比例分布。

4.根据权利要求3所述的一种定位啁啾相位掩模板周期的装置，其特征在于：所述啁啾相位掩模板为任意规格、类型的相位掩模板。

5.根据权利要求4所述的一种定位啁啾相位掩模板周期的装置，其特征在于：计算紫外光斑打在所述啁啾相位掩模板位置周期的计算公式如下：2nΛ={(z2-z0)*C}+λ0=λ2，其中，λ0为啁啾相位掩模板中心位置的波长，n为光纤纤芯的有效折射率， C为啁啾相位掩膜板的啁啾率，Z2为紫外光斑打在啁啾相位掩模板的相对位置，λ2为紫外光斑所在位置的波长，Λ为紫外光打在啁啾相位掩模板位置的周期。

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【技术特征摘要】

1.一种定位啁啾相位掩模板周期的装置，其特征在于：包括248nm的准分子激光器，所述准分子激光器的下方从左到右依次设置有反射镜、宽度可调光阑、准直扩束光路、聚焦柱透镜、变迹光阑、带刻度的啁啾相位掩模板，待刻写的光纤，所述啁啾相位掩模板的右侧设置有待刻写的光纤，所述准分子激光器发出的紫外光斑依次经过反射镜、可调光阑、准直扩束光路、聚焦柱透镜、变迹光阑、照到啁啾相位掩模板上面，该光路用于定位啁啾相位掩模板的周期。

2.根据权利要求1所述的一种定位啁啾相位掩模板周期的装置，其特征在于：所述啁啾相位掩模板包括透明衬底，所述透明衬底上开设有多个不透明凹槽，透明衬底的边缘开设有mm级刻度标注，该刻度以啁啾相位掩模板中心为零点，向左右两边均匀分布。

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【专利技术属性】
技术研发人员：魏韦，张菲菲，
申请(专利权)人：南京聚科光电技术有限公司，
类型：新型
国别省市：