【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开涉及培养装置及培养系统。
技术介绍
1、以往，已知有对细胞、微生物等培养物进行培养的培养装置(培养箱)(例如，参照专利文献1、专利文献2)。
2、在专利文献1所记载的培养装置的培养室中，在上侧、下侧、前侧及后侧分别设置有上部空间、下部空间、正面空间及背面空间。在背面空间配置有使该背面空间内的空气在培养室内沿水平方向流动的循环风扇。在壳体的右侧面壁部上配置有检测培养室的湿度的湿度传感器。
3、专利文献2所记载的培养装置具备通过使过氧化氢气体在培养室内循环来进行该培养室内的杀菌的气体产生器。
4、现有技术文献
5、专利文献
6、专利文献1：日本特开2017-77208号公报
7、专利文献2：日本特开2010-17151号公报
技术实现思路
1、专利技术要解决的问题
2、在专利文献1所记载的培养装置中，需要使培养室定期成为无菌状态。因此，可以考虑使用专利文献2所记载的气体产生器来进行培养室的除污。但是，如果湿度传感器暴露在过氧化氢气体中，则有可能导致湿度传感器功能降低或发生故障。为了防止这样的不良情况，可以考虑在将湿度传感器从培养室拆卸下来后，进行培养室的除污，但在这种情况下，有可能出现在培养室外受到污染的湿度传感器被安装到经过除污的培养室内的情况，并且有可能因拆卸下来而发生丢失或由掉落造成的故障。另外，可以考虑利用对湿度传感器不产生不良影响的低浓度的过氧化氢气体来进行培养室的除污，但在这种情况下，
3、本公开的目的在于，提供一种能够不对湿度传感器造成不良影响地适宜地进行培养室的除污的培养装置及培养系统。
4、解决问题的方案
5、本公开的培养装置具备：
6、壳体，具有培养室；
7、湿度传感器，检测培养室的湿度；
8、保护部件，防止湿度传感器向培养室露出；以及
9、控制装置，控制对培养室进行除污的除污装置，
10、在由保护部件将湿度传感器向培养室的露出防止住的情况下，控制装置使除污装置进行除污，而在湿度传感器向培养室露出的情况下，控制装置不使除污装置进行除污。
11、本公开的培养系统具备培养装置和除污装置，
12、培养装置具有壳体、湿度传感器、保护部件和控制装置，该壳体具有培养室，该湿度传感器检测培养室的湿度，该保护部件防止湿度传感器向培养室露出，
13、除污装置对培养室进行除污，
14、在由保护部件将湿度传感器向培养室的露出防止住的情况下，控制装置使除污装置进行除污，而在湿度传感器向培养室露出的情况下，控制装置不使除污装置进行除污。
15、专利技术效果
16、根据本公开的培养装置及培养系统，能够不对湿度传感器造成不良影响地适宜地进行培养室的除污。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种培养装置，其特征在于，具备：
2.如权利要求1所述的培养装置，其中，
3.如权利要求2所述的培养装置，其中，
4.如权利要求3所述的培养装置，其中，
5.如权利要求2～4中任一项所述的培养装置，其中，
6.如权利要求1～5中任一项所述的培养装置，其中，
7.如权利要求6所述的培养装置，其中，
8.如权利要求7所述的培养装置，其中，
9.一种培养系统，其特征在于，
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种培养装置，其特征在于，具备：
2.如权利要求1所述的培养装置，其中，
3.如权利要求2所述的培养装置，其中，
4.如权利要求3所述的培养装置，其中，
5.如权利要求2～4中任一项...
【专利技术属性】
技术研发人员：佐藤正和，吉田圭织，樋富嗣正，太田章博，
申请(专利权)人：普和希控股公司，
类型：发明
国别省市：
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