一种可防止晶圆摔跌的翻转机构制造技术

技术编号:42927179 阅读:1 留言:0更新日期:2024-10-11 15:52
本技术公开了晶圆翻转机构技术领域的一种可防止晶圆摔跌的翻转机构,包括旋转平台、伺服电机、第一限位模组及第二限位模组,第一限位模组和第二限位模组均包括第一活动板、第一治具板、第一升降气缸、第二活动板、第二治具板以及第二升降气缸,第二治具板开设有定位槽,第一治具板设有呈凸起状的定位部,第一治具板开设有第一凹槽,第二治具板开设有第二凹槽,一方面仅通过伺服电机即可实现多个晶圆的翻面,另一方面定位部与定位槽能够使其闭合时限位槽间隙大小不会发生改变,实现防过压的效果,确保晶圆在定位时的安全,且晶圆与第一治具板及第二治具板的接触方式为线接触,而非面接触,因此能够避免第一治具板及第二治具板二次污染晶圆。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及晶圆翻转机构,具体为一种可防止晶圆摔跌的翻转机构


技术介绍

1、集成电路产业是信息技术产业的核心,在助推制造业向数字化、智能化转型升级的过程中发挥着关键作用,芯片是集成电路的载体,芯片制造涉及集成电路设计、晶圆制造、晶圆加工、电性测量、切割封装和测试等工艺流程,在晶圆的制备过程中,晶圆在不断加工成形及抛光处理的过程中,由于与各种有机物、粒子及金属杂质等污染物接触,导致污染物附着在晶圆上,因此需要对晶圆进行清洗,以保证晶圆在整个过程无异物污染而导致的生产良率降低;

2、晶圆清洗是晶圆制造过程中的一个重要的工艺步骤,需要在不破坏晶圆表面特性及电特性的前提下有效地使用化学溶液或气体清除残留在晶圆表面的杂质,在晶圆清洗工艺流程中,当晶圆一面清洗完毕后需要对其进行翻转以备另一面的清洗,故存在对晶圆进行翻转的需求;

3、若想要实现晶圆正反面的清洗则需要在每道清洗工序之前对晶圆整体进行翻转,从而实现晶圆的翻面,而在晶圆翻转过程中,既需要保证晶圆的放置和定位精度,同时也要对晶圆进行防护,防止晶圆碎裂及不被翻转机构二次污染;

4、然而现有晶圆清洗工艺流程中,晶圆翻转机构通常采用负压吸附的方式进行单片晶圆的翻转,由于负压吸附设备结构复杂、负压管路难以管理和维护,且单片翻转的效率较低,虽然目前针对负压吸附式单片翻转机构的不足设计出了能够多个晶圆翻转的机构,但该结构极为复杂,同时依然存在翻转过程中容易因真空泄露或者异常从而导致晶圆跌落而破碎的问题,另外,负压附件晶圆时,真空治具与晶圆的表面进行接触,存在晶圆表面被真空治具二次污染的可能性,使用效果较差。


技术实现思路

1、为了克服现有技术方案的不足,本技术提供一种可防止晶圆摔跌的翻转机构,能有效的解决目前晶圆翻转机构为实现多个晶圆翻转而设计的机构极为复杂,同时依然存在翻转过程中容易因真空泄露或者异常从而导致晶圆跌落而破碎的问题,另外,负压附件晶圆时,真空治具与晶圆的表面进行接触,存在晶圆表面被真空治具二次污染的可能性,导致使用效果较差的技术问题。

2、本技术解决其技术问题所采用的技术方案是:一种可防止晶圆摔跌的翻转机构,包括安装架,所述安装架的前端设有与之非固定连接的旋转平台,安装架的背部设有用于驱动所述旋转平台做180度翻转运动的伺服电机,所述旋转平台的前端设有呈上下间隔分布的第一限位模组和第二限位模组;

3、所述第一限位模组和第二限位模组均包括第一活动板、与第一活动板固定连接的若干个第一治具板、用于驱动第一活动板做上下升降运动的第一升降气缸、第二活动板、与第二活动板固定连接的若干个第二治具板以及用于驱动第二活动板做上下升降运动第二升降气缸;

4、所述第一治具板与第二治具板相向设置,第二治具板开设有定位槽,第一治具板设有呈凸起状的定位部,所述定位部与所述定位槽的结构形状相互吻合,所述第一治具板开设有第一凹槽,第二治具板开设有第二凹槽,所述第一凹槽与第二凹槽组合形成限位槽。

5、优选地,所述旋转平台的前端设有呈上下等间距分布的第一遮尘板、第二遮尘板及第三遮尘板,所述第一限位模组设于第一遮尘板与第二遮尘板之间,所述第二限位模组设于第二遮尘板与第三遮尘板之间。

6、优选地,所述第一遮尘板、第二遮尘板及第三遮尘板均设有用于与旋转平台相互连接的安装架,每个所述安装架均设有感应传感器。

7、优选地,所述旋转平台的一端成型有第一安装部,旋转平台远离第一安装部的一端成型有第二安装部,所述第一安装部和第二安装部的前端均设有与之固定连接的气缸安装板,所述第一升降气缸与第二升降气缸左右间隔安装于气缸安装板的端面上。

8、优选地,所述第一治具板接近第一凹槽的一端设有第一斜面,所述第二治具板接近第二凹槽的一端设有第二斜面。

9、与现有技术相比,本技术的有益效果是:

10、通过在安装架的背部设置用于驱动旋转平台做180度翻转运动的伺服电机以及在旋转平台的前端设置呈上下间隔分布的第一限位模组和第二限位模组,因此,仅通过伺服电机即可实现多个晶圆的翻面,通过在第二治具板开设定位槽,在第一治具板设置呈凸起状的定位部,在第一活动板与第二活动板张开状态时,将晶圆放置在第一治具板与第二治具板之间,之后第二升降气缸驱动第二活动板下降一段距离直至定位部与定位槽闭合,该方式使得第一凹槽与第二凹槽所组成的限位槽间隙大小不会发生改变,从而实现防过压的效果,确保晶圆在定位时的安全,并且晶圆与第一治具板及第二治具板的接触方式为线接触,而非面接触,因此能够避免第一治具板及第二治具板二次污染晶圆。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种可防止晶圆摔跌的翻转机构,包括安装架,其特征在于,所述安装架的前端设有与之非固定连接的旋转平台,安装架的背部设有用于驱动所述旋转平台做180度翻转运动的伺服电机,所述旋转平台的前端设有呈上下间隔分布的第一限位模组和第二限位模组;

2.根据权利要求1所述的一种可防止晶圆摔跌的翻转机构,其特征在于,所述旋转平台的前端设有呈上下等间距分布的第一遮尘板、第二遮尘板及第三遮尘板,所述第一限位模组设于第一遮尘板与第二遮尘板之间,所述第二限位模组设于第二遮尘板与第三遮尘板之间。

3.根据权利要求2所述的一种可防止晶圆摔跌的翻转机构,其特征在于,所述第一遮尘板、第二遮尘板及第三遮尘板均设有用于与旋转平台相互连接的安装架,每个所述安装架均设有感应传感器。

4.根据权利要求1所述的一种可防止晶圆摔跌的翻转机构,其特征在于,所述旋转平台的一端成型有第一安装部,旋转平台远离第一安装部的一端成型有第二安装部,所述第一安装部和第二安装部的前端均设有与之固定连接的气缸安装板,所述第一升降气缸与第二升降气缸左右间隔安装于气缸安装板的端面上。

5.根据权利要求1所述的一种可防止晶圆摔跌的翻转机构,其特征在于,所述第一治具板接近第一凹槽的一端设有第一斜面,所述第二治具板接近第二凹槽的一端设有第二斜面。

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【技术特征摘要】

1.一种可防止晶圆摔跌的翻转机构,包括安装架,其特征在于,所述安装架的前端设有与之非固定连接的旋转平台,安装架的背部设有用于驱动所述旋转平台做180度翻转运动的伺服电机,所述旋转平台的前端设有呈上下间隔分布的第一限位模组和第二限位模组;

2.根据权利要求1所述的一种可防止晶圆摔跌的翻转机构,其特征在于,所述旋转平台的前端设有呈上下等间距分布的第一遮尘板、第二遮尘板及第三遮尘板,所述第一限位模组设于第一遮尘板与第二遮尘板之间,所述第二限位模组设于第二遮尘板与第三遮尘板之间。

3.根据权利要求2所述的一种可防止晶圆摔跌的翻转机构,其特征在于,所...

【专利技术属性】
技术研发人员:江永
申请(专利权)人:广东凯迪微智能装备有限公司
类型:新型
国别省市:

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