【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及温控设备，特别涉及一种设备面壳及其成型工艺和温控器。
技术介绍
1、温控器是根据工作环境的温度变化，在开关内部发生物理形变，从而产生某些特殊效应，产生导通或者断开动作的一系列自动控制元件，电子原件在不同温度下，工作状态的不同原理来给电路提供温度数据，以供电路采集温度数据。卫浴电器中的电热毛巾架或取暖器等都需要通过温控器对其温度进行控制，其中，嵌入式温控器以其能够与应用产品紧凑结合、占用空间少而受到广大用户认可。嵌入式温控器在安装状态下只有面壳会外露于外界环境，面壳上设有显示界面和触控按键，以供用户读取温控器的运行情况以及输入控制指令。面壳的外表面通常覆盖有装饰膜来提高装饰效果并实现对显示界面和触控按键的防水保护作用，但现有技术中面壳覆膜后透光性较差并且容易粘附水珠，导致显示界面的显示效果较差，触控按键容易受水珠影响而不灵敏或被误触，影响温控器的使用效果。
技术实现思路
1、本专利技术的主要目的是提出一种设备面壳的成型工艺，旨在解决如何提高设备面壳的显示效果和使用效果的技术问题。
2、为实现上述目的，本专利技术提出的设备面壳的成型工艺包括：
3、提供薄膜基材，其中，所述薄膜基材为纳米多层层叠膜，所述纳米多层层叠膜利用纳米层压技术通过控制各层厚度产生干涉、且各层等间隔分布形成；
4、将薄膜基材放入成型模具中进行热压预成型，以获得所述设备面壳所需的形状；
5、将薄膜基材放入下料模具中冲切多余的片材；
6、将薄膜基材
7、可选地，所述将薄膜基材放入注塑模具中进行定位并注塑的步骤中，注塑温度设置为150℃至280℃。
8、可选地，所述将薄膜基材放入注塑模具中进行定位并注塑的步骤中，注塑压力设置为50mpa至100mpa。
9、可选地，所述将薄膜基材放入预成型模具中进行热压预成型的步骤包括：对薄膜基材进行真空高压成型，其中，薄膜基材的温度设置为180℃至230℃，真空压力设置为0.4mpa至0.6mpa。
10、可选地，所述对薄膜基材进行真空高压成型的步骤之后，还包括：对薄膜基材进行预压成型，其中，预压成型模具的温度设置为60℃至100℃。
11、可选地，所述对薄膜基材进行预压成型的步骤中，成型压力设置为2.0mpa至2.5mpa，保压时间设置为10s至15s。
12、可选地，所述将薄膜基材放入成型模具中进行热压预成型的步骤之前，还包括：
13、在所述薄膜基材的一表面的预设位置形成一印刷层。
14、可选地，所述将薄膜基材放入成型模具中进行热压预成型的步骤之前，还包括：
15、在所述薄膜基材的另一表面形成一硬化层。
16、本专利技术还提出一种设备面壳，所述设备面壳采用如上所述的设备面壳的成型工艺制成。
17、本专利技术还提出一种温控器，该温控器包括壳体，所述壳体包括如上所述的设备面壳。
18、本专利技术设备面壳的成型工艺的技术方案中，将装饰膜与塑胶注塑层通过膜内装饰工艺注塑连接，可简化设备面壳的成型过程，提高成型效率；将装饰膜的薄膜基材设置为纳米多层层叠膜，纳米多层层叠膜不仅可塑性强且还可以与树脂等注塑材料浇注形成复合构件。纳米多层层叠膜利用纳米层压技术，通过控制层压设备及聚合物流变学在纳米级别上高精度地控制薄膜各层厚度，每一层的厚度并不相同而是一端薄一端厚，数百层厚度的薄膜可每层进行精确设计，据此实现“波长选择性”，可根据需要控制因光干涉反射现象引起的反射及透射波段，当层达到一定厚度时会由于光线的干涉现象而出现颜色，采用等间隔分布时所有的可视光均可均匀反射，因此在不含有任何金属的情况下呈现金属光泽。纳米多层层叠膜的透光率较高，对穿过的光线影响较小，可保证设备面壳所应用的设备内部的光源穿出设备壳体的出光效果。再者，纳米多层层叠膜具有较佳的疏水性能，在潮湿环境不容易粘附水珠，可减少水分对安装在设备面壳上的触控按键的影响，从而可提高设备壳体的显示效果和使用效果。此外，纳米多层层叠膜还具有优异的电磁波透磁性，高电磁波渗透性增强了电气和电子组件的设计自由空间，而不会干扰通信模块的天线功能。
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1.一种设备面壳的成型工艺，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的设备面壳的成型工艺，其特征在于，所述将薄膜基材放入注塑模具中进行定位并注塑的步骤中，注塑温度设置为150℃至280℃。
3.如权利要求1所述的设备面壳的成型工艺，其特征在于，所述将薄膜基材放入注塑模具中进行定位并注塑的步骤中，注塑压力设置为50MPA至100MPA。
4.如权利要求1所述的设备面壳的成型工艺，其特征在于，所述将薄膜基材放入预成型模具中进行热压预成型的步骤包括：对薄膜基材进行真空高压成型，其中，薄膜基材的温度设置为180℃至230℃，真空压力设置为0.4Mpa至0.6Mpa。
5.如权利要求4所述的设备面壳的成型工艺，其特征在于，所述对薄膜基材进行真空高压成型的步骤之后，还包括：对薄膜基材进行预压成型，其中，预压成型模具的温度设置为60℃至100℃。
6.如权利要求5所述的设备面壳的成型工艺，其特征在于，所述对薄膜基材进行预压成型的步骤中，成型压力设置为2.0MPa至2.5MPa，保压时间设置为10s至15s。
7.如权利要求
8.如权利要求7所述的设备面壳的成型工艺，其特征在于，所述将薄膜基材放入成型模具中进行热压预成型的步骤之前，还包括：
9.一种设备面壳，其特征在于，所述设备面壳采用如权利要求1至8任一项所述的设备面壳的成型工艺制成。
10.一种温控器，其特征在于，包括壳体，所述壳体包括如权利要求9所述的设备面壳。
...【技术特征摘要】
1.一种设备面壳的成型工艺，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的设备面壳的成型工艺，其特征在于，所述将薄膜基材放入注塑模具中进行定位并注塑的步骤中，注塑温度设置为150℃至280℃。
3.如权利要求1所述的设备面壳的成型工艺，其特征在于，所述将薄膜基材放入注塑模具中进行定位并注塑的步骤中，注塑压力设置为50mpa至100mpa。
4.如权利要求1所述的设备面壳的成型工艺，其特征在于，所述将薄膜基材放入预成型模具中进行热压预成型的步骤包括：对薄膜基材进行真空高压成型，其中，薄膜基材的温度设置为180℃至230℃，真空压力设置为0.4mpa至0.6mpa。
5.如权利要求4所述的设备面壳的成型工艺，其特征在于，所述对薄膜基材进行真空高压成型的步骤之后，还包括：对薄...
【专利技术属性】
技术研发人员：杜鹏杰，
申请(专利权)人：佛山市联米科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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